非显而易见杯

专利无效挑战赛

目标专利:3530用于从入射电磁波形成近区中的至少一个聚焦波束的设备

专利公开号:CN109073910B

专利权人:交互数字

无效请求书提交日期:2026年


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非显而易见性评估仅供参考,不构成法律建议。



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序号 权利要求内容

1

一种包括介电材料层的设备,所述介电材料层嵌入有包括核心和外壳的双层元件;所述外壳具有第一折射指数值;并且所述核心具有大于所述第一折射指数值的第二折射指数值;其中从根据所述设备上的入射电磁波的、传播通过所述外壳的基部和所述核心的基部的部分的干涉而生成的波束的组合中获得聚焦波束;并且其中所述核心包括相对于所述入射电磁波的到达方向定义的基部表面;所述基部表面包括相对的边缘线;所述相对的边缘线中的至少一个是其形状和所述基部表面与所述核心的侧向表面之间的关联底角控制所述聚焦波束的形状的线。

2

根据权利要求1所述的设备,其中所述核心具有从由柱、棱柱和椎组成的组中选择的几何形状。

3

根据权利要求2所述的设备,其中所述几何形状是斜向的和/或截断的和/或包括圆角顶表面。

4

根据权利要求1所述的设备,其中所述相对的边缘线之间的距离具有至少λ2/2的最小长度;其中λ2是所述入射电磁波在所述核心的材料中的波长。

5

根据权利要求1所述的设备,所述相对的边缘线中的至少一个具有至少λ2的长度;其中λ2是所述入射电磁波在所述核心的材料中的波长。

6

根据权利要求1所述的设备,其中所述介电材料层具有等于所述第二折射指数值的第三折射指数值。

7

根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳包括相对于所述入射电磁波的到达方向定义的第一基部表面;以及与所述介电材料层连接的第一侧向表面;并且其中所述基部表面的边缘的所述边缘线中的每一个与所述第一侧向表面之间的最小距离等于至少λ2/2;其中λ2是所述入射电磁波在所述核心中的波长。

8

根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳具有从由柱、棱柱和椎组成的组中选择的几何形状。

9

根据权利要求1所述的设备,其中所述设备还包括形成邻接所述介电材料层的基板的层。

10

根据权利要求9所述的设备,其中所述设备还包括形成覆板的层;所述介电材料层位于所述基板与所述覆板之间。

11

根据权利要求10所述的设备,其中所述基板和所述覆板由与所述介电材料层相同的介电材料制成。

12

根据权利要求1所述的设备,其中所述介电材料层是从由玻璃、塑料和聚合物材料组成的组中选择的。

13

根据权利要求10所述的设备,其中所述覆板的材料是从由玻璃、塑料、聚合物材料、液体和气体组成的组中选择的。

14

根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳是在所述介电材料层中形成的腔。

15

根据权利要求10所述的设备,其中所述外壳是在所述介电材料层中形成的腔;并且其中当所述覆板是气体或液体时,所述腔填充有相同的气体或液体。

16

根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳的大小控制所述聚焦波束的形状。


对比文件列表

编号 名称

权利要求1

一种包括介电材料层的设备,所述介电材料层嵌入有包括核心和外壳的双层元件;所述外壳具有第一折射指数值;并且所述核心具有大于所述第一折射指数值的第二折射指数值;其中从根据所述设备上的入射电磁波的、传播通过所述外壳的基部和所述核心的基部的部分的干涉而生成的波束的组合中获得聚焦波束;并且其中所述核心包括相对于所述入射电磁波的到达方向定义的基部表面;所述基部表面包括相对的边缘线;所述相对的边缘线中的至少一个是其形状和所述基部表面与所述核心的侧向表面之间的关联底角控制所述聚焦波束的形状的线。


权利要求2

根据权利要求1所述的设备,其中所述核心具有从由柱、棱柱和椎组成的组中选择的几何形状。


权利要求3

根据权利要求2所述的设备,其中所述几何形状是斜向的和/或截断的和/或包括圆角顶表面。


权利要求4

根据权利要求1所述的设备,其中所述相对的边缘线之间的距离具有至少λ2/2的最小长度;其中λ2是所述入射电磁波在所述核心的材料中的波长。


权利要求5

根据权利要求1所述的设备,所述相对的边缘线中的至少一个具有至少λ2的长度;其中λ2是所述入射电磁波在所述核心的材料中的波长。


权利要求6

根据权利要求1所述的设备,其中所述介电材料层具有等于所述第二折射指数值的第三折射指数值。


权利要求7

根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳包括相对于所述入射电磁波的到达方向定义的第一基部表面;以及与所述介电材料层连接的第一侧向表面;并且其中所述基部表面的边缘的所述边缘线中的每一个与所述第一侧向表面之间的最小距离等于至少λ2/2;其中λ2是所述入射电磁波在所述核心中的波长。


权利要求8

根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳具有从由柱、棱柱和椎组成的组中选择的几何形状。


权利要求9

根据权利要求1所述的设备,其中所述设备还包括形成邻接所述介电材料层的基板的层。


权利要求10

根据权利要求9所述的设备,其中所述设备还包括形成覆板的层;所述介电材料层位于所述基板与所述覆板之间。


权利要求11

根据权利要求10所述的设备,其中所述基板和所述覆板由与所述介电材料层相同的介电材料制成。


权利要求12

根据权利要求1所述的设备,其中所述介电材料层是从由玻璃、塑料和聚合物材料组成的组中选择的。


权利要求13

根据权利要求10所述的设备,其中所述覆板的材料是从由玻璃、塑料、聚合物材料、液体和气体组成的组中选择的。


权利要求14

根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳是在所述介电材料层中形成的腔。


权利要求15

根据权利要求10所述的设备,其中所述外壳是在所述介电材料层中形成的腔;并且其中当所述覆板是气体或液体时,所述腔填充有相同的气体或液体。


权利要求16

根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳的大小控制所述聚焦波束的形状。


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