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蒋晓勇

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序号	权利要求内容
1	一种用于由电磁波在近场区中形成至少一个倾斜聚焦束的设备，该电磁波入射在所述设备上；所述设备包括至少一个介电材料层；所述至少一个介电材料层包括至少一个腔；并且所述至少一个腔填充有第一折射指数小于所述介电材料的第二折射指数的介质；其中；所述至少一个腔近似为圆柱形或锥形；所述至少一个腔包括至少一个底表面和至少一个侧表面；该至少一个底表面相对于所述入射电磁波的到达方向限定；其中；所述至少一个底表面由具有新月形状的底边缘线描绘；所述底边缘线包括凹底边缘线段和凸底边缘线段；其中；所述底边缘线的形状；所述至少一个腔的取向；以及所述至少一个底表面与所述至少一个侧面之间的相关联的底角；中的一个或多个控制所述至少一个倾斜聚焦束的方位角；所述方位角由以下角位置限定；所述至少一个倾斜聚焦束在与所述入射电磁波的所述到达方向正交并且包括所述至少一个底表面的至少一部分的平面中的投影的角位置；并且其中所述至少一个倾斜聚焦束由于源自所述凹底边缘线段的不同部分的纳米喷射束的重新组合而形成；所述至少一个倾斜聚焦束的方向与所述入射电磁波的方向不同。
2	根据权利要求1所述的设备，其中；填充所述至少一个腔的所述介质的所述第一折射指数与所述介电材料的所述第二折射指数之间的比率有助于控制所述至少一个倾斜聚焦束的仰角；所述仰角由以下角位置限定；所述至少一个倾斜聚焦束在垂直平面中的投影的角位置。
3	根据权利要求1所述的设备，其中；所述至少一个腔属于至少两个腔的集合。
4	根据权利要求3所述的设备，其中；所述集合中的所述至少两个腔至少部分地合并以形成腔的至少一个布置。
5	根据权利要求2所述的设备，其中；所述至少一个腔属于至少两个腔的集合。
6	根据权利要求5所述的设备，其中；所述集合中的所述至少两个腔至少部分地合并以形成腔的至少一个布置。
7	根据权利要求1至6中任一项所述的设备，其中；所述设备还包括形成邻接所述至少一个介电材料层的基板的层。
8	根据权利要求7所述的的设备，其中；所述设备还包括形成覆板的层；所述至少一个介电材料层位于所述基板和所述覆板之间。
9	根据权利要求8所述的的设备，其中；所述基板和所述覆板由与所述至少一个介电材料层的介电材料相同的介电材料制成。
10	根据权利要求1至6中任一项所述的设备，其中；形成所述至少一个介电材料层的所述介电材料选自包括下列项的组；玻璃；塑料；聚合物材料；有机光学透明导电材料；无机光学透明导电材料；以及；陶瓷。
11	根据权利要求8所述的设备，其中；所述覆板的材料选自包括下列项的组；玻璃；塑料；聚合物材料；有机光学透明导电材料；无机光学透明导电材料；液体；气体；以及；凝胶。
12	根据权利要求7所述的设备，其中；所述基板的材料选自包括下列项的组；玻璃；塑料；聚合物材料；有机光学透明导电材料；无机光学透明导电材料；半导体材料；气体；以及；凝胶。
13	根据权利要求1至6中任一项所述的设备，其中；所述第一折射指数小于所述介电材料的所述第二折射指数的所述介质选自包括下列项的组；玻璃；塑料；液体；气体；以及；凝胶。

对比文件列表

编号	名称

权利要求1

下载无效理由

一种用于由电磁波在近场区中形成至少一个倾斜聚焦束的设备，该电磁波入射在所述设备上；所述设备包括至少一个介电材料层；所述至少一个介电材料层包括至少一个腔；并且所述至少一个腔填充有第一折射指数小于所述介电材料的第二折射指数的介质；其中；所述至少一个腔近似为圆柱形或锥形；所述至少一个腔包括至少一个底表面和至少一个侧表面；该至少一个底表面相对于所述入射电磁波的到达方向限定；其中；所述至少一个底表面由具有新月形状的底边缘线描绘；所述底边缘线包括凹底边缘线段和凸底边缘线段；其中；所述底边缘线的形状；所述至少一个腔的取向；以及所述至少一个底表面与所述至少一个侧面之间的相关联的底角；中的一个或多个控制所述至少一个倾斜聚焦束的方位角；所述方位角由以下角位置限定；所述至少一个倾斜聚焦束在与所述入射电磁波的所述到达方向正交并且包括所述至少一个底表面的至少一部分的平面中的投影的角位置；并且其中所述至少一个倾斜聚焦束由于源自所述凹底边缘线段的不同部分的纳米喷射束的重新组合而形成；所述至少一个倾斜聚焦束的方向与所述入射电磁波的方向不同。