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权利要求与技术特征

G 进一步包括一个或多个铁氧体片。

H 其中所述一个或多个铁氧体是放置在所述多个槽之上或之内的片。

I 进一步包括第二金属片，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第二金属片位于所述线圈的第二侧。

J 其中所述第二金属片包括全金属片。

K 其中所述线圈包括沿着第一平面的线圈环，其中所述多个槽与所述线圈环的至少一部分重叠并且被配置为沿着所述第一平面垂直于所述线圈环。

L 进一步包括位于所述第一金属片的第一侧的电介质片。

M 其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧。

N 进一步包括第三金属片，所述第三金属片包括多个槽，所述多个槽从所述第三金属片的周边延伸，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第三金属片位于所述线圈的第二侧。

O 其中所述第一金属片被配置为将所述线圈从位于所述线圈的充电区域内的金属或外来物体或表面屏蔽。

P 进一步包括谐振电路，所述谐振电路包括所述线圈。

Q 其中所述多个槽从所述第一金属片的相对侧水平地向内延伸，并且其中来自所述第一金属片的相对侧的槽对在所述第一金属片的中央区域内竖直地重叠。

R 其中所述多个槽跨所述第一金属片对角地延伸。

S 其中所述多个槽包括定向在所述第一方向上的第一组槽和定向在第二方向上的第二组槽，所述第二方向垂直于所述第一方向，所述第一组槽包括所述第一槽和所述第二槽。

T 包括： 相对于线圈定位包括多个槽的第一金属片，使得所述第一金属片在所述线圈的宽度和长度之上延伸，所述多个槽从所述第一金属片的周边向内延伸，其中所述线圈被配置为生成足以对负载充电或供电的磁场， 其中所述多个槽被配置为至少部分地消除经由所述磁场在所述第一金属片中生成的涡流，其中所述多个槽中的第一槽和第二槽被配置为使得在所述第一槽的第一侧在第一方向上流动的涡流至少部分地被在所述第二槽的第二侧与所述第一方向相反地流动的涡流消除，其中所述第二槽的所述第二侧邻近所述第一槽的所述第一侧，以及其中，所述第一槽和所述多个槽中的第三槽被配置为使得在所述第一槽的端部在第三方向上流动的涡流至少部分地被在所述第三槽的端部与所述第三方向相反地流动的涡流消除。

U 进一步包括在所述多个槽之上或之内定位一个或多个铁氧体片。

V 进一步包括定位第二金属片，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第二金属片位于所述线圈的第二侧。

W 其中所述线圈包括沿着第一平面的线圈环，其中所述多个槽与所述线圈环的至少一部分重叠并且被配置为沿着所述第一平面垂直于所述线圈环。

X 其中所述线圈包括谐振电路。

Y 所述装置包括： 用于生成足以对负载充电或供电的磁场的生成部件
Z 用于屏蔽所述生成部件的屏蔽部件，其中所述屏蔽部件被配置为至少部分地消除经由所述磁场在所述屏蔽部件中生成的涡流，其中所述屏蔽部件包括多个槽，其中所述多个槽中的第一槽和第二槽被配置为使得在所述第一槽的第一侧在第一方向上流动的涡流至少部分地被在所述第二槽的第二侧与所述第一方向相反地流动的涡流消除，其中所述第二槽的所述第二侧邻近所述第一槽的所述第一侧，以及其中，所述第一槽和所述多个槽中的第三槽被配置为使得在所述第一槽的端部在第三方向上流动的涡流至少部分地被在所述第三槽的端部与所述第三方向相反地流动的涡流消除。
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