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权利要求与技术特征
权利要求 1
A
包括： 集电极台面
B
基极台面，在所述集电极台面上
C
发射极台面，在所述基极台面上，其中所述发射极台面布置成具有多个开口的网状结构
D
多个基极金属，在连接到所述基极台面的所述多个开口中，
E
其中所述多个开口提供围绕所述多个基极金属的窗口，
F
还包括被布置在所述发射极台面外部并围绕所述发射极台面并连接到所述基极台面的外部基极金属，
G
其中所述多个基极金属和所述外部基极金属电耦合，
H
其中所述外部基极金属被布置为围绕所述发射极台面，并且其中所述外部基极金属通过另一金属层连接到所述多个基极金属。
权利要求 2
I
还包括耦合到所述发射极台面的发射极金属。
权利要求 3
J
还包括耦合到所述集电极台面的集电极金属。
权利要求 4
K
其中所述多个开口中的每一个开口具有相同的尺寸。
权利要求 5
L
其中所述多个开口中的每一个开口呈正方形形状。
权利要求 6
M
其中所述多个开口是至少四个。
权利要求 7
N
其中所述多个开口被布置为阵列。
权利要求 8
O
其中所述多个开口被布置为2×2、3× 3或3×1的阵列。
权利要求 9
P
其中所述多个开口中的每一个开口呈六边形形状。
权利要求 10
Q
其中所述多个基极金属中的每一个基极金属呈六边形形状。
权利要求 11
R
其中所述发射极台面与所述多个基极金属之间的间隔是所使用的工艺技术允许的最小尺寸。
权利要求 12
S
其中所述基极台面的面积与所述发射极台面的面积之比小于1.8。