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权利要求与技术特征

E 其中所述多图案工艺是具有n种颜色的n图案化工艺，所述特征集合包括p个特征，所述第一特征子集包括q个特征，所述第二特征子集包括p-q个特征，并且其中所述颜色分解在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上并且利用所述n种颜色的子集而被执行。

F 其中所述颜色分解在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上利用n种颜色而被执行。

G 其中所述第一特征子集具有m种不同颜色，并且所述颜色分解在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上利用x种颜色而被执行，其中n-m≤x≤n。

H 其中x等于n-m。

I 其中所述特征包括金属互连、金属切割、电力轨道、POLY栅极互连、POLY切割、过孔、金属POLY(MP)互连、金属POLY切割、金属扩散(MD)互连、金属扩散接触A(CA)互连或者金属扩散接触B(CB)互连中的至少一个。

J 其中所述第一特征子集中的每个特征的所述分配颜色由用户分配。

K 其中所述第一特征子集包括至少一个电力轨道。

L 包括： 用于将颜色分配给标准单元的至少一个特征，以形成部分着色的单元的单元
M 用于接收集成电路布局信息的单元，所述集成电路布局信息包括特征集合以及多个颜色中的、用于所述特征集合的第一特征子集中的每个特征的分配颜色
N 用于基于所述集成电路布局信息和所述颜色分配来生成图形集成电路布局的单元，用于生成所述图形集成电路布局的单元包括用于合并所述部分着色的单元的至少两个实例中的所述标准单元的至少一个特征的单元
O 以及用于对第二特征子集执行颜色分解以将颜色分配给所述第二特征子集中的特征的单元，所述第二特征子集包括所述特征集合中的、不被包括于具有所述分配颜色的所述第一特征子集中的特征。

P 其中所述多图案工艺是具有n种颜色的n图案化工艺，所述特征集合包括p个特征，所述第一特征子集包括q个特征，所述第二特征子集包括p-q个特征，并且其中用于执行颜色分解的单元被配置为在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上利用所述n种颜色的子集来执行颜色分解。

Q 其中用于执行颜色分解的单元被配置为在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上利用n种颜色来执行颜色分解。

R 其中所述第一特征子集具有m种不同颜色，并且用于执行颜色分解的单元被配置为在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上利用x种颜色来执行颜色分解，其中n-m≤x≤n。

S 其中x等于n-m。

T 其中所述特征包括金属互连、金属切割、电力轨道、POLY栅极互连、POLY切割、过孔、金属POLY(MP)互连、金属POLY切割、金属扩散(MD)互连、金属扩散接触A(CA)互连或者金属扩散接触B(CB)互连中的至少一个。

U 其中所述第一特征子集中的每个特征的所述分配颜色由用户分配。

V 其中所述第一特征子集包括至少一个电力轨道。

W 其中所述多图案工艺是具有n种颜色的n图案化工艺，所述特征集合包括p个特征，所述第一特征子集包括q个特征，所述第二特征子集包括p-q个特征，并且其中所述至少一个处理器被配置为在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上利用所述n种颜色的子集来执行颜色分解。

X 其中所述至少一个处理器被配置为在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上利用n种颜色来执行颜色分解。

Y 其中所述第一特征子集具有m种不同颜色，并且所述至少一个处理器被配置为在所述第二特征子集内的所述p-q个特征上利用x种颜色来执行颜色分解，其中n-m≤x≤n。

Z 其中x等于n-m。
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