非显而易见性评估仅供参考,不构成法律建议。
| 编号 | 名称 |
|---|---|
| 0 | 2014-11-13_KR101461341B_发明授权_KR101461341B1 터치스크린 및 이의 제조방법_+++A_B_C_D_E_F_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2013-07-16_US8484838B_发明授权_US08484838B2 Method for constructing a capacitance sensing device_+++A_C_F_H_I_P_Y_Z_d_e_n_o+++.docx |
| 0 | 2013-08-28_KR101299847B_发明授权_KR101299847B1 접촉 감지 장치 및 방법_+++A_B_C_D_G_e_f+++.docx |
| 0 | 2013-10-15_KR101317538B_发明授权_KR101317538B1 다지점 인식 터치 화면_+++A_C_D_E_F_g+++.docx |
| 0 | 2013-10-23_CN102169401B_发明授权_CN102169401B 多点触摸屏_+++A_c_d_e_f_g+++.docx |
| 0 | 2013-12-18_CN103460161A_发明公开_CN103460161A 接触感应装置及方法_+++A_B_C+++.docx |
| 0 | 2014-03-12_KR101373906B_发明授权_KR101373906B1 다지점 인식 터치 화면_+++A_C_F_e_h_i_n_o+++.docx |
| 0 | 2014-06-05_WO2014084697A_发明申请_WO2014084697A1 터치스크린 및 이의 제조방법_+++A_B_C_D_E_Y_Z_f+++.docx |
| 0 | 2014-08-21_US2014232682A_发明申请_US20140232682A1 Apparatus and Method for Detecting Contact_+++A_B_C+++.docx |
| 0 | 2014-09-03_EP2772836A_发明公开_EP2772836A1 TOUCHSCREEN AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME_+++A_C_D_E_Y_Z_b_f+++.docx |
| 0 | 2014-09-18_JP2014170342A_发明专利_JP2014170342A Capacitance type input device_+++A_B_C_g_h_i+++.docx |
| 0 | 2014-10-09_US2014300578A_发明申请_US20140300578A1 MULTIPOINT TOUCHSCREEN_+++A_C_D_E_F_H_I+++.docx |
| 0 | 2013-07-11_US2013176238A_发明申请_US20130176238A1 TOUCH PANEL_+++A_B_H_I_c_d_e_y+++.docx |
| 0 | 2014-11-16_TW201443733A_发明专利_TW201443733A 觸控螢幕及其製造方法_+++A_B_C_D_E_F_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2014-11-27_JP2014222531A_发明专利_JP2014222531A マルチポイント・タッチスクリーン_+++A_C_D_F_H_I_N_O_e+++.docx |
| 0 | 2015-01-14_KR1020150005688A_发明公开_KR1020150005688A 다지점 인식 터치 화면_+++A_D_E_c_f_h_i+++.docx |
| 0 | 2015-03-27_KR101506512B_发明授权_KR101506512B1 정전 용량성 터치 센서 패널_+++A_C_F_H_I_Y_Z_d_e_g+++.docx |
| 0 | 2015-04-01_EP2854000A_发明公开_EP2854000A1 Touch window and touch device with the same_+++A_C_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2015-04-02_US2015092359A_发明申请_US20150092359A1 TOUCH WINDOW AND TOUCH DEVICE WITH THE SAME_+++A_C_Y_Z_b+++.docx |
| 0 | 2015-04-08_KR1020150036903A_发明公开_KR1020150036903A 터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이 장치_+++A_B_C_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2015-04-15_CN104516584A_发明公开_CN104516584A 触控窗口和具有该触控窗口的触控设备_+++A_B_C_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2015-04-16_JP2013182000A_发明专利_JP2013182000A5 JP2013182000A5 -.docx |
| 0 | 2015-06-08_JP2015106240A_发明专利_JP2015106240A 導電性フイルム及びタッチパネル_+++A_B_C_D_E_Y_Z_f_g+++.docx |
| 0 | 2011-06-08_CN1942853B_发明授权_CN1942853B 具有透明电容传感介质的触摸面板及相应的显示装置和计算机系统_+++A_C_D_H_I_b_e_f_g+++.docx |
| 0 | 2005-12-01_CA2557940A_发明专利_CA2557940A1 MULTIPOINT TOUCHSCREEN_+++A_b_c_d_e_f_g_h_i_n_o_p+++.docx |
| 0 | 2005-12-01_WO2005114369A_发明申请_WO2005114369A2 MULTIPOINT TOUCHSCREEN_+++A_C_D_E_F+++.docx |
| 0 | 2006-05-11_US2006097991A_发明申请_US20060097991A1 Multipoint touchscreen_+++A_C_D_e_f_g+++.docx |
| 0 | 2007-01-24_EP1745356A_发明公开_EP1745356A2 MULTIPOINT TOUCHSCREEN_+++A_C_F_e+++.docx |
| 0 | 2007-04-04_CN1942853A_发明公开_CN1942853A 多点触摸屏_+++A_C_D_E+++.docx |
| 0 | 2007-11-15_JP2007533044A_发明专利_JP2007533044A Multi-point touch screen_+++A_D_c_e_f+++.docx |
| 0 | 2008-05-08_JP2008514263A_发明专利_JP2008514263A Method and device for presenting information about the flow behavior of the body fluid which is externally measured ultrasonically.docx |
| 0 | 2009-02-19_AU2005246219B_发明专利_AU2005246219B2 Multipoint touchscreen_+++A_c_d_e_f_h_i_n_o+++.docx |
| 0 | 2010-02-16_US7663607B_发明授权_US07663607B2 Multipoint touchscreen.docx |
| 0 | 2010-12-24_JP2010286886A_发明专利_JP2010286886A Touch switch_+++A_D_Y_Z_c_e+++.docx |
| 0 | 2011-04-21_JP2011081825A_发明专利_JP2011081825A Multipoint touchscreen_+++A_D_c_e_f_g_h_i+++.docx |
| 0 | 2005-12-01_AU2005246219A_发明专利_AU2005246219A1 Multipoint touchscreen_+++A_C_D_E_F+++.docx |
| 0 | 2012-03-01_JP2012043460A_发明专利_JP2012043460A Multipoint touch screen_+++A_c_e_f_g_h_i_n_o+++.docx |
| 0 | 2012-09-27_WO2012128893A_发明申请_WO2012128893A1 SINGLE LAYER TOUCH SENSOR_+++A_C_D_E_F_H_I_N_O_P_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2012-10-04_WO2012134026A_发明申请_WO2012134026A1 접촉 감지 장치 및 방법_+++A_B_C_D_E_G_f+++.docx |
| 0 | 2012-11-08_JP2012215501A_发明专利_JP2012215501A Buried object surveying method and buried object surveying device_+++a+++.docx |
| 0 | 2013-02-14_KR101233479B_发明授权_KR101233479B1 다지점 인식 터치 화면_+++A_C_D_e_f_g+++.docx |
| 0 | 2013-03-20_CN102985900A_发明公开_CN102985900A 单层触摸传感器_+++A_B_C_D_E_F_H_I_Y_Z_g_n_o+++.docx |
| 0 | 2013-04-04_US2013081869A_发明申请_US20130081869A1 TOUCH SENSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME_+++A_B_C_E_F_G_h_i_n_o_p+++.docx |
| 0 | 2013-05-02_US2013106780A_发明申请_US20130106780A1 MULTIPOINT TOUCHSCREEN_+++A_D_c_e_f_h_i_n_o+++.docx |
| 0 | 2013-05-23_US2013127775A_发明申请_US20130127775A1 Single-Layer Touch Sensor with Crossovers_+++A_B_C_E_Y_Z_g+++.docx |
| 0 | 2013-07-02_CA2557940C_发明专利_CA2557940C MULTIPOINT TOUCHSCREEN_+++A_C_D_E_F+++.docx |
一种触摸传感器,包括:基板;以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元;其中,所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域;所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案;所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元;所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线;构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复;所述第二布线电极单元设置在:被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中;以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中;并且所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示;[式1];D=A/(n×m);在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,m是n的约数。
作为一名经验丰富的专利代理师,我将紧密结合目标专利《CN107750354B 触摸传感器及其制造方法》(以下简称“目标专利”)的说明书和附图,对权利要求1进行深入解析。同时,我将对比四份对比文件(D1-D4)的原文,通过特征比对表格详细分析各对比文件公开的技术特征,并以此为基础确定最接近的对比文件,分析薄弱技术特征,并给出进一步的检索策略。
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### 第一部分:权利要求1的解释(结合目标专利说明书)
目标专利旨在解决现有单面一片型互电容触摸传感器中,ITO电阻高导致的大尺寸适用性差、金属网格图案导致的莫列波纹和可视性问题,以及死区(布线区域)占用空间大、导致非感应区(贝塞尔区域)过宽的问题。
权利要求1限定了一种具体的单面一片型触摸传感器结构,特别关注了触摸感应区域内布线电极单元(第一布线电极单元)的排布和尺寸设计,旨在使死区最小化,从而改善触摸灵敏度和降低成本。
1. **“一种触摸传感器,包括:基板;以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元”**:
* **解释**:这限定了单面一片型结构。说明书【0022】和【0032】确认了驱动电极(Tx)、感应电极(Rx)和布线电极全部位于基板的同一表面上。
2. **“所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案”**:
* **解释**:这限定了电极的形态为金属网格图案,而非传统的ITO透明导电膜。说明书【0025】明确提出使用导电金属线代替ITO。
3. **“所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元”**:
* **解释**:这是本专利的核心改进点之一。传统布线仅位于非感应区。本专利将布线分为两部分:位于感应区内的第一布线(死区跡线)和位于非感应区内的第二布线。
4. **“所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线”**:
* **解释**:限定了第一布线单元的具体功能和形式,即成束的导线,用于在感应区域内穿行,联通Tx/Rx电极与外部非感应区的布线。
5. **“构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复”**:
* **解释**:这限定了感应区域图案的整体布局。说明书【0044】和附图图5显示,感应区是由若干个在x轴方向(宽度方向)上周期性重复的“单元图案”构成的,n是重复单元的数目。
6. **“所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示;[式1];D=A/(n×m);在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,m是n的约数”**:
* **解释**:这是本专利最具体、最关键的尺寸限定。说明书【0045】中,D被定义为“重复单元图案内作为触摸非感应区域的死区的宽度”。本权利要求将其解释为“重复单元图案的宽度D”。式1给出了D与感应区总宽度A、单元数目n以及n的约数m之间的定量关系。通过调节m(n的约数),可以灵活设计D的宽度。说明书通过半反射镜设计、单位死区内交点数目(C/2≥1.5)等配合设计(如式2-式4),旨在使死区D尽可能小,从而使各跡线线宽最大化,同时确保电导率和产率。
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### 第二部分:对比文件特征比对及分析
我们将对比文件记为:
* D1: US20140300578A1
* D2: KR101461341B1
* D3: TW201443733A
* D4: JP2014222531A
#### 1. 特征比对表格
| 权利要求1的技术特征 | 技术特征细分 | D1 (US20140300578A1) | D2 (KR101461341B1) | D3 (TW201443733A) | D4 (JP2014222531A) |
| A: 一种触摸传感器,包括:基板 | A | 公开。<br>[0064]: transmissive member 112... formed from a clear material such as glass or plastic. | 公开。<br>[0051]: 제1 전도성 패턴, 제2 전도성 패턴 및 제3 전도성 패턴은 기재 상에 구비되고. | 公开。<br>[優异的效果部分]: 本发明可导入一基板。 | 公开。<br>[0064]: 光透過部材112...ガラスやプラスチックなどの透明な材料から形成される。 |
| B: 设置在基板相同表面上的Tx、Rx和布线电极单元 | B | 实质公开。<br>Fig. 6A/B显示单面结构,ITO图案102和traces 106在同一member 112上。 traces即为布线。虽非Rx/Tx,但属单面互电容式。 | 实质公开。<br>[0051]: 제1...제2...제3 전도성 패턴은 모두 상기 기재의 동일한 면에 구비될 수 있다.<br>[0014-0017]: 제1 전도성 패턴(화면부), 제2...패턴(라우터부, 패드부)은 Tx, Rx, 布线的对等物。 | 实质公开。<br>[0140]: 第一...第二...第三導電圖案設置於一基板上,且可全部設置於該基板之相同表面上。<br>[0068]: 第一導電圖案(螢幕部), 第二...圖案(路由器部, 連接墊部)。 | 实质公开。<br>Fig. 6A/B显示单面结构,ITO图案102和traces 106在同一member 112上。 |
| C: 触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域 | C | 公开。<br>Fig. 6A/B, electrodes 102区域为感应区,traces 106引出区域为非感应区。 | 公开。<br>[0029]: 화면부 및 비화면부를 포함하고。分别对应感应和非感应区。 | 公开。<br>[0068]: 包括一螢幕部及一非螢幕部。分别对应感应和非感应区。 | 公开。<br>Fig. 6A/B。 |
| D: Tx、Rx和布线单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案 | D | 公开。<br>[0044]: ...form nodes with distinct x and y coordinates... ITO material.<br>Fig. 6A/B, 11A/B, pattern 102/106, 206/208, dummy features 204构成了遮蔽部, gaps 108构成了敞开部。虽主要是ITO,但构成了遮蔽/敞开图案。 | 公开。<br>[0107]: 상기 제1 내지 제3 전도성 패턴은 규칙적 패턴이고... 복수의 선이 교차하여 형성되는 교차점을 포함하며... 메쉬 패턴 등。메쉬 패턴은遮蔽部和敞开部的典型结构。 | 公开。<br>[0093]: 该第一至第三导电图案为一规则图案且包含藉由交叉複数个组成导电图案之线之任一线形成之交叉点... 网格图案等。 | 公开。<br>[0044]: ...別々のx座標とy座標を有するノードを形成する... ITO材料。<br>Fig. 6A/B, 11A/B。 |
| E: 布线电极单元包括感应区域中的第一布线单元和非感应区域中的第二布线单元 | E | 实质公开。<br>[0062]: electrodes 102 are connected to a capacitive sensing circuit 104 through traces 106 that are positioned in the gaps 108 found between the spaced apart electrodes 102.<br>Fig. 6B显示traces 106从电极间的 gaps 108(即感应区内)穿过,最终引出到sides(非感应区)。 | 实质公开。<br>[0037]: 전체 터치 윈도우의 외곽선을 화면부 영역까지 미세한 단선폭으로 단선시킨 미세 패턴을 형성하였고, 이후 이러한 미세 패턴의 영역에 라우터부를 도입하였다.<br>라우터부为布线,引入画面部(感应区)。 | 实质公开。<br>[0072]: 导入一虚拟图案于该路由器部、该第一连接垫部及该第二连接垫部之空出的空间。旨在使布线(路由器)和感应区(螢幕部)透光均匀,表明布线穿过感应区空隙。 | 实质公开。<br>[0062]: ...spaced apart electrodes 102... gaps 108 found between spaced apart electrodes 102.<br>Fig. 6B。 |
| F: 第一布线电极单元包括将Tx/Rx连接至第二布线单元的导线束 | F | 公开。<br>Fig. 6B, 11B明确显示,从电极间 gaps(第一布线区)穿过的traces构成了成束的导线,将电极(或nodes)连接至边部(非感应区/第二布线区)。 | 公开。<br>[0037]描述:라우터부(布线)引入画面部微细图案区域,构成了连接线。 | 公开。<br>[0072]描述:路由器部导入虛擬圖案,构成了感应区内的布线导线。 | 公开。<br>Fig. 6B, 11B。 |
| G: 触摸感应区域导电图案包括n个重复单元图案在宽度方向上重复 | G | 公开。<br>Fig. 6A/B, electrodes 102(平行四边形)呈pixilated array,在rows 116(宽度方向/x轴)上重复。可以理解为重复单元。 | 未明确公开。<br>仅描述了网格图案和画面部区域,未提及“n个重复单元在宽度方向上重复”的整体布局。 | 未明确公开。<br>未提及“n个重复单元在宽度方向上重复”的整体布局。 | 公开。<br>Fig. 6A/B, 11A/B。 |
| H: 第二布线单元设置在与触摸感应区域上部侧面相邻的非感应区域中 | H | 公开。<br>Fig. 6B, rows 116的traces引出到sides(左边IC110和右边IC110)。根据附图方位,即为感应区域的侧面非感应区域。 | 实质公开。<br>[0014, 0017]提到的패드부, 라우터부位于비화면부(非感应区),[0191, 0192, 도 8]显示FPCB 연결영역在비화면부。实质公开了位于感应区侧面相邻的非感应区域。 | 实质公开。<br>[0068, 0070]提到的連接墊部, 路由器部位于非螢幕部(非感应区),[0080]提到的FPCB連接區。实质公开了位于感应区侧面相邻的非感应区域。 | 公开。<br>Fig. 6B。 IC110引出区域。 |
| I: 被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中 | I | 实质公开。<br>本专利的图6、7中Tx/Rx对称设置,上、下两侧均有贝塞尔区域(第二布线区)。D1图6A/B仅显示Tx沿rows引出,Rx则引出至top/bottom。但Fig. 6B显示traces对称向左、右IC引出。实质公开了双侧相邻排布。 | 实质公开。<br>图8显示,ACF本딩的FPCB 연결영역位于데코레이션부的비화면부。虽然图8仅显示单侧,但说明书和权利要求保护的技术方案并不限于单侧。单、双侧为本领域常用替代。实质公开。 | 实质公开。<br>圖8显示FPCB連接區域位于非螢幕部。单、双侧为日常设计替代方案。 | 实质公开。<br>Fig. 6B, Fig. 9。实质公开。 |
| J: 重复单元图案的宽度D由下面的式1表示 | J | 未公开。 | 未公开。 | 未公开。 | 未公开。 |
| K: [式1] | K | 未公开。 | 未公开。 | 未公開。 | 未公开。 |
| L: D=A/(n×m) | L | 未公开。<br>未提及重复单元宽度D与感应区总宽度A、重复单元数目n的定量数学关系。 | 未公开。<br>未提及定量数学关系。 | 未公开。<br>未提及定量数学关系。 | 未公开。<br>未提及定量数学关系。 |
| M: A是感应区域宽度,n是重复单元图案数目,m是n的约数 | M | 未公开。 | 未公开。 | 未公开。 | 未公开。 |
#### 2. 对比文件实质公开特征分析
* **D1 (US20140300578A1) / D4 (JP2014222531A)**:这两份文件实质相同(D1是D4的美国申请,且D4优先权号包含US10/840862,D1包含其后续分案信息,二者说明书及附图基本一致)。
* **毫无异议公开**:触摸传感器(包括基板、Tx/Rx/布线、感应区/非感应区、遮蔽/敞开图案),感应区域内有重复单元(平行四边形电极102),且布线(traces 106构成的成束导线束)穿过感应区域电极间的 gap 108,连接至非感应区的贝塞尔区域。
* **实质公开**:虽然Tx电极呈rows排布, Rx电极引出至top/bottom,但Fig. 6B明确显示了从 rows 引出的traces 106对称地向左、右两个IC引出,这实质公开了权利要求1中“第二布线电极单元设置在与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻...及下部的侧面相邻”的双侧非感应区排布(方位可由D1/D4附图顺时针旋转90度得到,rows变为columns)。此外,虽然traces 106是单根引出,但其构成了从感应区穿行至非感应区的成束的导线。因此,特征F、H、I构成实质公开。
* **未公开**:最关键的特征 **J、K、L、M(即式1)**。
* **D2 (KR101461341B1) / D3 (TW201443733A)**:这两份文件实质相同(优先权号、说明书结构、附图和具体设计参数基本一致)。
* **毫无异议公开**:触摸传感器(包括基板、画面部/非画面部对应感应区/非感应区、遮蔽/敞开图案,且第一至第三导电图案均采用**网格图案**),以及非感应区域内的第二布线(라우터부/路由器部、패드부/連接墊部、데코레이션부/裝飾部),成束的导线用于 Tx/Rx连接。
* **实质公开**:D2/D3说明书【0037】明确描述将**라우터부引入画面部微细图案区域,构成了画面部内的布线**。这实质公开了“布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元”。此外,为了使非感应区的布线、垫部视觉效果与感应区网格图案一致,引入了虚拟图案(더미패턴/虛擬圖案),这表明布线(第一布线)穿行通过了感应区域内Tx/Rx电极之间的敞开部。特征B(设置在相同表面上)、F(成束导线连接)、H/I(位于侧面非感应区)也被实质公开。
* **未公开**:特征 **G(n个重复单元在宽度方向上重复)**,以及关键特征 **J、K、L、M(即式1)**。
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### 第三部分:最接近的对比文件确定及创造性分析薄弱技术特征
#### 1. 最接近的对比文件确定
本权利要求旨在解决单面一片型互电容式触摸传感器中,为了死区最小化而对感应区域内布线电极单元(第一布线单元)进行排布和尺寸量化设计(式1)的技术问题,旨在提高触摸灵敏度、降低成本并优化轻薄度。
* **D1 (US20140300578A1) / D4 (JP2014222531A)**实质公开了单面一片型互电容触摸传感器,毫无异议公开了驱动/感应电极在相同表面上的网格型遮蔽/敞开图案排布,且明确显示成束的迹线(第一布线单元)从感应区域内的 gap 108穿行,并引出到侧面非感应区。D1/D4的电极102构成了在宽度方向上重复的n个单元图案排布。因此,D1/D4毫无异议或实质公开了除式1(J-M)外的几乎所有技术特征,从整体解决的技术问题和技术效果来看,非常接近。
* **D2 (KR101461341B1) / D3 (TW201443733A)**实质公开了单面一片型触摸传感器,其突出特征是驱动/感应/布线全部采用金属网格(mesh)图案(特征D公开得更彻底),且明确提出将布线(D1/D4中的 traces)引入感应区图案(画面部微细图案区域),构成了第一布线单元。因此,从“电极为网格图案”且“布线引入感应区网格图案中”这一本专利更高级的设计理念角度看,D2/D3更为接近。
鉴于D1/D4更完整地公开了感应区内“n个单元图案在宽度方向上重复”的布局以及成束迹线在 gap穿行的具体形式,我们选择 **D1 (US20140300578A1)** 做创造性分析过程中最接近的对比文件。
#### 2. D1未公开特征的分析
权利要求1相对于D1的区别技术特征在于:
* **J、K、L、M:[式1] D=A/(n×m)**,其中A是感应区宽度,n是重复单元数目,m是n的约数。这限定了重复单元(即包含死区的第一布线单元)宽度D的具体定量数学关系。
**未被最接近对比文件D1公开的特征(式1)是否被其他对比文件公开**:
* **特征D(电极为金属网格图案)**:被D2/D3明确公开,其描述第一至第三导电图案均为网格或mesh型。目标专利中也描述使用网格图案。因此,特征D(本专利使用金属网格取代ITO)是公知常识,且被D2/D3公开。
* **特征J、K、L、M(式1)**:在D1-D4原文中均**未明确公开**任何定量数学关系。D2/D3虽然描述了布线引入感应区网格图案,旨在使整个屏幕开口率均匀(实质公开特征E/F),但仅限于定性描述(如式3、式4的开口率偏差<10%),未提供任何关于单元宽度D的具体尺寸限定公式(式1)。
#### 3. 创造性薄弱技术特征分析
从整体解决的技术问题和技术效果来看,区别特征——**式1 D=A/(n×m)** 是权利要求1创造性的核心。
目标专利说明书在【0045-0062】部分详细描述了重复单元D(作为死区宽度)的设计理念:通过n和其约数m灵活调节宽度D,旨在使死区D尽可能小,从而使跡线线宽最大化,同时通过半反射镜、交点数目(C/2≥1.5ea/mm²)设计(如式2-式4),最终确保电导率和产率,同时避免莫列波纹和可视性问题。
虽然D1、D2/D3实质公开了布线穿过感应区的设计概念,但如何具体量化第一布线单元的宽度D,D1仅提到 gap大小为20微米以最小化 gaps,D2/D3仅提到开口率均匀。没有任何现有技术提供了根据感应区总宽度A、单元数目n及其约数m来精确计算重复单元宽度D的定量公式(式1)。权利要求1通过式1将定性的设计理念转化为定量的尺寸限定,实现了一种新颖、具体的死区排布和尺寸设计方案,这一方案有助于同时优化死区最小化、跡线线宽最大化和确保产率的技术效果。在没有任何现有技术给出定量公式或暗示使用n和其约数来调节单元宽度的情况下,该区别特征(式1)是无法被公知常识常规替代或结合其他对比文件实质解决的,具有突出的实质性特点。
因此,如果提出无效请求,权利要求1中以 **[式1] D=A/(n×m)** 限定尺寸排布的区别技术特征是创造性分析过程中薄弱的技术特征。
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### 第四部分:进一步的检索策略
鉴于区别特征式1具有较强的创造性,进一步的检索应侧重于:
1. **尺寸和排布数学公式**:检索专门描述单面触摸传感器或金属网格电极布线设计中,用于量化布线单元(死区跡线、 gap迹线)宽度或死区排布尺寸的数学公式、比例关系或定量限定的对比文件。关注与单元宽度D、总宽度A、单元数目n相关的组合参数公式。
2. **约数应用**:检索提及利用“数目及其约数”来设计布局、调节尺寸或灵活控制电路参数的设计方案。这一概念可能不仅限于触摸传感器领域,也可能存在于集成电路布局设计、微电子学布局等相关领域。
3. **网格布局设计专题**:检索深入探讨互电容式金属网格触摸传感器死区设计、特别是为了可视性、电阻优化而将跡线精确排布于Rx/Tx电极gap中的具体布局设计、尺寸量化和产率控制相关的技术文献或专利文献。
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综上所述,权利要求1具有较强的创造性特点。其关键区别特征——量化死区排布和尺寸的定量数学公式(式1),是无法被现有定性描述实质公开或常规替代的。在现有检索结果基础上,我们建议针对这一薄弱环节制定深入检索策略。
作为一名经验丰富的专利代理师,我将为您对该目标专利的权利要求1进行深度解析,并紧密结合三份对比文件(以下简称D1、D2、D3)的原文内容及详细出处,进行全面的技术特征比对、创造性最接近现有技术分析、无效请求最薄弱特征论证,并制定下一步的检索策略。
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## 一、 目标专利权利要求1的释义与技术特征拆解
紧密结合目标专利说明书(CN107750354B)的记载,权利要求1保护的是一种**单面一片型互电容式触摸传感器**。其核心发明构思在于:为了解决现有技术中双面或双片结构导致的厚度大、成本高、透光率低以及大尺寸下ITO电阻高的问题,将驱动电极、感应电极和第一布线电极单元均设置在基板的**相同表面**上,并通过特定的网格重复单元图案宽度公式进行空间优化。
我们将权利要求1拆解为以下13个具体的技术特征:
* **特征A**:一种触摸传感器,包括:基板;
* **特征B**:以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元;
* **特征C**:其中,所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域;
* **特征D**:所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案;
* **特征E**:所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元;
* **特征F**:所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线;
* **特征G**:构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复;
* **特征H**:所述第二布线电极单元设置在:被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中;
* **特征I**:以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中;
* **特征J**:并且所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示;
* **特征K**:[式1];
* **特征L**:D=A/(n×m);
* **特征M**:在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,m是n的约数。
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## 二、 对比文件技术特征比对与出处分析
为了客观评估各对比文件公开的内容,以下将D1、D2、D3与目标专利的特征进行逐一比对。
### 1. 对比文件身份说明
* **D1**: KR1020150036903A,发明公开,《터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이 장치》(触摸窗口及包含其的显示装置)。
* **D2**: CN104516584A,发明公开,《触控窗口和具有该触控窗口的触控设备》。
* **D3**: JP2015106240A,发明专利,《導電性フイルム及びタッチパネル》(导电性薄膜及触摸面板)。
### 2. 特征比对表与原文出处
下表详细列出了各对比文件是否公开了目标专利的特征,并给出了精准的原文出处。
| 目标专利技术特征 | D1 (KR1020150036903A) 是否公开及原文出处 | D2 (CN104516584A) 是否公开及原文出处 | D3 (JP2015106240A) 是否公开及原文出处 |
| 特征A (基板) | 毫无疑问公开<br>段落[0008]、[0016]:“기판(基板)…” | 毫无疑问公开<br>段落[0008]、[0023]:“基板100…” | 毫无疑问公开<br>段落[0009]、[0031]:“基体26…” |
| 特征B (同面设置) | 实质公开/选择性公开<br>段落[0042]:“상기 제1 감지전극 및 상기 제2 감지전극이 상기 제2 기판의 동일한 면에 배치될 수 있다.”(第一和第二感应电极可配置在第二基板的同一面上,配线同理)。 | 实质公开/选择性公开<br>段落[0051]:“第一感测电极和第二感测电极可以与第二基板在同一平面上对齐。” | 毫无疑问公开<br>段落[0009]、[0032]:“基体的一主面上互相对向形成的第一电极、第二电极及引出电极”。 |
| 特征C (感应/非感应区) | 毫无疑问公开<br>段落[0016]-[0017]:“유효 영역(AA)(有效区域)...비유효 영역(UA)(非有效区域)”。 | 毫无疑问公开<br>段落[0023]-[0024]:“动作区AA...非动作区UA”。 | 毫无疑问公开<br>段落[0030]:“センサ領域22(传感器区域)...端子配線領域24”。 |
| 特征D (网格导电图案) | 毫无疑问公开<br>段落[0023]-[0026]:包含“메쉬 개구부(OA)(网孔/敞开部)”和“메쉬 선부(LA)(网格线/遮蔽部)”。 | 毫无疑问公开<br>段落[0030]-[0033]:包括金属形成的“网孔OA”和“网格线LA”。 | 毫无疑问公开<br>段落[0032]:“金属细线构成的多个格子36组成的网格图案38”。 |
| 特征E (第一/第二布线) | 未公开<br>其布线(배선 310/320)仅位于非有效区域(UA),触摸区域内无布线。 | 未公开<br>其线材310/320仅位于非动作区UA内。 | 毫无疑问公开<br>段落[0032]、[0036]:“引出电极34...在对应于第一电极32A相邻的区域44(第1电极间的传感器区域内)沿第1方向延伸”。 |
| 特征F (第一布线连接功能) | 未公开 | 未公开 | 毫无疑问公开<br>段落[0032]、[0036]:引出电极34在传感器区域内延伸并连接岛状的第二电极至端子配线区。 |
| 特征G (n个重复单元) | 未公开<br>仅提及周期性条纹或交叉重叠,未限定触摸感应区内的n个重复单元图案。 | 未公开<br>仅提及防止摩尔纹的图案交叉,未提及n个重复单元在宽度方向重复。 | 实质公开<br>段落[0033]、[0035]:“多个第二电极32B在第1方向和第2方向以矩阵状排列,第一电极的带部和围绕部重复排列”,这在本质上构成了矩阵式的重复单元。 |
| 特征H (上部侧面第二布线) | 未公开<br>常规的外围上下或左右走线,未与上述特定的“重复单元”及第一布线相呼应。 | 未公开 | 未公开<br>段落[0030]、[0050]:引出电极连接至外周的端子配线领域24,但并非本权1限定的特定上下侧面双向分区设置。 |
| 特征I (下部侧面第二布线) | 未公开 | 未公开 | 未公开 |
| 特征J、K、L、M (式1及D的数学限定) | 未公开<br>完全未提及宽度计算公式 $D = A/(n \times m)$。 | 未公开<br>完全未提及数学公式限定。 | 未公开<br>虽然有关于 $L(mm)/A(mm^2) \ge 1.0$ 的公式(段落[0045]),但完全没有公开本权1的式1。 |
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## 三、 最接近现有技术(最接近的对比文件)的分析
在创造性分析中,**D3 (JP2015106240A)** 最适合作为最接近的对比文件(最接近的现有技术可为单选D3)。
### 1. 技术问题与技术效果层面的考量
* **目标专利** 旨在改善单面一片型触摸传感器的结构,降低厚度与制造成本,并**通过优化死区(触摸非感应区)以及布线单元在宽度方向的排列**,解决大尺寸化带来的布线空间狭窄、信号干扰与产率问题(参见目标专利说明书段落[0011]、[0024]、[0028])。
* **D3 (JP2015106240A)** 同样聚焦于解决大尺寸化带来的电阻问题,其明确提出:“在基体的一主面(单面)上形成电极,以降低成本、简化工艺”,并且其核心针对的问题是“金属细线化后初期静电容量减小、检测精度下降”。更为关键的是,D3明确公开了**“引出电极(布线)在传感器区域(触摸感应区)内相邻区域延伸”**这一结构(即特征E和F)。
* 相比之下,**D1和D2** 走线完全位于外围的“非动作区”,并未触及“触摸感应区域内存在第一布线电极单元”这一核心架构。因此,从技术领域、解决的技术问题(单面网格布线空间的优化)以及核心架构的贴近度来看,D3是最佳的“最接近现有技术”。
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## 四、 区别技术特征及其他对比文件的公开情况
以 **D3** 为最接近现有技术,权利要求1与其相比,存在的**区别技术特征**为:
1. **特征H、I**:第二布线电极单元分别设置在与触摸感应区域的**上部侧面**和**下部侧面**相邻的触摸非感应区域中(形成上下分流双向走线架构)。
2. **特征J、K、L、M(式1)**:重复单元图案的宽度 $D$ 满足公式:$D = A/(n \times m)$,其中 $m$ 是数目 $n$ 的约数。
### 其他对比文件(D1、D2)是否公开了这些区别特征?
* **经审查,D1 (KR1020150036903A) 和 D2 (CN104516584A) 均未公开上述区别特征。**
* D1和D2仅为常规的四边形/网格图案的对齐调角(用于消除摩尔纹),其配线完全处于外围UA区。它们既没有给出将布线在感应区内做上下侧面分流对调的排布暗示,更没有提及任何关于重复单元宽度 $D$ 与总体宽度 $A$、重复数量 $n$ 及约数 $m$ 之间的数理逻辑关系(式1)。
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## 五、 无效请求方最薄弱的技术特征分析
若您代表请求方对该专利提出无效宣告请求,基于目前案卷内的对比文件(D1-D3),**最薄弱(即最难被无效掉、对专利权人而言最稳固)的技术特征是:特征J~M(即[式1] $D = A/(n \times m)$ 这一数理限定特征)。**
### 原因分析:
1. **现有技术完全真空**:D1、D2、D3中完全没有任何关于触摸传感器电极宽度调整需引入“约数 $m$”并满足该特定除法公式的记载。
2. **规避技术偏见与功能对应**:说明书第[0045]段至[0047]段指明,该公式与后续的“半反射镜设计”等相结合,目的是在有限的死区宽度内,使x轴方向上的迹线数目最小化,进而使各迹线线宽最大化。由于该数理公式在现有技术中缺乏任何启示或公知常识的佐证,审查员极易认定该特征带来了“死区空间利用率最大化”的预料不到的技术效果。
3. **结论**:仅凭D1~D3,由于完全缺乏对[式1]的结构与算法机理的启示,极难论证其属于“本领域技术人员通过简单常规实验即可得出”的结论。因此,这是请求方火力线上的最大软肋。
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## 六、 进一步检索策略建议
为了成功突破上述最薄弱环节(式1及上下分流走线),建议调整检索策略,从以下三个方向进行精准补充检索:
### 1. 改变检索关键词与算式变形检索
* 目标专利的优先权日为 **2015年6月14日**(参见说明书[0001]),检索文献必须在此日期之前公开。
* 针对式1,需考虑公式在其他文献中可能发生的变体。例如,约数 $m$ 在多通道IC设计或屏幕网格周期设计中,常被表述为“分组(Grouping)”、“分频(Frequency Division)”或“通道压缩(Channel Compression)”。
* **构建检索式**:(触摸传感器 OR 触控屏 OR 网格电极)AND(重复单元 OR 周期 OR 死区 OR 迹线 OR 走线)AND(宽度 OR 间距)AND(约数 OR 倍数 OR 分组 OR 公式 OR 方程 OR "A/(n*m)")。
### 2. 锁定特定申请人与技术分支
* 聚焦于2013-2015年间在**“单层多点电容屏走线优化”**及**“大尺寸金属网格(Metal Mesh)走线空间压缩”**领域有大量专利布局的头部厂商(如:LG Innotek、欧菲光、TPK、宸鸿科技、伯恩光学、三星电子等)。
* 重点检索这些申请人在“单面一片型(OGS/SITO)”触摸屏中,关于**“上下两侧双向对称引出线(Top/Bottom Routing)”**以及**“死区/暗区电极周期性变宽”**的专利。
### 3. 跨学科/国际专利分类号(IPC)深挖
* 除了常规的触控分类号(`G06F3/041`, `G06F3/044`),应向更底层的芯片/电路布线分类号拓展,例如 **`H05K3/00`**(制造印刷电路的工艺)或 **`H01L`** 相关的微纳图形阵列周期性修正技术。
* 检索韩国(KR)和日本(JP)的实用新型与发明公开,因为目标专利本就源自韩国优先权案(KR10-2015-0083804),韩国厂商(如LG系列)在2015年前后对网格细线化(Mesh pattern optimization)的数理几何模型有极深的底层研究,极可能在某篇未翻译成中文/英文的韩文原始文献中隐藏了类似的几何比例计算公式。
尊敬的客户:
作为一名经验丰富的专利代理师,我仔细研究了目标专利(CN107750354B)的权利要求1及其说明书,并对您提供的四份对比文件进行了详尽的分析和比对。
以下是我的详细分析报告:
### 第一部分:专利文件与对比文件概況
**1. 目标专利(本案)**
* **授权公告号:** CN 107750354 B
* **技术领域:** 触摸传感器及其制造方法。
* **核心发明点:** 针对单面一片型互电容触摸传感器,通过特定的布线电极设计(将第一布线电极设置在触摸感应区域内,第二布线电极设置在感应区域上部和下部的侧面相邻的非感应区域),以及使构成触摸感应区域的导电图案满足特定的数学关系(n个重复单元图案,其宽度D=A/(n×m)),旨在使死区(迹线区域)最小化,最大限度地利用死区空间,改善制造工艺,降低成本,提高轻薄度,同时确保产品产率。
**2. 对比文件文件**
您提供的四份对比文件虽然公开号不同,但通过内容比对,它们属于**同一族专利**(Family Members),其说明书文本和附图内容实质相同。因此,在后续分析中,我将主要引用其原始公开文本**WO2005114369A2(标记为D3)**作为代表进行原文引用和出处指代。
* **D1:** AU2005246219A1
* **D2:** CA2557940A1
* **D3:** WO2005114369A2
* **D4:** US20060097991A1
### 第二部分:权利要求1的技术特征拆解与出处比对表格
为了清晰比对,我将目标专利权利要求1拆分为若干技术特征(A-M),并与对比文件D3(WO2005114369A2)的原文进行一一比对。
**特征比对表格**
| 权利要求1的技术特征编组 | 权利要求1的内容 | 对比文件 D3 (WO2005114369A2) 原文内容 | D3原文出处 (页码/段落) | 比对结果 |
| 特征A | 一种触摸传感器,包括:基板; | ...the touch screen includes a transparent capacitive sensing medium... The lines 152 are generally disposed on one or more optical transmissive members 156... | P.18/L.26; P.19/L.29 | 毫无争议公开 |
| 特征B | 以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元; | [说明书提及在单层或两层形成线路,但本案权利要求限定驱动、感应和布线都在“相同表面”。D3在P.13, L.25-26提及 upper layer includes lines in rows while the lower layer includes lines in columns,这倾向于双面或双层结构] | P.13/L.25-26 | 未公开 (注:D3偏向双层结构,与“相同表面”不符) |
| 特征C | 其中,所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域; | [D3附图6和7示出了电极区域和布线至侧边的迹线区域,这隐喻公开了感应区域和非感应区域。] | 附图6, 附图7 | 实质公开 |
| 特征D | 所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案; | ...patterned into spatially separated electrodes and traces. The electrodes 102 are spaced apart... to provide a space... formed from indium tin oxide (ITO). [ITO作为透明导电膜,不属于通常理解的包含遮蔽部和敞开部的导电图案,D3倾向于使用透明导电膜而非金属网格等。] | P.14/L.12; P.15/L.3; P.19/L.14 | 未公开 |
| 特征E | 所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元; | The electrodes 102 are connected to a capacitive sensing circuit 104 through traces 106 that are positioned in the gaps 108 found between the spaced apart electrodes 102. [附图6和7示出了迹线106/124位于电极间隙(感应区域)中,并延伸至非感应区域。] | P.14/L.13-14; 附图6, 附图7 | 实质公开 |
| 特征F | 所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线; | ...traces 106 are routed from each electrode 102 to the sides of the touch screen 100 where they are connected... | P.14/L.21-22 | 毫无争议公开 |
| 特征G | 构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复; | [D3附图6和7示出了电极在行单元(row 116/126)内重复设置,但在宽度方向上是否存在全案统一的“n个重复单元图案”的明确定义,D3原文未明确叙述,仅示出了行和列的排列。] | 附图6, 附图7 | 未公开 |
| 特征H | 所述第二布线电极单元设置在:被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中; | The sense traces 106 for each row are routed in two different directions. The sense traces 106 on one side of the row 116 are routed to a sensor IC 110 located on the left side and the sense traces 106 on the other side of the row 116 are routed to another sensor IC 110 located on the right side... | P.16/L.26-29; 附图6, 附图7 | 未公开 (注:D3示出布线在左侧和右侧,而非“上部的侧面”) |
| 特征I | 以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中; | [理由同上,D3公开的是左侧和右侧布线。] | P.16/L.26-29; 附图6, 附图7 | 未公开 |
| 特征J | 所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示; | [D3中没有公开任何关于重复单元图案宽度D的数学公式。] | 无出处 | 未公开 |
| 特征K | [式1] | [理由同上] | 无出处 | 未公开 |
| 特征L | D=A/(n×m) | [理由同上] | 无出处 | 未公开 |
| 特征M | 在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,m是n的约数。 | [理由同上] | 无出处 | 未公开 |
### 第三部分:创造性分析的最接近对比文件选择
在创造性分析过程中,确定最接近的对比文件(Most Closest Prior Art)是至关重要的第一步。我们需要从整体解决的技术问题以及技术效果的角度进行筛选。
**1. 目标专利(本案)解决的问题和效果**
本案旨在通过特定的布线布局设计和导电图案重复满足数学关系(D=A/(n×m)),来解决如何**使触摸非感应区域(死区、迹线区域)最小化**的问题,从而达到最大限度利用空间、提高轻薄度、降低成本的技术效果,同时还能确保产品的产率(参见本案说明书[0011]、[0045]段)。
**2. 对比文件D3(WO2005114369A2)解决的问题和效果**
D3的核心发明点在于实现能够**同时感测多点触摸**的触摸屏(参见D3标题、P.3/L.3-5)。它公开了利用互电容(D3倾向于此结构,P.7/L.30-P.8/L.15)或自电容(P.14/L.7-20)结构来实现多点触摸检测,其公开的技术手段包括使用ITO等透明导电介质、特定的电极排列等。
虽然D3在描述其附图7(自电容电极结构)时,提及通过使电极高度从中心向边缘变小,以变出空间来容纳来自更中心位置电极的迹线,从而**减少相邻电极行之间的间隙**(参见D3 P.17/L.8-13),这在客观上涉及到了死区或迹线空间的利用。
**3. 最接近对比文件的选择分析**
本案和D3的技术领域相同(触摸传感器)。本案追求死区最小化,D3主要追求多点触摸感测。虽然两者的主要发明目的有所不同,但D3在其自电容实施例中确实探讨了迹线排列对间隙空间的影响,这与本案关注死区空间利用存在一定的技术关联。
考虑到目标专利权利要求1采用了特定的数学关系(D=A/(n×m))来限定重复单元图案的宽度以解决死区最小化问题,而这一特征在D3乃至其他触摸传感器文献中都属于非常具体且罕见的限定。
尽管如此,如果在创造性分析中强行以本案独特的数学限定作为新颖性或核心创造性特征,D3在公开了触摸感应区域内的迹线排列、多点感测结构等更广泛的技术背景下,**仍可以被视为在创造性分析中做为判断新颖性和技术启示的起点。**
因此,**对比文件D3(WO2005114369A2)适合做创造性分析过程中的一个最接近的对比文件。**
### 第四部分:最接近对比文件未公开特征的技术启示分析
如表格所示,最接近的对比文件D3未公开的技术特征(即区别特征)非常显著且核心,主要包括:
1. **特征B:** 驱动、感应和布线电极单元设置在**基板的相同表面上**。
2. **特征D:** 对遮蔽部和敞开部的导电图案(倾向于指非透明导电膜结构,如金属网格)。
3. **特征G、J-M:** 构成触摸感应区域的导电图案包括n个重复单元图案在宽度方向上重复,且重复单元图案的宽度D满足数学公式**D=A/(n×m)**。
4. **特征H、I:** 第二布线电极单元设置在触摸感应区域**上部的侧面相邻和下部的侧面相邻**的非感应区域中(D3示出布线在左、右侧)。
**其他对比文件是否公开:**
鉴于您提供的其他对比文件(D1, D2, D4)与D3属于同一族专利,其内容实质相同。因此,**区别特征B、D、G、H、I、J-M在您提供的所有对比文件中都没有被公开或给出明确的技术启示。**
### 第五部分:对于请求方来说最薄弱的技术特征
作为您的代理师,在您计划提出无效请求时,我认为目标专利权利要求1中**最薄弱(对请求方来说最不利,最难克服)**的技术特征是那些具有极高具体限定、且在现有技术中极难找到对应启示的特征。
**特征J-M:关于重复单元图案宽度D满足数学公式 D=A/(n×m) 的限定**
这是权利要求1中**最薄弱、最难以无效的技术特征**,原因如下:
1. **现有技术无对应:** 正如比对表格所示,D3(及其族成员)完全没有提及这样的数学关系。在触摸传感器领域,虽然电极重复设置是常识,但将重复单元图案的宽度具体限定为全案统一的“感应区域宽度A”除以“数目n与n的约数m的乘积”,这是本案发明人的一种特定设计选择。
2. **技术效果明确:** 说明书(参见本案说明书[0045]段)明确解释了这一设计的目的是“最大限度地利用死区的空间”,通过具体的n和m的选择,可以将死区(布线区域)巧妙地嵌入到重复的感应区域图案之间,从而实现全案追求的“死区最小化”技术效果。
3. **难以被组合启示:** 即使能够找到具有重复单元图案的现有技术,要证明本领域的普通技术人员在没有任何明确启示的情况下,会想到将重复单元图案的宽度限定为本案所述的数学公式以实现死区最小化,其论证难度极高。这种数学限定往往被视为构成了特定技术方案的显著区别特征。
### 第六部分:进一步的检索策略建议
鉴于您提供的族文件主要侧重于多点触摸检测结构(且倾向于ITO透明膜),未涉及本案核心的死区最小化特定布线及数学限定。为了提高无效请求的成功率,我建议实施更具针对性的检索策略:
1. **聚焦“死区/布线空间最小化”主题:**
* **检索关键词:** 触摸传感器、触摸屏、Tx/Rx、布线电极、迹线(traces)、迹线区域(trace regions)、死区(dead zones)、窄边框(narrow bezel)、空间利用、最小化、优化。
* **IPC/CPC分类号组合检索:** 重点检索G06F3/041(触摸屏)及其细分类号。
2. **聚焦“电极图案重复与布线嵌入”结构:**
* **检索关键词:** 重复单元、周期性图案、n个重复、嵌入布线、嵌入式死区。
* **检索思路:** 重点寻找那些公开了触摸感应区域(尤其是单层结构)具有清晰可辨的重复图案,且迹线(布线电极)是利用重复图案之间的间隙(即死区)进行排列,且在非感应区域布局也类似于本案(上/下侧布线)的现有技术。
3. **聚焦非ITO导电图案(金属网格):**
* **检索关键词:** 金属网格(metal mesh)、细金属线(fine metal wires)、遮蔽部、敞开部、网格间距、线宽。
* **检索思路:** D3侧重ITO透明膜,而特征D涉及遮蔽和敞开的导电图案。如果能找到关于金属网格触摸屏,且利用网格间隙进行布线排列以实现死区优化的现有技术,将对特征D形成强有力的组合启示。
4. **关注相关数学公式或比例限定:**
* **检索关键词:** 公式(formula)、数学关系、比例(ratio)、宽度限定、尺寸优化。
* **检索思路:** 虽然D=A/(n×m)这个公式很难原样搜到,但可以检索那些通过引入类似的尺寸比例关系、或通过数学方法对触摸屏电极和迹线空间进行优化的文献,以此作为非技术性手段对技术效果贡献的技术逻辑论证基础。
**总结:**
综上分析,虽然可以确定D3适合做最接近的对比文件,但权利要求1中关于D=A/(n×m)的数学限定是最薄弱、最难以克服的技术特征。进一步的检索应着重寻找那些针对触摸屏(尤其是单层或金属网格结构)明确公开了特定的电极图案重复、布线电极单元的嵌入排列设计,且这些设计旨在优化迹线空间或实现窄边框技术方案的现有技术。
以上报告,供您参考。
作为一名经验丰富的专利代理师,我仔细阅读了目标专利说明书、权利要求书以及提供的四份对比文件。以下我将紧密结合专利说明书的论述,对权利要求1进行详细的解释,并在此基础上,与对比文件的原文进行逐项特征比对,指出各特征的公开情况及详细出处,最后给出创造性分析中“最接近对比文件”的选择建议、请求方最薄弱的环节以及进一步的检索策略。
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### 第一部分:权利要求1的代理师解释
权利要求1保护的是一种触摸传感器,为了准确理解其保护范围,我们必须紧密结合目标专利说明书(CN107750354B,以下简称“本专利说明书”)中的相关论述。
本专利旨在解决现有技术中触摸传感器(尤其是ITO电极、双面或桥式结构)成本高、工艺复杂、电阻大(难以做大尺寸)以及不够轻薄的问题(说明书\[0009], \[0011], \[0022])。
权利要求1的关键特征及其解释如下:
* **技术特征B(驱动/感应/布线电极位于相同表面):** 说明书强调这是“单一表面层”或“单面一片型”结构,所有的电极图案在一个表面上形成,避免了层压工艺,最小化厚度,提高透光率,并易于安装FPCB(说明书\[0016], \[0022])。
* **技术特征D(包含遮蔽部和敞开部的导电图案):** 这明确了电极不再是常规的透明导电膜(如ITO),而是由具有一定图案的导电材料(如导电金属线)构成(说明书\[0009], \[0025])。其中,设有导电图案的材料区域为遮蔽部(光学上不透明,例如透光率20%以下),没有设置的区域为敞开部(说明书\[0033]-[0034])。
* **技术特征E-F(布线电极单元分为第一、第二部分):**
* **第二布线电极单元(特征H-I):** 设置在触摸“非感应区域”(死区/边框)中,且具体限定为设置在触摸感应区域的**上部的侧面相邻**以及**下部的侧面相邻**的非感应区域中(说明书\[0032])。
* **第一布线电极单元(特征F):** 位于触摸“感应区域”(屏幕部)中,它是由“一束或两束以上的导线”构成,其功能是将感应区域内的驱动电极或感应电极连接至非感应区域中的第二布线电极单元(说明书\[0032])。这一束束导线也包括遮蔽部和敞开部(网格图案)(说明书\[0063])。
* **核心限定(特征G和J-M):重复单元图案及其宽度D的式1。**
* 构成触摸感应区域的导电图案(包括驱动、感应电极以及穿梭其中的第一布线电极单元的导线束,见说明书\[0038]、图5)具有周期性:由“n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复”构成(说明书\[0032], \[0043])。
* 这一“重复单元图案”的**宽度D**并非任意值,而是严格满足特定的数学公式:**[式1] D=A/(n×m)**。其中,A是触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,**m是n的约数**(说明书\[0040]-[0042])。
**代理师综述:** 权利要求1保护的是一种具有特定布线结构的单面触摸传感器。它利用导电金属线(遮蔽部/敞开部图案)在单一基板表面形成所有电极。其核心发明点在于,为了最大化利用感应区域内的死区(特征D提到的敞开部空间)形成迹线(第一布线电极单元的导线),使迹线线的宽度最大化,从而提高产率(说明书\[0045], \[0046]),构想出了一种具有**周期性**的布线设计,并且这一周期的宽度D被严格限定为感应区域宽度A除以重复数目n和n的约数m的乘积。这是一种数学上的具体限定,用于实现说明书所述的特定技术效果。
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### 第二部分:对比文件分析及特征比对
我们对四份对比文件进行分析。由于这四份文件(EP1745356A2, CN1942853A, JP2007533044A, AU2005246219B2)的标题均为“Multi-point touch screen”(多点触摸屏),且公开时间、申请号序列高度关联,经核对,**这四份文件属于同一专利族**(源头为US申请,均由APPLE COMPUTER, INC.申请)。
鉴于四份文件内容实质相同,在特征比对时,我们以中文文本CN1942853A(以下简称“D1”)为主进行引用,其他同族文件不再重复引用。
**对比文件D1 (CN1942853A) 分析结论:**
D1公开了一种多点电容式触摸屏。
* 它毫无异议地公开了本专利权利要求1的前序部分:包括基板(光学透射元件112, 说明书p.14 l.5)、设置在其表面上的驱动、感应电极和布线(轨迹106, 说明书p.13最后一行)以及触摸感应和非感应区域(说明书p.15 l.21-22)。
* 然而,D1在电极形态和具体布线结构上与本专利存在实质区别。D1倾向于使用ITO膜(透明导电介质, 说明书p.13 l.2)形成电极,并通过折射率匹配或填充浮动片(说明书p.18 l.3-15)来使ITO目立最小化。D1并没有公开权利要求1所限定的:驱动/感应电极也由包含遮蔽部和敞开部的导电图案构成(技术特征D);更没有公开将触摸感应区域内的布线电极(第一布线电极单元)设计为由**n个满足式1宽度的重复单元图案**在宽度方向上重复构成(技术特征G、J-M)。
以下是权利要求1与对比文件族(以D1:CN1942853A为例)的特征比对表格:
#### **特征比对表格**
| 权利要求1的技术特征 | 对比文件族(以D1为例)原文出处及比对情况 | 比对结论 |
| 一种触摸传感器,包括: | D1:CN1942853A公开了一种用于多点触摸屏的“电容传感设备72”(说明书p.12 l.2)。 | 公开 |
| 特征A:基板 | D1:说明书p.14 l.5“光学透射元件112”(对应图6)。p.18 l.1“基底”(对应图9)。 | 公开 |
| 特征B:设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元; | D1:(互电容实施例):驱动线152A和感应线152B通常设置在光学透射元件156的相反面上(图9, 说明书p.18 l.5-7);(自电容实施例):电极102和轨迹106(布线)设置在元件112上(图6, 说明书p.13最后一行),但此实施例中不区分驱动和感应电极单元。因此,D1并未毫无异议地公开所有三种电极位于“相同表面”。 | 未实质公开 |
| 特征C:其中,所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域; | D1:说明书p.15 l.21-22描述了电极位于行116上,行延伸到触摸屏100两侧(形成布线/非感应区域)。p.18 l.3“非活性区域”(死角)。 | 公开 |
| 特征D:所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案; | D1:说明书p.13 l.2明确指出:静电容量感知节点42用一种“透明导电介质形成,例如氧化铟锡(ITO)”。p.18 l.13提到“ITO材料”。ITO是透明材料,不符合“包含遮蔽部和敞开部的导电图案”(本专利说明书解释为光学上不透明区域)。 | 未公开 |
| 特征E:所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元; | D1:(自电容图6)布线电极(轨迹106)是直接从各个电极102通过其间的间隙引导到触摸屏两侧(非感应区域)。因此,在感应区域内的间隙(敞开部)中确实存在布线电极(技术特征解释中的第一布线电极单元)。 | 实质公开 |
| 特征F:所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线; | D1:(图6)电极102通过其间的轨迹106连接到非感应区域。说明书p.14 l.15提到“传感IC可以直接位于元件112上,从而省略了挠性电路”。这意味着布线电极(导线)在感应区域内运行并将电极连接至外部。 | 实质公开 |
| 特征G:构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复; | D1:(图6)虽然电极102呈阵列排列,但D1并没有公开感应区域内的导电图案具有特定的“重复单元图案”,更没有提到这种重复是权利要求1所限定的具有特定宽度D的周期性结构。D1的布线是通过电极间的“间隙108”随机或根据电极位置导出的(说明书p.13 l.15)。 | 未公开 |
| 特征H:所述第二布线电极单元设置在:被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中;相邻的触摸非感应区域中; | D1:说明书p.15 l.21-22描述轨迹106被引导到触摸屏的“右侧”和“左侧”的传感器IC。这不对应“上部的侧面相邻”。 | 未公开 |
| 特征I:被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中;相邻的触摸非感应区域中; | D1:比对同上,D1公开的是将轨迹引导至左侧和右侧。 | 未公开 |
| 特征J-M(式1 D=A/(n×m)限定宽度): | D1:没有任何关于感应区域内导电图案重复单元宽度的数学公式限定描述。 | 未公开 |
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### 第三部分:创造性分析之“最接近对比文件”的选择
在进行无效请求或创造性分析时,选择合适的“最接近对比文件”至关重要。
**候选文件分析:**
如前所述,对比文件1-4(EP1745356A2, CN1942853A, JP2007533044A, AU2005246219B2)为同一专利族文件,实质内容完全相同。均属于触摸传感器(多点触摸屏)领域。
**整体解决的技术问题与技术效果分析:**
* **本专利:** 旨在改善触摸传感器的制造工艺(单面一片型),利用金属网格等导电图案(特征D)解决电阻大和成本高的问题,并通过在感应区域内设计特定的具有**数学公式(式1)**限定周期的布线重复单元结构(特征G-M),来解决“使感应区域内的死区空间最小化,使各个迹线线的宽度最大化,提高产率”的具体布线设计问题(说明书\[0045], \[0046])。
* **对比文件族(D1):** 旨在提供一种具有透明电容传感介质、能检测多点触摸的触摸面板(说明书\[0016])。为了解决电极引线太多导致非活性区域(边框)太宽或透光率下降的问题,它提出利用电极间的间隙引线(特征E、F),并且**倾向于在间隙填充Dummy电极或整合凝胶(Dummy features 204)**来使得ITO电极目立最小化(说明书p.18 l.3-15)。
**最接近对比文件的选择建议:**
从解决的技术问题和技术效果来看,**本专利族文件均不适合单独作为“最接近的对比文件”**。
理由如下:对比文件族倾向于传统的全透明电极(ITO),虽然为了解决布线问题利用了电极间隙,但其技术路径是尽可能隐藏ITO电极间的视觉差异,这与本专利明确限定使用有“遮蔽部和敞开部”的“导电图案”(对应金属网格)完全不同。更重要的是,对比文件族是根据电极位置导出布线,完全没有提及或暗示感应区域内的导电图案需要满足基于数学公式(A/(n*m))的周期性重复结构这一本专利的核心特征。
**更合适的检索方向:** 为了对权利要求1进行创造性评价,检索策略不应局限于对比文件族所代表的早期ITO触摸屏技术。更合适的“最接近对比文件”应当是那些**涉及使用导电金属线(如纳米银、金属网格,从而对应特征D)形成单面触摸传感器**的技术文献。
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### 第四部分:无效请求薄弱环节及进一步检索策略
作为请求方的代理师,基于上述特征比对表格,可以清晰地指出:**最薄弱的技术特征即为本专利的核心发明点——数学限定特征(J-M)。**
**最薄弱技术特征分析:**
特征J-M限定了“重复单元图案的宽度D由下面的式1表示;[式1] D=A/(n×m);在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,**m是n的约数**”。
这是一个具体的**布线周期数学设计特征**。从代理师的角度看,要论证该特征是显而易见的,其技术门槛很高。仅仅检索到具有周期性布线的触摸屏是不够的,必须检索到技术文献,其中不仅使用了遮蔽部/敞开部电极(金属网格),而且为了优化布线产率,**明确记载了将布线周期的宽度设计为感应区域宽度除以重复数目n和n的约数m**,或者至少记载了这种设计路径是一种常规的产率优化数学模型。这很难论证。
**进一步的检索策略:**
1. **关键词微调:** 放弃单一的Apple族文件检索方向。进一步检索策略应侧重于“金属网格”(Metal Mesh)、“纳米银”(Silver Nanowire)、“不透明导电图案”(Opaque Conductive Pattern)与“周期性布线”(Periodic Routing)、“布线周期优化”(Routing Pitch Optimization)、以及产率优化数学模型(Mathematics for Yield)的结合。
2. **IPC分类号:** 重点检索包含上述技术的IPC分类号,例如H01H 13/70, G06F 3/041, G06F 3/044等。
3. **专利申请人:** 重点关注在金属网格触摸屏技术上布局较多的申请人,如:韩系申请人(如三星、LG),因为说明书提到申请要求了韩国优先权,优先权文本可能包含更具体的数学背景信息;或者是日系(日东电工、住友化学)、中系(BOE)和中国台湾申请人(TPK)。
4. **非专利文献:** 鉴于特征J-M是具体的数学限定,可以寻找专门讨论导电网格设计中防止莫列波纹、布线阻抗匹配或产率优化的学术论文或半导体工艺、触摸屏设计手册,寻找是否有类似数学公式的使用惯例。
综上所述,对比文件族并未实质公开权利要求1中关于金属网格形态、特定上下侧非感应区布线、特别是基于式1的数学限定的布线周期结构。若要对本专利权利要求1进行无效请求,请求方必须在“导电金属网格”背景下,针对上述具体的数学限定特征进行深度检索,否则创造性攻击很难成功。
Patently,
[您的名字/代理师代号]
专利代理师
作为一名经验丰富的专利代理师,我针对目标专利(授权公告号:CN107750354B)的权利要求1,结合目标说明书及四份对比文件(D1至D4)进行了深度的无效/创造性论证分析。以下是详尽的分析报告:
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## 一、 权利要求技术方案与说明书意图解读
目标专利权利要求1的核心发明点在于**单面一片型(Single-layer)电容式触摸传感器**的图案设计。
根据目标说明书第 `[0016]`、`[0022]` 及 `[0045]` 段的记载,现有技术通常采用双层或桥接结构,导致成本高、厚度大。本方案将驱动(Tx)、感应(Rx)和布线电极设置在基板的“相同表面上”,并通过引入网格导电图案的“敞 open 部”与“遮蔽部”实现电隔离。
其最具创造性的控制手段在于**特征J~M(式1:$D = A / (n \times m)$)**。说明书第 `[0045]` 段指出,当触摸感应区域的宽度为 $A$ 时,水平方向存在周期性的重复单元图案,为了最大限度地利用死区(触摸非感应区域)的空间,通过该数学比例关系精确限定了重复单元图案的宽度 $D$。此举能够使限定的死区内位于轴向上的迹线数目最小化,从而使各迹线线宽最大化,提升通道产率并避免莫列波纹。
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## 二、 技术特征与对比文件原文特征比对表格
以下将对比文件分别简称如下:
* **D1**:WO2012128893A1
* **D2**:WO2012134026A1
* **D3**:JP2012215501A
* **D4**:KR101233479B1
### 权利要求1技术特征比对表
| 目标专利权利要求1的技术特征拆解 | D1 (WO2012128893A1) | D2 (WO2012134026A1) | D3 (JP2012215501A) | D4 (KR101233479B1) |
| 特征A:一种触摸传感器,包括:基板 | 完全公开<br>见 [0036]: substrate 12 | 完全公开<br>见 [p30]: 기판(110) | 未公开<br>(属地质探查领域) | 完全公开<br>见 [p35]: 터치 화면(36) |
| 特征B:设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元 | 完全公开<br>见 [0037],[0042]: electrodes 18, 20 and primary traces 26 on same plane | 完全公开<br>见 [p15],[p38]: 동일한 면에 배치 | 未公开 | 部分公开<br>仅提及自体电容可能同面 |
| 特征C:其中,所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域 | 完全公开<br>见 [0036]: central (active) portion 14 and outer (bezel) portions 16 | 完全公开<br>见 [p35],[p44]: 감지 영역(160) 및 베젤 영역 | 未公开 | 完全公开<br>见 [p35]: 가시 영역 및 에지 |
| 特征D:所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案 | 实质公开<br>见 [0087]: formed using alternative conductive materials such as metal mesh | 未公开<br>(仅提及ITO透明材料) | 未公开 | 未公开<br>(常规ITO) |
| 特征E:所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元 | 完全公开<br>见 [0050]: primary traces 26 extend across substrate into outer portions 16 | 完全公开<br>见 [p35]: 배선 패턴(150)이 감지영域 및 베젤에 배치 | 未公开 | 完全公开<br>见 [p40]: 전극들과 트레이스 |
| 特征F:所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线 | 完全公开<br>见 [0050]: primary traces 26 connected to 18 or 20 extend into outer portions | 完全公开<br>见 [p35]: 전극과 연결되는 배선 패턴 | 未公开 | 完全公开<br>见 [p40]: 트레이스는 전극들을 연결 |
| 特征G:构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复 | 实质公开<br>见 [0038],[0055]: Rows and columns array of inter-digitated electrodes | 部分公开<br>仅公开阵列排布,未强调“宽度方向重复” | 未公开 | 完全公开<br>见 [p40]: 격자 배열을 형성하도록 |
| 特征H:所述第二布线电极单元设置在:被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中 | 完全公开<br>见 [0052]: primary traces for first electrodes extend into upper region on the left | 完全公开<br>见 [p35],[p48]: 좌우 베젤 영역에 배치 | 未公开 | 部分公开<br>常规四周走线 |
| 特征I:以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中 | 完全公开<br>见 [0052]: remaining primary traces extend into outer portion on the right | 完全公开<br>见 [p35],[p48]: 좌우 베젤 영역에 배치 | 未公开 | 部分公开<br>常规四周走线 |
| 特征J~M:重复单元图案宽度 $D$ 的式1定量关系:$D = A / (n \times m)$ 及约数限定 | 未公开 | 未公开 | 未公开 | 未公开 |
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## 三、 对比文件公开情况详细评述
### 1. D1 (WO2012128893A1) — 毫无异议公开/实质公开了绝大部分构型特征
D1公开了一种单层电容式触摸传感器,其明确公开了**特征A、B、C、E、F、H、I**。
* **关于特征B(同面设置)**:D1第 `[0042]` 段明确指出:“The first electrodes 18, the second electrodes 20, and the primary traces 26... have substantially the same thickness... and lay in substantially the same plane.”(驱动、感应电极及主引线厚度相同且位于同一平面)。
* **关于特征D(遮蔽部与敞开部)**:D1第 `[0087]` 段公开了导电图案可采用“metal mesh”(金属网格)或“silver nano-wires”。对于本领域技术人员而言,金属网格由不透光的金属线(遮蔽部)和网格空隙(敞开部)构成,属于**实质公开**。
* **关于特征H、I(上下/左右侧面双边布置)**:D1第 `[0052]` 段指出,部分线延伸至左侧外围区域(上部区域),其余延伸至右侧外围区域(下部区域),其上下/左右的交错布线架构与特征H、I高度吻合。
### 2. D2 (WO2012134026A1) — 实质公开了单层同面走线拓扑
D2是一篇关于利用递归算法消除触摸屏配线耦合噪声的专利。它公开了在基板(110)的同一面(동일한 면)上配置驱动电极和感应电极(特征A、B、C、E、F)。但D2通篇使用常规ITO透明导电膜,**未公开特征D(网格图案的遮蔽与敞开部)**,也完全**未涉及特征G~M**的数学比例几何排布。
### 3. D3 (JP2012215501A) — 完全未公开相关特征
D3属于地下或结构物内“埋设物探查方法及装置”(如雷达、地下管线探测),其技术领域、所解决的技术问题(如何避免偶极子天线方向性导致的探测盲区)与半导体/微电子触摸传感器完全不同。**D3未公开权利要求1的任何技术特征。**
### 4. D4 (KR101233479B1) — 公开了阵列化多点触摸结构,未公开关键公式
D4公开了一种基于分水岭算法(Watershed algorithm)解算多点触摸重心的电容屏。虽然公开了感应节点的阵列化格栅排布(特征G),且给出了质心计算公式(如 $Xc = \sum Z \times x / \sum Z$),但这与本目标专利限制死区宽度的物理排布公式完全无关。**D4未公开特征J~M。**
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## 四、 最接近对比文件的分析与筛选
在创造性评述过程中,**D1(WO2012128893A1)** 最适合作为**最接近的对比文件(主要最接近对比文件)**。
* **从整体解决的技术问题角度分析**:目标专利旨在解决单面一片型触摸传感器中,因Tx/Rx同面排布导致外围布线(死区)占据过多空间、难以高产率量产、易产生电磁干扰及莫列波纹的问题。D1同样致力于“reduce the number of layers, and thus the manufacturing costs... wiring scheme that minimizes the number of wires”(减少层数降低成本,并最小化引线死区空间)。两者面临的核心工程瓶颈完全一致。
* **从技术效果角度分析**:D1通过引入金属网格(metal mesh)和双侧交错互补型引线拓扑(Side bezel topology),达到了变窄外围死区、提高电阻透光率平衡的技术效果。这与目标专利说明书第 `[0016]` 和 `[0045]` 段所述的“使厚度最小化、易于粘附FPCB、使死区空间利用最大化”的效果高度方向性一致。
因此,D1公开了权利要求1的大部分核心架构特征,构成了本发明的技术起点。此外,**D2** 在单层同面电路排布上也可作为辅助的接近对比文件,但由于其未公开网格图案,其优先度低于D1。
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## 五、 剩余特征的公开情况
经检索和上述特征比对,没有任何一个对比文件(D1~D4)公开了以下特征:
> **特征J~M**:`所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示;[式1] D=A/(n×m);在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,m是n的约数。`
也就是说,将触摸感应区的周期性单元宽度 $D$ 与总体宽度 $A$、节点数 $n$ 及 $n$ 的约数 $m$ 进行定量比例缩放的设计,在现有四份对比文件中均**不存在公开暗示**。
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## 六、 诉讼/无效请求中最薄弱的技术特征
对于无效请求方而言,整个技术方案中**最薄弱(即最难被成功无效掉、对专利权人最稳固)的技术特征**是**特征L和M(即公式 $D = A / (n \times m)$ 及其变量含义限定)**。
### 原因分析:
1. **现有技术无任何公开或暗示**:本领域中关于引线宽度的调整,通常仅做定性描述(如D1的“minimize the trace widths and the space”)。而目标专利将其上升为与“单元重复数量 $n$ 的约数 $m$”挂钩的精确公式。在现有证据链中,无法通过D1+D2+D4的简单结合推导出来。
2. **规避突显了“预料不到的技术效果”**:根据目标说明书第 `[0045]` 和 `[0046]` 段,当满足该特定比例公式时,可以引入一种“半反射镜设计”,使限定死区内 $x$ 轴方向的迹线数目绝对最小化,从而让各迹线的可布线宽度最大化。这种定量的几何优化手段在规避莫列波纹和维持电导率平衡上具有显著的进步,极易被审查员认定为具备创造性。
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## 七、 进一步的检索策略
鉴于目前的证据链在特征J~M上存在明显的漏洞,若要成功无效该权利要求1,必须调整检索策略,补充针对该定量特征的突击证据:
1. **调整检索关键词,强化“几何比例”与“光学干涉(莫列波纹)规避”结合的检索**:
* 利用分类号结合:将触摸屏分类号(`G06F3/044`)与网格形貌设计或数学公式分类号(`H01L`、`G02B`)交叉。
* 关键词扩展:`(约数 OR 因数 OR 模数 OR 周期性 OR 分数倍) AND (宽度 OR 间距 OR 死区 OR 迹线) AND (莫列波纹 OR 周期干扰 OR 衍射)`。英文检索词推荐:`(divisor OR factor OR multiplier OR "sub-pixel pitch") AND (moiré OR interference) AND (bezel OR trace OR "dead zone")`。
2. **重点追踪目标专利发明人/专利权人的学术背景与关联申请**:
* 该专利带有强烈的学术几何理论推导色彩。应深度检索该韩国优先权日(2015年6月14日)前后,LG、三星或相关韩国高校在该领域的同族申请、甚至学术论文。某些前置的研究论文或小众国际会议(如SID Display Week)的摘要中,极有可能包含该图案排布的数学推导原型。
3. **向液晶显示器(LCD)“黑客网格/遮光区”及防伪印刷领域延伸检索**:
* 触摸屏的金属网格(metal mesh)所遇到的莫列波纹问题,本质上与LCD彩色滤光片(Color Filter)的BM(Black Matrix)网格重叠引起的干涉完全一致。在2012-2015年间,关于防莫列波纹的CF网格设计(如利用约数或互质步长排布)已有大量专利,可尝试通过**跨界转换(非独立权利要求无效的常规手段)**,证明将该公式应用于触摸屏布线属于同类光学领域的“公知常识”或“惯用技术手段”的等同替换。
尊敬的委托人:
作为一名经验丰富的专利代理师,我仔细研读了您提供的目标专利说明书(授权公告号:CN107750354B)以及四份对比文件。针对您提出的要求,我将紧密结合目标专利的说明书公开内容,对权利要求1进行深入的技术特征比对和创造性分析,并提供相应的检索策略。
以下是详细的分析报告。
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### 第一部分:权利要求1的技术特征拆解与解释
基于目标专利说明书的公开内容,权利要求1的技术特征可以被划分为以下13个具体特征,其详细含义解释如下:
* **特征A:一种触摸传感器,包括:基板**
* **代理师解读:** 这是触摸传感器的基础部件。说明书第[0034]段提到了基板,图5中的12即为基板。
* **特征B:设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元**
* **代理师解读:** 这限定了单面一片型(Single-sided, single-piece)结构。驱动(Tx)、感应(Rx)和布线(Trace)电极都在同一个面上,无需多层层压或双面制作。说明书第[0013]、[0016]和[0096]段对此进行了强调,这是目标专利旨在降低成本和厚度的核心设计之一。
* **特征C:其中,所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域**
* **代理师解读:** 定义了传感器的功能分区。感应区域用于检测触摸,非感应区域(通常指周边的死区/边框)用于布线。图5和图6示意性地示出了这种分区。
* **特征D:所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案**
* **代理师解读:** 这限定了电极的微观结构为网格(Mesh)图案,而非致密的透明导电膜(如ITO)。“遮蔽部”指导电材料(如金属线)覆盖的区域(不透明),“敞开部”指未覆盖区域(透明)。说明书第[0034]段明确了解释,第[0005]、[0025]段提到使用金属网格替代高电阻的ITO。
* **特征E:所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元**
* **代理师解读:** 这是对布线电极位置的特殊限定。不仅在边框(非感应区域)有布线(第二布线电极),在用来触摸的感应区域内部也存在布线(第一布线电极)。说明书图5、图6和第[0045]段描述了Tx图案通过死区形成迹线(trace)连接,这些死区位于感应区域内。
* **特征F:所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线**
* **代理师解读:** 限定了第一布线电极单元的功能,即作为感应区域内Tx或Rx电极与外部边框布线之间的桥梁。
* **特征G:构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复**
* **代理师解读:** 这限定了感应区域内导电图案的宏观排布具有周期性。图5和图6直观地示出了这种在水平(X轴/宽度)方向上的重复排布。
* **特征H:所述第二布线电极单元设置在:被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中**
* **特征I:被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中**
* **代理师解读(H+I):** 这限定了外部边框布线(第二布线电极单元)相对于感应区域的具体空间位置。根据目标专利说明书图5,第二布线电极(连接至FPCB接合部)不仅位于感应区域上方的侧面(上边框),还位于下方的侧面(下边框)。特征H和I描述的是这两种位置的集合。说明书第[0013]段也确认了这种“双侧(上下)相邻”的排布。
* **特征J:所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示**
* **特征K:[式1]**
* **特征L:D=A/(n×m)**
* **特征M:在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,m是n的约数。**
* **代理师解读(J+K+L+M):** 这是对重复单元图案宽度D的一个数学公式限定。其中A是感应区域总宽度,n是重复单元总数,D是单个重复单元的宽度。公式$D = \frac{A}{n \times m}$(m是n的约数)实际上表明,为了便于设计重复和提高便利性,重复单元的宽度D是感应区域总宽度A的一个特定分数值。这个数学特征在说明书第[0041]段被引入。
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### 第二部分:各对比文件原文特征比对表格
以下表格详细列出了目标专利权利要求1的各项技术特征,与四份对比文件(D1-D4)的原文排定比对情况。
* **符号说明:**
* `+`:毫无异议地公开(明确记载)
* `-`:未公开
* `/-`:实质公开或容易联想到,但在原文中未找到完全一致的表述(将在第三部分详细分析)
| 权利要求1的技术特征 | D1 (CN102985900A) | D2 (US20130081869A1) | D3 (US20130106780A1) | D4 (US20130127775A1) |
| A:基板 | + | + | + | + |
| B:设置在基板的相同表面上的驱动、感应和布线电极单元(单面一片型) | + | +/- | - | + |
| C:包括触摸感应区域和触摸非感应区域 | + | + | + | + |
| D:驱动、感应和布线电极均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案(金属网格) | +/- | +/- | +/- | + |
| E:布线电极包括感应区域内的第一布线电极和非感应区域内的第二布线电极 | - | + | - | +/- |
| F:第一布线电极包括连接驱动/感应电极至第二布线电极的导线(感应区内迹线) | - | + | - | +/- |
| G:n个重复单元图案在感应区域宽度方向上重复(X轴周期性) | - | + | - | - |
| H:第二布线电极设置在与感应区域上部的侧面相邻的非感应区域中 | +/- | - | +/- | - |
| I:被设置为与触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中 | +/- | - | +/- | - |
| J:重复单元图案宽度D由式1表示 | - | - | - | - |
| K:[式1] | - | - | - | - |
| L:D=A/(n×m) | - | - | - | - |
| M:A感应区宽度,n重复单元数,m是n约数 | - | - | - | - |
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### 第三部分:对比文件毫无异议公开或实质公开的技术特征分析
紧密结合各对比文件原文,对上述表格中认定为`+`或`+/-`的特征进行详细分析及详细出处引述。
#### 1. D1: CN102985900A 单层触摸传感器 (公开日: 2013-03-20)
**毫无异议公开的技术特征:**
* **特征A:基板。**
* 原文出处:图3,基板12。
* **特征B:设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元。**
* D1明确公开了“单层”结构。原文出处:[0038]“提供了...单层有效区域的触摸传感器设备...将电信号按规定路线发送...作为结果,总的制造成本可被降低。” [0046]“第一电极18、第二电极20和主迹线26可由铟锡氧化物(ITO)制成,且可以以实质上平面的方式形成。也就是说...实质上位于同一平面中。” 这里TX(第一电极)、RX(第二电极)和迹线都在同一个ITO层。
* **特征C:触摸感应区域和触摸非感应区域。**
* 原文出处:[0039]“基板12具有中心(或有效)部分14和在中心部分14的相对侧上的...外侧(或边框)部分16。基板12的中心部分14可对应于触摸传感器设备2(图1)的可见区域,且基板12的外侧部分16可对应于触摸传感器设备2的不可见区域6。”
**实质公开或可直接导出的技术特征:**
* **特征D:驱动、感应和布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案。**
* 虽然D1的首选实施例使用ITO致密膜([0046]),但也公开了使用金属网格。原文出处:[0091]“在其它实施方式中,可通过使用可选的导电材料例如金属网布置传感器电极来形成传感器...通过在PET基板上布置金属网电极来形成电极。” 金属网格必然包含有遮蔽部(金属线)和敞开部(透明空隙),因此该特征被实质公开。
* **特征H+I:第二布线电极单元设置在与触摸感应区域的上/下部的侧面相邻的触摸非感应区域中。**
* 原文出处:图3,以及[0056]“第一电极18的主迹线26被布置成使得一些朱迹线(例如,对于中心部分14的上部区域中的第一电极18)延伸到左边的外侧部分16中,而其余的主迹线26(例如,对于中心部分14的下部区域中的第一电极)延伸到右边的外侧部分16中。” 虽然D1图3的主迹线走线是到“左侧边框”和“右侧边框”,而非目标专利明确的“上侧”和“下侧”,但对于单层传感器而言,根据具体的长宽比和端口位置,将布线布设在任意两个相对的边框(如上下,或左右)是属于本领域普通技术人员的常规选择。通过简单的90度旋转即可实现。因此,特征H和I所代表的在感应区域“两侧(如上下)”设置外部布线的排布,对于单层传感器而言是可以直接导出的常规设计,被实质公开。
**未公开的核心特征:**
* D1的感应区域(中心部分14)内只有梳状或E形的主电极,**未公开布线电极位于感应区域内部(特征E、F)**,也未提及宽度方向上的n个重复单元及其周期性(特征G),更未涉及数学公式D=A/(n×m)(特征J-M)。
#### 2. D2: US20130081869A1 TOUCH SENSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME (公开日: 2013-04-04)
**毫无异议公开的技术特征:**
* **特征A:基板。**
* 原文出处:[0036]“transparent substrate 100... toughened glass, acrylic resin...”。
* **特征C:触摸感应区域和触摸非感应区域。**
* 原文出处:[0037]“The transparent substrate 100 includes a touch sensing region 140 and a peripheral region 150.”。
* **特征E:所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元。**
* 这是D2的核心特征。原文出处:[0039]“The first wirings 160... may be formed in the touch sensing region 140.” [0076]“The metal wirings 180... may be disposed in a peripheral region 150...”。这里在感应区域内的wirings 160对应特征E的第一布线电极,在外围区域的wirings 180对应第二布线电极。
* **特征F:所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线。**
* 原文出处:[0080]示意了FPC板(相当于外部布线,实现特征E的第二布线电极的功能)放置在感应区域的“一侧(side)”和“另一侧(another side)”。感应区内的迹线(first wirings 160)将电极(特征F的感应单元)连接至这些FPC外部布线(特征F的第二布线单元)。
* **特征G:构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复。**
* 原文出处:图2示意了电极和感应区内迹线(111+123+160)组成的特定单元结构在水平(宽度)方向上进行周期性重复排布。这种排布完全对应特征G。
**实质公开的技术特征:**
* **特征B:设置在基板的相同表面上的驱动、感应和布线电极单元(单面一片型)。**
* 虽然D2的首选实施例描述了两个不同的布线层([0011]),也描述了在透明基板的两面分别制作电极的实施例(特征D的金属网格情况),但在描述其核心设计时,原文明确提到:原文出处:[0043]“The column electrodes 111, the patch electrodes 123, the first wirings 160 and the second wirings 133 may be formed as a single piece or pattern... on substantially the same layer.” 这里电极(111, 123)和感应区域内迹线(160, 133)是在同一个面的同一个ITO层制作的。虽然它在描述金属布线180时提到了在室温制作([0048]),这可能暗示需要额外的工艺步骤,但对于单层触摸传感器,本领域普通技术人员基于[0043]段的启示,很容易想到将wirings 180也采用与电极相同的透明导电材料(如ITO)在同一个面上一次性制作完成,从而实现彻底的“单面一片型”。因此,特征B被实质公开。
* **特征D:驱动、感应和布线电极均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案(金属网格)。**
* 原文出处:[0043]段末尾提到了“metal nanowires...conductive polymers”,这些材料制成的电极通常具有网格或丝状微观结构,必然包含遮蔽部(导电体)和敞开部(透明空隙)。因此特征D被实质公开。
**未公开的核心特征:**
* **特征H+I:上下双侧相邻布线。** D2图2和[0080]段描述外部布线放置在触摸感应区域的“一侧”和“另一侧”。在单层传感器布线技术中,这暗示走线通常是拉通到“左右”两个边框,而非目标专利明确的“上下”两个边框(参考D1的左右边框布线)。
* **特征J-M:数学公式限定。** D2完全未提及通过公式$D = A/(n \times m)$来限定重复单元的宽度D。
#### 3. D3: US20130106780A1 MULTIPOINT TOUCHSCREEN (公开日: 2013-05-02)
**技术特征分析:**
D3主要涉及互电容触摸屏,强调驱动线和感应线交织形成电容节点(特征D的金属网格交织,例如[0044]、图9),且其说明书公开内容主要集中在电极结构和信号处理算法上(例如,[0105] centroid calculation)。其未对边框布线排布(特征H、I)或感应区域内的迹线布局(特征E、F)进行详细的排定排布描述。因此,D3仅毫无异议公开了**基板(特征A)**和**触摸感应区域与非感应区域(特征C)**,对于其他核心布线特征和重复单元特征均未明确公开。
#### 4. D4: US20130127775A1 Single-Layer Touch Sensor with Crossovers (公开日: 2013-05-23)
**毫无异议公开的技术特征:**
* **特征A:基板。**
* 原文出处:图1,基板(虽然未标号,但在说明书[0009]中提到"disposed on one or more substrates")。
* **特征B:单面相同表面结构。**
* 原文出处:[0016]“Touch sensor 10 may have drive and sense electrodes disposed in a pattern on one side of a single substrate.” [0026]“interconnected in a second direction... formed using a single layer of conductive material on the same plane, i.e. coplanar.” 这里明确公开了TX和RX在单基板的同一个面上。
* **特征C:感应区域和非感应区域。**
* 原文出处:[0019]段提到tracks 14延伸入或围绕“touch-sensitive area(s)”,这对应感应区域,Tracks拉通到的外围区域对应非感应区域。
* **特征D:驱动、感应和布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案(金属网格)。**
* 原文出处:[0010]“conductive material of an electrode may occupy approximately 5% of the area of its shape, as described below... made of fine lines of metal...”。[0019]也提到tracks(布线)由精细金属线制成。图2A-2C明确示出了包含精细金属线(遮蔽部)和大量空隙(敞开部)的金属网格图案。
**实质公开的技术特征:**
* **特征E+F:感应区域内布线。**
* D4的核心设计是利用桥接(crossover)来实现单层单面制作。其Tx电极(40)和Rx电极(42)位于同一ITO层(参考[0026]、图3B)。Rx电极本身具有复杂 Snowflake 图案(图3B),这些位于感应区域内部的复杂Rx电极图案(特征F的感应单元)将Tx电极在水平和垂直方向上“拉通”,实现了信号从一个驱动节点传递到另一个驱动节点。虽然D4没有显式标出一个名为“第一布线电极”的非电极单元,但这些在同一层面上通过SnowflakeRx图案实现Tx电极级联的设计,在实质上起到了目标专利中“第一布线电极单元(在感应区内桥接连接)”的作用。原文中复杂的SnowflakeRx图案电连接至外部Tracks14,Tracks14再连接到控制器pad16(外部布线特征E的第二布线单元),从而实质公开了特征E和F。
**未公开的技术特征:**
* D4的Tx、Rx结构是 Snowflake 图案交叉排布,**未公开在感应区域宽度方向上进行n个简单重复单元排布(特征G)**,也未涉及数学公式D=A/(n×m)(特征J-M)。
* D4未明确限定Tracks走线是上下双侧边框(特征H、I)。
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### 第四部分:最接近对比文件的分析
基于上述特征比对,从整体解决的技术问题以及技术效果角度分析,以下对比文件适合在创造性分析中做最接近的对比文件。最接近的对比文件可以有多个:
#### 最接近对比文件1:D2 (US20130081869A1)
* **技术领域和问题:** D2也涉及单层触摸传感器,旨在减少 bezel region 的尺寸并解决单层ITO电阻高、易受噪声干扰的问题([0010]-[0012])。原文通过采用感应区内迹线(virings 160)将Tx/Rx电极级联,将大面积的外部布线通过FPC的方式贴附在感应区两侧的基板上,通过折叠方式来减小窄边框尺寸。这与目标专利利用单层网格结构、内部布线来减小厚度和成本,提高窄边框设计灵活性的技术问题非常接近。
* **技术特征覆盖度:** D2毫无异议地公开了权利要求1的最核心区别特征——**感应区域内也设有布线(特征E、F)**,并且明确记载了这套复杂的“电极+感应区内布线”的单元结构在宽度方向上的周期性重复(特征G)。它也实质公开了单面一片型(特征B)和金属网格结构(特征D)。
* **作为最接近对比文件的理由:** 本领域普通技术人员在解决如何在单层、金属网格结构、单面一片型触摸传感器上实现极窄边框的技术问题时,最先能够想到的是在感应区域内部也设置布线(正如目标专利所做的),这在D2中已经有了明确的教导。因此,基于D2出发,权利要求1的技术方案(除了上下双侧边框布线布设和数学公式限定)已经具备了初步的技术启示。
#### 最接近对比文件2:D1 (CN102985900A)
* **技术领域和问题:** D1是最常规的单层触摸传感器,旨在通过梳状和E形主电极实现单层多点触摸,同时减少迹线数量以降低成本([0038])。原文也实质公开了金属网格结构([0091])。它所解决的降低制造成本和单层制作的技术问题与目标专利高度一致。
* **作为最接近对比文件的理由:** 在专利无效程序中,请求方可以主张一种更常规、更简单的出发点。D1代表了最通用的单层传感器排布。其 TX、RX 梳状结构和左右相对的边框布线设计也是本领域的惯用手段。基于 D1,权利要求 1 的 TX、RX 具体 Snowflake 排布和感应区内布线设计可以被视为针对常规电极结构的特定改良,而上下边框布线则是对左右边框布线的简单等同替换。
**结论:创造性分析中,可以分别从D2出发和从D1出发来主张无效请求。**
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### 第五部分:对于请求方来说最薄弱的技术特征
根据特征比对表格和最接近对比文件分析,目标专利权利要求1中未被最接近对比文件公开、且最薄弱、最容易被本领域普通技术人员视为常规替换或特定选择的技术特征是:
* **特征H+I:被设置为与所述触摸感应区域的上/下部的侧面相邻的触摸非感应区域。**
* **薄弱理由:**
1. **D1已实质公开相对侧边框布线。** 如前所述,D1图3和段落[0056]明确教导单层传感器的迹线可以布设在感应区域的“左边”和“右边”两个相对的边框中。
2. **简单等同替换或旋转。** 对于任何具有四条边的触摸屏而言,将布线布设在左右两个相对侧,或者上下两个相对侧,通常是基于最终产品的接口位置(顶部或底部FPC接口)而做的等同替换。如果D1将传感器整体旋转90度,或者将其电极主轴方向从水平改为垂直,其布线就会自然地布设在上下两个边框。
3. **D2的“两侧”教导。** D2虽然未明确说“上下”,但其[0080]段提到了外部外部布线放置在触摸感应区域的“一侧”和“另一侧”,这为选择任何一对相对侧边框(如上下)提供了暗示。
* 综上,特征H+I所限定的上下双侧相邻布线,是在单层传感器技术中将布线布设在感应区任意两个相对边框的常规、等同技术手段选择,不具备突出的实质性特点。
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### 第六部分:进一步的检索策略
鉴于目前的特征比对结果,权利要求1中的**数学公式特征(特征J-M)**尚未在四份对比文件中找到明确的记载。虽然专利代理师可以主张这种 D=A/(n×m) 的公式化限定仅代表了一种规整、易于周期性复制的常规设计选择,但如果能补充更具有针对性的对比文件,无效请求的成功率将大大提高。
以下是针对目标专利核心区别特征的进一步检索策略:
1. **关键词组合检索(针对数学公式和周期性):**
* **检索思路:** 重点寻找直接描述通过特定数学比例或公式来设计触摸传感器周期性重复单元宽度的文献。
* **关键词:** * (touch sensor, touch screen) AND (unit cell, repeatable pattern, periodic pattern) AND (width, D, A, n, formula, equation, formula 1, relation, D=A/n*m)
* AND (single-sided, single layer, mesh, grid)
* **意图:** 补充针对特征J-M的明确教。
2. **针对单层网格结构内部布线的补充检索:**
* **检索思路:** 针对目标专利单层网格、内部布线、单面一片型的核心,进一步检索D2和D4之外的替代方案,寻找更干净的“第一布线电极”实施例。
* **关键词:**
* (single-sided, single layer, one layer, coplanar) AND (touch sensor, touch screen) AND (mesh, grid) AND (trace-in-cell, in-sensing-area trace, inner trace, routing-in-sensing-area)
* **意图:** 补充针对特征E和F的更清晰文献记载。
3. **专利族及引证检索:**
* **检索思路:** 检索目标专利授权公告号(CN107750354B)对应的韩国优先权申请(KR1020150083804)的专利族(如有US、WO申請),并在其专利局审查记录(File Wrapper)中查看审查员是否引证了更具有杀伤力的对比文件,特别是针对公式特征的引证。同时,对目标专利进行后引证检索,查看是否有后续申请将该申请作为对比文件并对类似特征(如公式限定)进行了常规手段认定。
* **专利申请人/发明人检索:** 对目标专利的申请人 LG Chem, Ltd. 在相关时间段(2014-2016年左右)提交的单层触摸传感器专利申请进行关联检索,看其内部是否公开了更通用的基于特定比例或公式设计网格重复单元的设计准则。
通过上述进一步检索,补充针对公式特征(特征J-M)和单面单网格内部布线(特征E-F)的更具体对比文件原文记载,将极大增强专利无效请求的力量。
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以上报告,供您参考。
此致,
专利代理师
作为一个经验丰富的专利代理师,我将紧密结合目标专利的说明书,对权利要求1进行详细解释,并结合对比文件的原文进行详尽的特征比对分析。
### 第一部分:目标专利权利要求1的解释
目标专利(CN107750354B)涉及一种触摸传感器。其核心发明目的是解决现有互电容触摸传感器为了在大屏幕上应用而使用导电金属线替代ITO时,面临的电阻问题以及如何在单一表面上合理布置驱动、感应和布线电极以实现轻薄化、降低成本并提高产率的问题。
**权利要求1:**
1. **一种触摸传感器,包括:基板;以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元;**
* **代理师解释:** 这定义了传感器的基本结构是单面一片型(Single-side One-film, S1F)。所有功能电极(Tx、Rx和布线)都位于同一基板的同一个面上。这有助于最小化厚度,简化工艺,避免层压(说明书[0016])。驱动和感应电极利用金属线实现互电容感测(说明书[0025])。
2. **其中,所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域;**
* **代理师解释:** 传感器平面被划分为用于执行触摸检测的区域(通常对应显示屏幕)和周边不执行感测的区域(死区)。
3. **所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案;**
* **代理师解释:** 这是关键特征。三种电极都不是连续的实心面(如传统的ITO面),而是由导电图案构成的网格(Mesh)结构。导电材料(如金属线)所在的区域是遮蔽部,没有导电材料的区域是敞开部(说明书[0034])。这种网格结构被用作透明电极(说明书[0009])。
4. **所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元;**
* **代理师解释:** 布线电极(即迹线Trace)不局限于外围死区,而是延伸到了触摸感应区域内部。这被称为“第一布线电极单元”。在非感应区域(死区)内的部分被称为“第二布线电极单元”。
5. **所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线;**
* **代理师解释:** Tx或Rx电极需要通过这些布线导线(迹线)连接到外围的第二布线单元,进而连接到FPCB。为了实现互电容,迹线需要通过死区形成,并且构成了重复单元图案中的死区(迹线)部分(说明书[0045])。
6. **构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复;**
* **代理师解释:** 触摸感应区域在X轴方向(宽度方向)上呈现出周期性的结构,由n个完全相同的单元图案重复排列构成。这个重复单元图案包含了驱动、感应和第一布线电极的图案(说明书[0038])。这有利于大规模制造时的图案设计。
7. **所述第二布线电极单元设置在:被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中;以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中;**
* **代理师解释:** 这描述了传感器的一种布线拓扑结构。触摸感应区域左右两侧的非感应区域中,分别设置了第二布线电极单元。具体而言,这些第二布线电极单元与感应区域的“上部的侧面”和“下部的侧面”相邻。这通常意味着布线从感应区域引出后,分别向上和向下汇集到两侧的死区中(如图5和图6所示的迹线连接方式,以及说明书[0036]所述的连接到“上部的侧面”相邻和“下部的侧面”相邻的死区)。
8. **并且所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示;[式1];D=A/(n×m);在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,m是n的约数。**
* **代理师解释:** 这是最核心的限制性技术特征,也是区别于现有技术的主要发明点所在。它限定了触摸感应区域的物理宽度A、重复单元的数目n、以及每个重复单元的宽度D之间的特定数学关系。引入参数m(n的约数)使得单元图案的宽度D可以灵活调整,而不简单地等于A/n。说明书未结合实施例解释该公式的具体设计意图,但在创造性分析中,这将作为与对比文件的关键区别。
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### 第二部分:对比文件特征比对及分析
我们将依次分析各对比文件公开的内容,并指出其原文出处。之后,给出特征比对表格。
**对比文件代号说明:**
* **D1:** CA 2557940 C (MULTIPOINT TOUCHSCREEN)
* **D2:** US 2013/0176238 A1 (TOUCH PANEL)
* **D3:** US 8,484,838 B2 (Method for constructing a capacitance sensing device)
* **D4:** KR 10-1299847 B1 (접촉 감지 장치 및 방법)
#### 1. D1 (CA 2557940 C) 分析
**整体技术问题及效果:** D1旨在解决传统触摸屏(电阻式、电容式、SAW、红外)只能检测单点或多点时产生鬼影/掩蔽的问题。其发明目的是提供一种能够同时检测多个独立触摸点位置及幅值的触摸屏。
**特征公开分析:**
D1主要描述了互电容多点触摸屏的基本原理。它公开了两种主要结构:
1. **双面结构:** 驱动电极和感应电极位于同一光传输构件(基板)的相反侧面(Abstract; Fig. 8-10)。
2. **双层结构:** 驱动行线和感应列线位于两个不同的层,可以是不同的基板(Fig. 11A, 11B; Detailed Description of Mutual Capacitance section)。
D1并没有实质公开“驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元设置在基板的**相同表面**上”这一特征。D1的示例主要基于ITO实心面(contact patch area 44 covers several nodes 42, nodes activated, tracking signals, ... Detailed Description section),而非由“遮蔽部和敞开部组成的导电图案”(网格图案)。
#### 2. D2 (US 2013/0176238 A1) 分析
**整体技术问题及效果:** D2解决的问题是触摸屏周边电路或电极连接线占据基板空间,当分辨率提高时,复杂的布线会导致边框过大或限制电极布置,易引起电气干扰。其目的是有效利用基板上的布线空间,增加设计容差。
**特征公开分析:**
D2公开了一种电容式触摸屏。
* **基板、相同表面、驱动/感应/布线电极:** D2明确公开了第一电极线(Tx)和第二电极线(Rx)可以设置在基板的相同表面([0017], [0019])。
* **感应/非感应区域:** 显而易见地包括这些区域。
* **网格/导电图案:** D2未提及网格图案。
* **第一、第二布线电极单元:** D2的核心发明是将Rx电极的连接线(迹线)分散连接。一部分连接线延伸到基板的第一侧(例如,图1中的上侧),另一部分延伸到第二侧(下侧)([0009])。这些连接线位于基板的外围(非感应区域)。因此,D2公开了第二布线电极单元,但没有公开第一布线电极单元延伸到触摸感应区域内部。
* **第二布线电极的位置:** D2公开了连接Rx电极的布线分别向下和向上引出,这与目标专利特征F-I所述的布线拓扑结构(从感应区域引出后,分别汇集到上下侧面相邻的死区)非常相似,构成了在感应区域上部和下部的侧面相邻的非感应区域中的设置。
* **重复单元及公式:** 未公开。
#### 3. D3 (US 8,484,838 B2) 分析
**整体技术问题及效果:** D3解决的是传统多层触摸屏制造成本高(使用多层材料或单基板+金属桥“jumper”来跨越交点)的问题。其目的是提供一种具有**单层活性区域(单面S1F)**的电容感测设备,利用特定的电极和布线方案来最小化迹线数量和控制器引脚,降低成本。
**特征公开分析:**
D3非常紧密地公开了目标专利的大部分结构特征。
* **单层活性区域(S1F):** D3明确提出在基板的中心部分(活性部分/感应区域)形成单层电极结构([0035], [0042], [0089])。Tx电极和Rx电极(梳形和E形结构)是共平面的([0038])。D3主要示例虽然使用了实心ITO([0042]),但在[0087]中也明确公开了电极和迹线可以由“金属网格”形成,这构成了“包含遮蔽部和敞开部的导电图案”。
* **触摸感应/非感应区域:** 明确公开了活性部分(central or active portion 14)和边框部分(outer or bezel portions 16)([0036])。
* **第一、第二布线电极单元:** 这也是D3的核心特征。Rx电极需要通过布线连接到控制器。为了最小化迹线,D3提出Rx电极在感应区域内通过短迹线连接在一起,或者特定电极对通过独特组合连接。D3如图3、图5、图13所示,公开了跡線(Primary Traces 26)延伸至邊框(Outer portions 16)。这意味着迹线必须存在于感应区域内部(第一布线电极单元)才能将Rx电极引出到死区。如图12所示,感应区域内的迹线宽度和Rx电极基部(base portion)的布置直接相关([0073]),证实了迹线存在于活性区域内。在死区(邊框)内的迹线(Secondary traces 30,通过双层多路复用引出,如图11)构成了第二布线电极单元。
* **重复单元图案在宽度方向上重复:** D3的电极结构如图3所示,是由多对共平面的Tx/Rx电极构成。这种结构在X轴方向(图示宽度方向)上呈现出明显的周期性重复。
* **第二布线电极单元的位置:** D3的示例拓扑包括图3(两侧边框布线)、图5(底部边框布线)、图13(两侧边框布线,但电极布置方式不同)。特别是图13的结构,其驱动电极是横跨整个中心部分的,而感应电极则引出到两侧死区。这与目标专利所述的“被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻和下部的侧面相邻”的拓扑结构不同。目标专利更接近图5或图6所示的结构,即迹线向下或向上引出。D3图3所示拓扑虽然也在两侧死区,但是Rx布线是直接从其所在列向左右延伸引出,而不是先向下/向上再引出。因此,关于非感应区域内设置的具体拓扑特征(被设置为与感应区域的上下侧面相邻),D3未给出最接近的公开。
* **式1的数学关系:** 未公开。
#### 4. D4 (KR 10-1299847 B1) 分析
**整体技术问题及效果:** D4针对的是单层结构触摸感测装置,其问题在于利用自电容方法检测多点时存在高ghost现象,而利用互电容方法时因其2层结构导致厚度过厚。其目的是提供一种单层结构互电容多点触摸感测装置及方法。其核心方法是利用递归算法(recursive algorithm)去除迹线引起的杂散互电容信号,从而获得准确的触摸坐标。
**特征公开分析:**
D4也公开了单面一片(S1F)结构。
* **单层/基板相同表面:** 第一电极(感应条Rx)和第二电极(驱动补丁Tx Patch)形成在基板的相同表面([0015], [0027], [0035])。互电容产生在电极和布线之间。
* **网格/导电图案:** D4主要基于ITO面,未明确提及网格结构。但对于S1F结构使用金属线(网格)替代ITO已是目标专利自身所确认的技术常识([0009]),且被D3显而易见地公开。
* **第一、第二布线电极及拓扑:** D4为了解决布线与感应电极之间的杂散电容,设计了特定的布线拓扑。如图1和图2所示,驱动补丁电极(Patch-type Patch 130)通过布线(Wiring pattern 150)连接。所有布线引向两侧边框。Rx电极(Bar-type Bar 120)也存在。为了引出Patch电极,迹线必须存在于感应区域内(第一布线电极单元)。在两侧死区汇集的布线构成第二布线电极单元。特别是,其布线拓扑特征(从感应区域引出后,分别汇集到上下侧面相邻的死区)在图1和图2中得到明确展示,其描述也构成了目标专利特征H-I的拓扑特征。
* **式1的数学关系:** 未公开。
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### 第三部分:特征比对表格
| 目标专利权利要求1的技术特征 | 特征解析(代理师)概要 | 对比文件 D1<br>(CA2557940C) | 对比文件 D2<br>(US2013176238A) | 对比文件 D3<br>(US8484838B) | 对比文件 D4<br>(KR101299847B) |
| 权利要求1 前序:一种触摸传感器,包括:基板;以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元; | 单面一片(S1F)结构。所有电极Tx、Rx和布线同层设置。 | — | 公开<br>([0017], [0019]) | 公开<br>([0035], [0038], [0089]) | 公开<br>([0015], [0035]) |
| 特征 A-C:包括:基板;所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域; | 显而易见的基础特征。D3明确公开活性区域和边框。 | (公开) | (公开) | 公开<br>([0036]) | (公开) |
| 特征 D:所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案; | 网格(Mesh)电极图案。非ITO实心面。 | — | — | 公开<br>([0087]) | — |
| 特征 E-F:所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元;第一布线单元包括导线连接至第二布线单元; | 迹线(Trace)延伸到感应区域内部。 | — | 未公开<br>(仅描述外围布线) | 公开<br>([0036], [0073], Fig. 3, Fig. 5, Fig. 12) | 公开<br>(Fig. 1, Fig. 2; Wiring pattern 150 in sensing region) |
| 特征 G:构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式:n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复; | 触摸感应区域具有X轴方向的周期性重复结构。 | — | — | 公开<br>(Fig. 3) | — |
| 特征 H-I:所述第二布线电极单元设置在:被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中;以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中; | 具体的布线拓扑结构(迹线从感应区引出,汇汇集至两侧边框并分别上下延伸)。 | — | (公开)<br>(描述Rx布线分别向上下引出) | 未实质公开<br>(其拓扑为图3两列式引出或图13横跨式) | 公开<br>(Fig. 1, Fig. 2; Wiring pattern 150) |
| 特征 J-M:所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示;[式1];D=A/(n×m);在式1中,A是所述触摸感应区域的宽度,n是重复单元图案的数目,m是n的约数。 | 特定的数学公式限制。限定感应区域宽度A、单元数目n和宽度D的关系。核心区别点。 | — | — | — | — |
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### 第四部分:创造性分析:最接近的对比文件选择
在进行创造性分析(新颖性之后)时,确定一个或多个最接近的对比文件至关重要。作为专利代理师,我将从整体解决的技术问题和技术效果的角度进行分析。
#### 1. 目标专利要解决的核心问题:
目标专利的说明书[0009]明确指出,虽然现有技术试图使用金属图案替代ITO,但由于ITO的高电阻,在大屏幕制造时灵灵敏度降低。此外,目标专利还旨在实现单面S1F结构的轻薄化和降低成本([0016], [0022])。
#### 2. 对比文件的问题和效果:
* **D1:** 重点在于多点触摸原理(双面或双层互电容),解决单点/鬼影问题。未明确针对单层结构的布线和电阻问题。不适合做为主要的最接近对比文件。
* **D2:** 旨在有效利用基板布线空间,通过分散布线(向上和向下)来增加边框设计容差,解决高分辨率导致复杂的边框。其拓扑特征与特征H-I相似。
* **D3:** **最紧密地公开了目标专利的大部分物理结构特征**。旨在解决多层结构成本高的问题,明确提出**单层活性区域(S1F)的共平面电极布置(梳形/E形)**,利用特定布线(Primary Trace在感应区内连接电极,Secondary Trace在边框内多路复用)最小化迹线和引脚数量,以降低成本。**D3明确公开电极和迹线可以由金属网格图案形成**([0087])。其解决的技术问题和采用的物理结构与目标专利高度一致,且最紧密公开了特征E-F和D(单层网格结构)。
* **D4:** 也采用了单层结构,目的是实现ghost现象少的互电容多点检测。其核心贡献是一个信号处理算法,但也采用了如图1、图2所示的单层共平面电极和布线。**其公开的布线拓扑结构(迹线从感应区域引出并向下汇集在两侧边框)在形式上构成了目标专利特征F-I的拓扑**。
#### 3. 最接近对比文件的选择结论:
鉴于目标专利旨在通过特定的S1F电极布置、网格图案和布线结构来实现大屏幕触摸传感器的轻薄化和提高产率,**D3 (US 8,484,838 B2) 的物理结构特征与目标专利最为接近,公开了单层共平面Tx/Rx网格结构,并隐含了第一、第二布线电极在感应和非感应区的布置,以及周期性重复。したがって,D3是创造性分析中最适合的“第一最接近的对比文件”。**
然而,正如特征比对表所示,D3未公开目标专利所采用的具体拓扑特征(被设置为与触摸感应区域的上部的侧面相邻和下部的侧面相邻),而此特征被D4实质公开,也隐含被D2公开。另外,D3采用 ITO,尽管[0087]提及金属网格,但若要认为其完全公开网格电极特征(遮蔽/敞开),需要与其他对比文件(如D3自身提及的金属 mesh)结合。
因此,**D3公开了单层网格S1F结构,是核心的物理布置基础。但目标专利还采用了特定的布线拓扑特征F-I,且此特征被D4公开。したがって,D3、D4构成了多个最接近的对比文件(multiple closest prior art documents),它们各自最接近地公开了目标专利的部分关键特征。創造性分析將圍繞“D3(單層網格S1F結構)+ D4(特定布線拓撲)”的結合展開。**
#### 4. 未被最接近文件公开的特征:
从整体解决技术问题和技术效果角度选定D3和D4作为最接近的对比文件结合体后,仍然存在一个技术特征未被任何对比文件公开:
* **特征 J-M:特定的数学公式限制。** 权利要求限制了重复单元图案宽度D满足关系式 D=A/(n×m),其中m为n的约数。
#### 5. 无效请求对于请求方来说最薄弱的技术特征:
作为专利代理师,在代表无效请求方时,必须指出权利要求中最难以攻破、最不容易被现有技术显而易见推导出的特征。
在权利要求1中,这一最薄弱特征无疑是上述的**特征 J-M:数学公式 D=A/(n×m) 的数学公式限制。**
虽然触摸感应区域具有周期性重复(特征G,被D3公开)在现有技术中是很常见的,旨在简化设计和制造。但目标专利引入了一个特定的数学公式,限定了单元宽度D可以不是简单地等于A/n,而是可以通过n的约数m进行灵活调整。即使这种调整是常见的工程优化手段(如通过约数调整单元,使设计更灵活),但要证明一个特定的数学关系式是显而易见的,具有很高的门槛。说明书虽然未提供具体实施例,但这一数学上的限制是对比文件中完全未涉及的。したがって,在创造性分析中,这一公式限制是请求方(无效方)最薄弱的特征。
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### 第五部分:进一步检索策略
针对上述分析中确定的薄弱特征,即限制重复单元图案宽度D的数学公式,进一步的检索策略应集中在以下方面:
1. **关键词组合检索:**
关键词应包括:触摸传感器(touch sensor)、电容式触摸屏(capacitive touch screen)、单层活性区域(single-layer active area/S1F)、金属网格/网格电极(metal mesh/mesh pattern)、周期性重复(periodicity/repeating unit pattern/pitch)、单元宽度(unit width)、约数调整(divisor/multiple)、特定数学公式(formula/equation/relation)、产率优化(yield optimization)。
2. **检索具有特定数学公式限制的单层金属网格专利:**
检索重点应在于寻找那些在单层网格触摸传感器设计中,引入特定单元布置和单元宽度数学限制的对比文件。重点关注那些在权利要求或说明书中含有类似“D = A / (n*m)”形式或类似数学逻辑(利用重复单元的约数灵活调整)的对比文件。
3. **专利权人的其他专利系列:**
检索该专利的申请人(LG Chemical Ltd.)的其他同系列或同主题专利,看其是否在其他文件中对该公式有更详详尽的解释。
4. **非专利文献检索:**
在相关的学术期刊、会议论文中,检索大屏幕触摸传感器、单层共平面网格电极布置、以及特定几何结构单元及其数学优化的相关研究。
**检索示例组合:**
* (TOUCH SENSOR) AND (SINGLE LAYER) AND (METAL MESH) AND (REPEAT UNIT PATTERN) AND (UNIT WIDTH OR PITCH) AND (FORMULA OR EQUATION OR DIVISOR)
* (触摸传感器) AND (单层) AND (金属网格) AND (重复单元图案) AND (单元宽度 OR 间距) AND (公式 OR 方程 OR 约数)
通过精细的关键词组合和同系列专利申请的综合检索,有可能找到隐含公开该薄弱特征的证据,从而攻破权利要求的核心创造性点。
作为一名经验丰富的专利代理师,我将为您对目标专利进行深度解析,并结合四份对比文件(D1至D4)进行详尽的特征比对、创造性分析、无效请求壁垒分析,并提供后续的进一步检索策略。
首先,为行文清晰,明确各对比文件指代及公开号如下:
* **D1**:KR101317538B1(다지점 인식 터치 화면)
* **D2**:CN102169401B(多点触摸屏)
* **D3**:CN103460161A(接触感应装置及方法)
* **D4**:KR101373906B1(다지점 인식 터치 화면)
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## 一、 权利要求特征比对与原文出处分析
以下为目标专利权利要求1(特征A至M)与各对比文件的详细特征比对。
| 目标专利权利要求1的技术特征 | D1 (KR101317538B1) 比对及出处 | D2 (CN102169401B) 比对及出处 | D3 (CN103460161A) 比对及出处 | D4 (KR101373906B1) 比对及出处 |
| A:包括:基板 | 实质公开:[0042]“光传输部材(112)上配置……由玻璃或塑料等透明材料形成”。 | 实质公开:[0062]“位于一个光学透射元件112之上……用一种透明材料例如玻璃或塑料制成”。 | 毫无疑问公开:[0016]“包括:基板;形成在所述基板上的……”。 | 实质公开:[0042]“光传输部材(112)上配置……由玻璃或塑料等透明材料形成”。 |
| B:设置在基板相同表面上的驱动、感应和布线电极单元 | 未公开:[0022]明确属于双面或双层结构(“在2个不同的层上形成……驱动线路在第1层,感应线路在第2层”)。 | 未公开:[0042]明确属于两层结构(“模压在两个不同的层上……驱动线在第一层,感应线在第二层”)。 | 毫无疑问公开:[0017]“所述多个第一电极和所述多个第二电极可被排置在所述基板的同一个面上”。 | 未公开:[0022]属于双层结构(“在2个不同的层上形成……驱动/感应线路分别在第1/2层”)。 |
| C:包括触摸感应区域和触摸非感应区域 | 实质公开:[0007]、图1a/1b公开了“显示面/触摸感应面(4)”以及“边缘(死区)”。 | 实质公开:[0008]、[0037]公开了“触摸敏感表面4”与把持时的“边缘”。 | 毫无疑问公开:[0047]“可形成包含一个第一电极和8个第二电极的感应区域160……[0034]排置在基板的左右挡板区域中”。 | 实质公开:[0007]、图1a/1b公开了“显示面/触摸感应面(4)”以及“边缘(死区)”。 |
| D:驱动、感应和布线电极均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案 | 未公开:D1采用常规ITO膜全片或浮动块图案,非网格导电图案。 | 未公开:D2采用常规ITO膜全片或浮动块图案,非网格导电图案。 | 未公开:D3仅提到使用“透明导电性物质形成”电极和配线模式。 | 未公开:D4采用常规ITO膜,未引入金属线网格设计。 |
| E:布线电极包括位于感应区域的第一布线和非感应区域的第二布线 | 未公开:其走线([0022]“轨迹”)直接从外围引出,未在相同表面将布线分为感应区内的第一部分和非感应区内的第二部分。 | 未公开:属于传统两层走线设计,未在单面将布线划分为横跨感应区的第一布线与非感应区的第二布线。 | 未公开:[0034]“排置在基板的左右挡板区域中可包括配线模式150”,其配线位于挡板(非感应区),未公开感应区内还存在第一布线电极。 | 未公开:结构同D1,未做此区域布线划分。 |
| F:第一布线电极包括一束或两束以上的将驱动或感应电极连接至第二布线电极的导线 | 未公开:缺乏“单面一片型”架构下的感应区内一束或两束以上导线的设计。 | 未公开:缺乏“单面一片型”架构下的感应区内一束或两束以上导线的设计。 | 未公开:电极走线未引入跨越感应区多束组合的概念。 | 未公开:缺乏相应单面跨区束线设计。 |
| G:构成触摸感应区域的导电图案包括:n个重复单元图案在宽度方向上重复 | 未公开:未涉及网格阵列在宽度方向的重复单元设计。 | 未公开:未涉及网格阵列在宽度方向的重复单元设计。 | 未公开:D3为长条状一维布设或补丁电极,不涉及此网格图案重复配置。 | 未公开:未涉及网格阵列在宽度方向的重复单元设计。 |
| H-I:第二布线设置在:与感应区域上部的侧面相邻以及下部的侧面相邻的非感应区域中 | 未公开:D1电极接线引向左侧、右侧([0047]“路由至左/右侧传感器IC”),非独立布置于上下部的侧面。 | 未公开:D2走线路由至左侧和右侧传感器IC([0067]),非独立布置于上下部的侧面。 | 未公开:D3的配线模式150“排置在基板的左右挡板区域中”([0034]),而非上下部侧面。 | 未公开:结构同D1,走线路由至左侧和右侧。 |
| J-M:重复单元图案宽度D满足式1:$D = A/(n \times m)$(m是n的约数) | 未公开:均未提及任何网格单元图案宽度数理关系式。 | 未公开:均未提及任何网格单元图案宽度数理关系式。 | 未公开:均未提及任何网格单元图案宽度数理关系式。 | 未公开:均未提及任何网格单元图案宽度数理关系式。 |
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## 二、 最接近对比文件(最接近现有技术)的筛选与分析
在创造性审查或无效宣告程序中,**D3(CN103460161A)**最适合作为最接近的对比文件(第一独立出发点)。
### 1. 技术问题与技术效果层面的考量
* **目标专利的核心技术问题**:在于如何实现“单面一片型”(Single-Layer)互电容触摸传感器,以最小化触摸屏厚度、简化工艺,同时解决单面布线导致的通道信号干扰、死区占用大以及量产产率低的技术问题。
* **D3解决的技术问题**:其背景技术中明确指出“两层结构的相互静电容量方式会使得触摸屏面板的厚度较厚”([0011]),其发明目的在于“提供一种接触感应装置及方法,其可以单层(Single-Layer)结构来准确判断多个接触输入”([0013])。这与目标专利在“减小厚度、实现单面一片型互电容检测”的**技术研发方向和要解决的技术问题完全一致**。
* **D1、D2、D4的局限性**:D1、D2、D4均基于“两层栅格结构”(驱动线在第一层,感应线在第二层,空间分离,如D2的[0042])。尽管它们提到了互电容,但其架构是多层/双面,并未面对单层结构下驱动/感应/布线电极共面挤占空间带来的莫列波纹、死区最小化以及边缘侧面走线排布等特有技术问题。
因此,**D3构成了最适宜的第一出发点**。
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## 三、 创造性组合与未公开特征的解决途径
虽然D3公开了特征A、B、C,即实现了“单面单层”的驱动与感应电极排布,但权利要求1中**核心的外围走线与网格细部特征(特征D至M)在D3中均未被公开**。
### 1. 其他对比文件的联合缺陷分析
* **特征D(遮蔽部和敞开部的导电图案,即金属网格/Mesh)**:D1、D2、D4和D3全部局限于使用传统的透明导电膜(ITO)。虽然D2在[0082]提到了“分断为电气浮动的ITO片”来改善光学均匀性,但并未公开通过“金属线形成的包含遮蔽部和敞开部的网格图案”。
* **特征E、F(第一布线电极和第二布线的区域划分及多束导线)**:目标专利为了在单层实现大尺寸或高分辨率,将第一布线电极嵌入感应区内,这是单层网格特有的死区嵌套设计。D1、D2、D4的走线是在双层架构的死区内进行路由(如D1的[0047]),D3则是直接通过左右挡板区(非感应区)引出配线模式150(D3的[0034])。没有任何一份对比文件给出了“在感应区内设置第一布线电极串联电极至非感应区第二布线电极”的启示。
* **特征H、I(上下部侧面的双向走线排布)**:D1、D2、D4均明确公开走线向“左侧和右侧”路由(如D2的[0067]),D3明确公开走线排置在“左右挡板区域”([0034])。可见,现有技术均给出了向“左右侧面”走线的相反启示,特征H和I(上下部侧面相邻设置)未被任何对比文件公开。
* **特征G、J、K、L、M(宽度公式及约数关系 $D = A/(n \times m)$)**:属于目标专利为了优化半反射镜设计、最大化利用死区空间、提升网格通道产率而提出的特有数理限制。现有技术D1-D4中完全没有提及。
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## 四、 请求方(无效提出方)最薄弱的技术特征分析
若您代表请求方尝试去无效该目标专利,基于目前的案卷材料,**最薄弱(即最难被攻击成功、目标专利稳定性最强)的技术特征为:特征J、K、L、M(数理公式约束特征)以及特征E、F、G的组合(感应区内嵌套第一布线单元的网格设计)**。
### 难点分析:
1. **公式及参数的非显而易见性**:公式 $D = A/(n \times m)$ 中引入了重复单元数目 $n$ 以及约数 $m$。目标专利说明书[0046]、[0047]对此做出了充分的解释,该设计是为了在极度受限的单层死区宽度内,使各迹线线宽最大化以稳定产率。现有技术D1-D4完全是定性描述ITO块或者常规双层迹线排布,没有任何一份文件涉及宽度、重复单元数量与约数之间的数学建模。
2. **技术效果的协同**:特征E、F、G与公式限制相结合,实现了单面一片型传感器在透光率优异([0016])、无 OCA 层压([0016])的同时,交点数目达到1.5以上以稳定迹线产率(说明书[0047])的协同技术效果。审查指南中规定,具有新颖数学关系并带来盲区消除/产率提升等出乎意料技术效果的特征组合,极难被认定为“惯用技术手段”或“简单组合”。
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## 五、 进一步检索策略建议
由于现有对比文件D1-D4在“单层金属网格(Metal Mesh)走线优化”领域的控制力较弱,为攻克上述薄弱特征,建议采取以下进阶检索策略:
### 1. 调整检索基本检索要素(IE)与扩展关键词
目前检索式明显缺失“金属网格”相关要素。应引入以下高相关概念:
* **网格/金属线**:`Metal Mesh`, `Mesh Pattern`, `导电网格`, `金属网格`, `网状导电线`, `遮蔽部`, `敞开部`.
* **单层/共面**:`Single layer`, `One glass solution`, `OGS`, `单面`, `单层`, `共面`, `一片型`.
* **走线优化/死区嵌套**:`Dummy pattern`, `Trace in sensing area`, `死区最小化`, `感应区走线`, `迹线宽`, `半反射镜`.
### 2. 聚焦特定的分类号(IPC/CPC)进行精准拦截
建议放弃宽泛的 `G06F3/044`(电容式触摸屏通用分类号),深入至以下细分小组:
* **`G06F3/0442`**:特指单层或具有特定电极几何形状的电容屏(重点排查单层走线拓扑)。
* **`G06F3/0443`**:涉及网格或由导电线构成的电容屏(精准锁定Mesh网格特征D)。
* **`H05K1/02`**:印制电路板的结构设计或走线数学排布(用以检索特征J-M中涉及的宽带重复几何公式)。
### 3. 追踪特定行业巨头的专利族与优先权
目标专利的优先权为韩国申请(No.10-2015-0083804),说明书提及反向胶版印刷([0180])。建议重点检索在2013-2016年期间,积极布局**单层金属网格/纳米银线触摸屏技术**的传统大厂在该技术方向的布局:
* **日韩台企业**:韩华化学(Hanwha)、LG Innotek、三星 Display、日东电工(Nitto Denko)、宸鸿科技(TPK)。
* **中国本土阻击阵营**:欧菲光(O-film)、合力泰、京东方(BOE)。
* *提示:重点关注这些企业关于“大尺寸单层导电网格网目间距与死区宽度比例关系”的失效/公开专利,极有可能在说明书背景技术或实施例中隐藏了类似的网格设计数学公式。*
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,所述第一布线电极单元的至少一些束连接至设置在如下的所述触摸非感应区域中的所述第二布线电极单元:该触摸非感应区域被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻;所述第一布线电极单元的其它束连接至设置在如下的所述触摸非感应区域中的所述第二布线电极单元:该触摸非感应区域被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻。
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,设置在所述触摸感应区域和所述触摸非感应区域中的导电图案基于平分所述触摸传感器的水平直轴彼此对称。
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元的导电图案由规则的多边形网格图案形成,以及所述重复单元图案满足下面的式5;[式5];0
根据权利要求4所述的触摸传感器,其中,所述重复单元图案满足下面的式6;[式6];0<(As+AS1)/(2×AL)≤1。
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,所述导电图案由导电金属线形成。
根据权利要求6所述的触摸传感器,其中,所述导电金属线包括选自金、银、铝、铜、钕、钼、镍和它们的合金中的一种或多种。
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元的导电图案均独立地另外包括在所述导电图案上的暗化图案。
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元的导电图案均独立地包括多边形网格图案。
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,所述束的宽度是“W”,并且基于W×W的面积,与所述W×W的面积对应的所述触摸传感器的预定区域之间的开口率偏差在10%以内。
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元通过一次印刷工艺同时形成。
根据权利要求1所述的触摸传感器,其中,所述触摸传感器通过利用互电容方法识别触摸输入。