目标专利:1365移除半导体发光器件的生长基板的方法
专利公开号:CN101194373B
专利权人:皇家飞利浦电子股份有限公司
无效请求书提交日期:2026年
非显而易见性评估仅供参考,不构成法律建议。
| 编号 | 名称 |
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| 0 | 2005-01-13_US2005006754A_发明申请_US20050006754A1 ELECTRONIC DEVICES AND METHODS FOR MAKING SAME USING NANOTUBE REGIONS TO ASSIST IN THERMAL HEAT-SINKING_+++A_B_C_K_L_M_T_U_V_W+++.docx |
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| 0 | 2005-04-14_JP3108534U_实用新型_JP3108534U Insect dishwasher colander with ventilation network.docx |
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| 0 | 2005-05-31_US6901503B_发明授权_US06901503B2 Data processing circuits and interfaces.docx |
| 0 | 2008-02-07_None_发明专利_JPWO2005091280A1 光学素子、光ピックアップ及び光情報記録再生装置.docx |
| 0 | 2010-01-28_None_发明专利_JPWO2008038391A1 半導体集積装置及び半導体集積装置の消費電力平準化方法.docx |
| 0 | DE69406964T2_Description_20260712_1549_+++A_B_L_T_Z+++.docx |
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| 0 | 1994-12-27_US5376580A_发明授权_US5376580A Wafer bonding of light emitting diode layers_+++A_B_L_Z+++.docx |
| 0 | 1996-05-28_None_发明专利_JPH08134625A Method for forming titanium sheet.docx |
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| 0 | 1999-09-13_JP2947099B_发明专利_JP2947099B2 Molding method of titanium sheet.docx |
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| 0 | 2002-02-12_US6346165B_发明授权_US06346165B1 Method for production of lignocellulosic composite materials.docx |
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一种移除生长基板的方法,包括提供在所述生长基板(10)上生长的半导体结构(110);该半导体结构包括置于n型区和p型区之间的发光层;通过至少一个导电互连(42)将该半导体结构(110)附着到载体(30);在该半导体结构(110)和该载体(30)之间的空腔中引入电绝缘底部填料(44);其中该底部填料(44)通过填充半导体结构、载体和至少一个互连(42)之间的间隙而提供对该半导体结构(110)的刚性支撑;以及通过激光解离移除该生长基板(10)。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中引入底部填料包括将液态底部填料材料置于载体 and 半导体结构之间;以及使该液态底部填料材料固化以形成对该半导体结构的刚性支撑。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中引入底部填料包括在附着之前在半导体结构和载体中的一个上形成刚性底部填料层;以及在该刚性底部填料层中形成至少一个开口,用于该至少一个互连。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,进一步包括,在将半导体结构附着到载体之前蚀刻掉p型区和有源区的一部分,以暴露一部分n型区;以及形成与n型区的暴露部分电气连接的n接触和与p型区电气连接的p接触。
如权利要求4所述的移除生长基板的方法,其中该至少一个互连将在该载体上形成的金属层连接到n接触和p接触中的一个。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该至少一个互连耦合到半导体结构的底部表面;以及该半导体结构的顶部表面离开该载体的顶部表面的距离小于50微米。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该底部填料包括有机材料。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该底部填料包括无机材料。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该底部填料包括环氧树脂。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该底部填料包括硅树脂。
如权利要求10所述的移除生长基板的方法,进一步包括置于硅树脂中的无机材料颗粒。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该至少一个互连包括金;以及附着包括通过超声焊接进行附着。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该至少一个互连包括焊料。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该半导体结构是III-氮化物结构,并且该生长基板是蓝宝石;以及移除包括通过激光解离进行移除。
如权利要求14所述的移除生长基板的方法,其中通过激光解离进行移除包括使用激光扫描该生长基板的表面。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中移除包括通过蚀刻进行移除。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,进一步包括,在移除该生长基板之后使该半导体结构变薄。
如权利要求17所述的移除生长基板的方法,其中变薄包括,蚀刻到置于该半导体结构中的蚀刻停止层。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,进一步包括使通过移除该生长基板而暴露的该半导体结构的表面粗糙。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,进一步包括沿该半导体结构 and 生长基板的侧表面引入底部填料材料;其中在移除该生长基板时,沿该半导体结构和生长基板的侧表面的所述底部填料形成该半导体结构的顶部表面上的围绕物;以及将波长转换材料置于该围绕物中。
如权利要求20所述的移除生长基板的方法,其中将波长转换材料置于该围绕物中包括,淀积磷光体和透明材料的混合物;以及通过引入到空腔中的底部填料、沿该半导体结构和该生长基板的侧表面引入的底部填料、和该透明材料,密封该半导体结构。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,进一步包括,在通过移除该生长基板而暴露的半导体结构的顶部表面中形成光子晶体,该光子晶体包括在该半导体结构中形成的孔阵列。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,进一步包括在通过移除该生长基板而暴露的半导体结构的顶部表面上形成包括孔阵列的掩模;将该孔阵列蚀刻到该半导体结构的顶部表面中;以及移除该掩模。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该载体连接到多个其他载体,所述多个载体中的每个载体附着到至少一个半导体结构,该方法进一步包括在引入底部填料之前,按压置于该半导体结构上面的板和置于该多个载体下面的板之间的多个载体,从而迫使每个半导体结构具有基本上均匀的高度;在移除该生长基板之后,使该半导体结构变薄;在该半导体结构的顶部表面上应用光致抗蚀剂层;在该光致抗蚀剂中形成包括孔阵列的掩模;将该孔阵列蚀刻到至少一个半导体结构的顶部表面中;以及移除该光致抗蚀剂掩模。
如权利要求24所述的移除生长基板的方法,进一步包括在应用光致抗蚀剂层之前,在相邻的半导体结构之间的空间中应用材料,从而使得该多个半导体结构的顶部表面基本上是平面的。
如权利要求1所述的移除生长基板的方法,其中该至少一个互连和该底部填料中的一个的热膨胀系数不大于该至少一个互连和该底部填料中的另一个的热膨胀系数的两倍。