在回答的开始明确对比文件的名称：1996-05-28_US5521036A_发明授权_US5521036A Positioning method and apparatus
目标专利的名称：1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B
本次调用的模型名称：DeepSeek
## 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 | ||||
| **技术特征A：从而通过设定点分布轮廓移动一个部件**<br>**《直接公开》** | “然后，根据这样计算出的计算阵列坐标，在移动的同时将感光基板定位在曝光位置。”（摘要）<br>“晶圆台WS被构造为通过电机16以步进重复方式进行二维移动。”（具体实施方式部分） | 对比文件明确公开了根据计算出的阵列坐标（即目标位置序列）移动晶圆台（部件）。该移动过程以步进重复方式通过一系列目标位置（设定点分布轮廓）进行，与目标专利中“通过设定点分布轮廓移动部件”的技术方案实质相同，因此直接公开。 | ||||
| **技术特征B：所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态**<br>**《直接公开》** | “计算多个曝光区域在静态坐标系上的计算阵列坐标，方法是使用通过统计计算多个测量坐标位置而计算出的多个第一参数。”（摘要）<br>“晶圆上的所有曝光区域SAij的阵列坐标值（Fgx, Fgy）被计算。”（具体实施方式部分） | 对比文件中的“计算阵列坐标”即为多个目标位置，这些目标位置构成了晶圆台移动时所要达到的多个目标状态，因此直接公开了“设定点分布轮廓包括多个目标状态”。 | ||||
| **技术特征C：每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的**<br>**《直接公开》** | “晶圆台WS被构造为通过电机16以步进重复方式进行二维移动。”（具体实施方式部分）<br>“晶圆台WS接下来根据阵列坐标值进行步进动作。”（具体实施方式部分） | 步进重复移动中，晶圆台在每个步进步骤结束时到达对应的目标位置，该位置必然在特定的时间点（目标时间）获得。虽然对比文件未明确列出时间序列，但本领域技术人员根据步进运动原理可直接确定每个目标状态对应一个时间点，因此直接公开。 | ||||
| **技术特征D：所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及前馈数据或前馈控制系统。 | 对比文件仅涉及基于EGA的定位方法，其移动控制通过反馈（如干涉仪测量位置）实现，未公开任何形式的前馈数据或前馈控制系统。本领域技术人员无法从对比文件中毫无疑义地得出该特征。 | ||||
| **技术特征E：在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态**<br>**《直接公开》** | “固定到晶圆台WS边缘的移动镜15m反射来自干涉仪15的激光束。晶圆台的二维位置总是被干涉仪15以例如0.001μm的分辨率检测。”（具体实施方式部分） | 对比文件明确公开了在移动过程中通过干涉仪连续测量晶圆台的位置（状态），测量时间点覆盖移动期间的多个时刻，因此直接公开。 | ||||
| **技术特征F：比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态，以获得一组误差**<br>**《直接公开》** | “EGA计算单元62基于存储在比对数据存储单元61中的七个样品曝光的测量阵列坐标值（Mgx, Mgy）和存储在曝光图数据单元64中的设计阵列坐标值（Dx, Dy）确定晶圆上曝光阵列的规律性。……存在残差项（εXg, εYg）。”（具体实施方式部分，公式(4)附近） | 对比文件详细描述了将测量的位置坐标（测量状态）与设计坐标（目标状态）进行比较，并计算残差（误差）的过程，例如公式(4)中的残差项。这与目标专利中“比较获得一组误差”完全一致，直接公开。 | ||||
| **技术特征G：用非线性滤波器滤波所述这组误差**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及非线性滤波器。 | 对比文件对误差的处理是采用最小二乘法进行统计计算（线性拟合），没有使用任何非线性滤波操作。本领域技术人员无法从对比文件中得出该特征。 | ||||
| **技术特征H：根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及前馈数据。 | 对比文件根据误差计算的是系统偏移量（offset）和变换矩阵参数，用于校正后续对准，并非产生前馈数据。该特征未公开。 | ||||
| **技术特征I：所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及前馈控制系统。 | 由于对比文件未公开前馈数据或前馈控制系统，该特征未被公开。 | ||||
| **技术特征J：所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e)**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及迭代学习或前馈数据替换。 | 对比文件中的对准过程是一次性计算偏移后用于后续曝光，没有迭代重复使用前馈数据的过程。该特征未公开。 | ||||
| **技术特征K：直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及阈值条件判断。 | 对比文件未设置基于误差满足阈值的停止条件。该特征未公开。 | ||||
| **技术特征L：输出满足阈值条件的改进的前馈数据**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及阈值条件或输出前馈数据。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征M：其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及幅度依赖滤波。 | 对比文件未公开任何滤波操作，更未涉及幅度依赖。该特征未公开。 | ||||
| **技术特征N：其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及幅度依赖滤波。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征O：其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及频带分解。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征P：对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及频带滤波。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征Q：其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组**<br>**《隐含公开》** | “在测量这些标记位置时，可能会拒绝无法测量的标记或测量值与设计值差异极大的标记（缺陷标记）。仅使用剩余的标记位置。”（具体实施方式部分）<br>“从多个曝光区域中选择至少三个样品曝光区域进行测量。”（具体实施方式部分） | 对比文件在EGA中仅选择部分样品曝光区域（子组）进行测量，这些样品曝光区域对应的测量时间点自然是目标时间序列的一部分子组。虽然对比文件未明确表述时间对应关系，但本领域技术人员可以合理推断：测量状态的时间点对应于所选目标位置的目标时间，即为子组。因此隐含公开。 | ||||
| **技术特征R：其中所述目标状态包括以下所述的至少一个：所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度**<br>**《直接公开》** | “设计阵列坐标值（Dx, Dy）”（具体实施方式部分）<br>“晶圆台WS被定位，使得其上的晶圆与掩模版图案对准。”（具体实施方式部分） | 对比文件中的“设计阵列坐标值”即为目标位置，明确公开了目标状态包括目标位置。虽然目标速度和目标加速度未明确，但该特征为“包括至少一个”，因此目标位置被公开即满足该特征，直接公开。 | ||||
| **技术特征S：其中对于所述滤波器进行配置**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及滤波器配置。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征T：使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及噪声带或幅度阈值滤波。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征U：其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示**<br>**《未公开》** | 对比文件未以阵列形式表示误差。 | 对比文件中的误差（残差）以矩阵形式参与最小二乘计算，但未公开如ey(i)的阵列表示。该特征未公开。 | ||||
| **技术特征V：其中0≤i≤n**<br>**《未公开》** | 对比文件未公开误差阵列的索引范围。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征W：n是组中的采样数**<br>**《未公开》** | 对比文件未公开采样数定义。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征X：所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及滤波器矩阵。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征Y：步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积**<br>**《未公开》** | 对比文件全文未提及滤波器矩阵乘积。 | 该特征未公开。 | ||||
| **技术特征Z：其中所述的Φ(ey(i))的定义如下：**<br>$$\Phi(e_y(i)) = \begin{bmatrix} \phi(e_y(0)) & 0 & \cdots & 0 \\ 0 & \phi(e_y(1)) & \cdots & 0 \\ \vdots & \vdots & \ddots & \vdots \\ 0 & 0 & \cdots & \phi(e_y(n)) \end{bmatrix}$$<br>和<br>$$\phi(e_y(i)) = 1 - \text{att}(e_y(i))$$<br>和<br>$$\text{att}(e_y(i)) = \max\left(0, 1 - \frac{( | e_y(i) | - \delta)^2}{ | e_y(i) | ^2}\right)$$<br>其中δ为所述滤波器的上噪声带。<br>**《未公开》** | 对比文件全文未涉及上述公式。 | 该特征涉及具体的滤波器数学定义，对比文件未公开任何类似内容。该特征未公开。 |
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