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权利要求与技术特征
权利要求 1
A
包括半导体结构
B
其包括设置在n型区与p型区之间的发光层
C
译p电极
D
其设置在p型区的一部分上
E
p电极包括反射性第一材料
F
其与p型区的第一部分直接接触
G
第二材料
H
其与毗连于第一部分的p型区的第二部分直接接触
I
译其中,第一材料和第二材料是具有相同的厚度的平面层;并且中:p型区和发光层的一部分被蚀刻掉以露出n型区的一部分
J
译p型区的其余部分形成台面
K
第二材料被设置在第一材料与台面的边缘之间。
L
其中所述第三材料配置为防止所述第一材料的迁移。译6.如权利要求5所述的半导体发光器件,其中,第三材料包括钛和钨。译