非显而易见性评估仅供参考,不构成法律建议。
| 编号 | 名称 |
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一种光学操纵设备,被配置为当由光源生成的入射电磁波照射所述设备的第一面时;在介电主介质中辐射聚焦的电磁波束;其中所述主介质围绕所述设备;并具有第一折射率n1;其中所述设备包括;第一材料;具有第二折射率n2;并且具有沿着是所述第一面的延伸方向的X轴的第一宽度W1;以及第二材料;其与所述第一材料接触;并且具有第三折射率n3;其中所述第二材料具有沿着所述X轴的第二宽度W2;其中n1
根据权利要求1所述的设备,其中;所述聚焦的电磁波束的所述传播方向按照以下各项的至少一项的函数而相对于所述入射电磁波的传播方向倾斜;所述第一折射率n1;所述第二折射率n2;和所述第三折射率n3;所述第一宽度W1;和所述第二宽度W2;以及所述第一高度H1;和所述第二高度H2。
根据权利要求1或2所述的设备,其中所述聚焦的电磁波束由所述第一射束;所述第二射束;和所述第三射束的组合产生。
根据权利要求1或2所述的设备,其中n2=n3;其中W1=W2;并且其中H1≥HA;所述第一射束和所述第二射束的交点具有沿着所述Z轴并且相对于所述第一面的高度HA。
根据权利要求1或2所述的设备,其中n2=n3;并且其中W2>W1。
根据权利要求1或2所述的设备,其中n2=n3;其中W2