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对比文件列表
1996-05-28_US5521036A_发明授权_US5521036A Positioning method and apparatus_+++A_B_C_E_F_R_q+++.docx
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1998-05-26_US5757149A_发明授权_US5757149A Drive control apparatus_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Q_R_S_U_V_W_k_l+++.docx
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1998-11-03_US5831739A_发明授权_US5831739A Alignment method_+++E_F_R_U_W_v+++.docx
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2000-09-05_US6114670A_发明授权_US6114670A Nonlinear feedforward control for ramp following and overshoot minimization_+++A_B_C_D_E_R_f_q+++.docx
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2001-07-17_US6260282B_发明授权_US06260282B1 Stage control with reduced synchronization error and settling time_+++A_B_C_D_E_F_R_q+++.docx
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2002-03-12_US6355994B_发明授权_US06355994B1 Precision stage_+++A_B_C_D_E_F_q_r+++.docx
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2002-12-11_EP1265106A_发明公开_EP1265106A2 Lithographic apparatus and device manufacturing method_+++A_B_C_E_F_I_R_q+++.docx
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2003-03-06_US2003043354A_发明申请_US20030043354A1 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_C_E_F_I_R_d_h_q_u_v_w+++.docx
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2004-09-02_WO2004074951A_发明申请_WO2004074951A1 METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING A PHYSICAL QUANTITY HAVING A PROGRAMMED VARIATION WITH A FEED-FORWARD CONTROL_+++A_B_C_E_F_I_Q_R_U_W_d_v+++.docx
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2004-11-24_EP1480093A_发明公开_EP1480093A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby_+++R_a_b_c_d_e_f+++.docx
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2004-12-02_US2004238758A_发明申请_US20040238758A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_D_E_F_R_c_q+++.docx
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2005-05-12_JP2005123220A_发明专利_JP2005123220A Stage control method, exposure method, stage control unit, exposure device, and device manufacturing method_+++A_B_C_E_F_Q_R+++.docx
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2005-06-07_US6904422B_发明授权_US06904422B2 Adaptive control system having direct output feedback and related apparatuses and methods_+++A_B_C_D_F_e_q_r+++.docx
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2005-09-27_US6949844B_发明授权_US06949844B2 High-speed precision positioning apparatus_+++A_D_E_F_b_c_q_r+++.docx
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2005-10-20_US2005231706A_发明申请_US20050231706A1 Feedforward control with reduced learning time for lithographic system to improve throughput and accuracy_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_K_L_Q_R+++.docx
2026-07-22 17:42
2005-11-17_JP2005322720A_发明专利_JP2005322720A Stage controlling apparatus and method therefor, exposure apparatus and method therefor, and device manufacturing method_+++A_B_C_D_E_F_I_J_K_L_Q_R_u_v_w+++.docx
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2005-06-07_US6904422B_发明授权_US06904422B2 Adaptive control system having direct output feedback and related apparatuses and methods_+++A_B_C_D_F_e_q_r+++.docx

对比文件的名称:2005-06-07_US6904422B_发明授权_US06904422B2 Adaptive control system having direct output feedback and related apparatuses and methods

目标专利的名称:1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B

本次调用的模型名称:未指定

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
技术特征A:从而通过设定点分布轮廓移动一个部件。《直接公开》[0044]“操作者基于植物输出信号y产生命令信号...操作者将命令动作或命令信号提供给命令滤波器单元28,命令滤波器单元28基于此产生滤波后的命令信号yc和yc(r)。” [0052]“获得系统输出对界轨迹yc(t)的跟踪。”对比文件明确公开了通过命令信号(即设定点分布轮廓)控制植物(部件)移动,实现轨迹跟踪,因此直接公开。
技术特征B:所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态。《直接公开》[0052]“获得系统输出对界轨迹yc(t)的跟踪。”对比文件中的界轨迹yc(t)由连续时间目标状态组成,本领域技术人员可直接确定其包含多个目标状态,因此直接公开。
技术特征C:每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的。《直接公开》[0052]同上,命令信号是时间函数。对比文件中命令信号随时间变化,每个时刻对应一个目标状态,因此直接公开。
技术特征D:所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件。《直接公开》[0053]“伪控制信号v选择为v=yc(r)+vdc−vad的形式,其中vdc是稳定线性动态补偿器的输出...vad是自适应控制信号。” [0049]“模型逆单元18基于伪控制信号v和植物输出信号y生成命令控制信号δc。”对比文件使用了前馈项yc(r)和模型逆,构成前馈控制,因此直接公开。
技术特征E:在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态。《隐含公开》[0049]“传感器34耦合到受控非线性系统30,并生成植物输出信号y,该信号是全植物状态函数。” [0044]“植物输出信号y。”对比文件测量输出信号,而输出是状态的函数,但未直接测量多个状态。本领域技术人员可合理推断通过测量输出可获取状态信息,因此隐含公开。
技术特征F:比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态,以获得一组误差。《直接公开》[0044]“误差信号发生器20基于滤波后的命令信号yc和植物输出信号y生成跟踪误差信号y~。”对比文件直接公开了比较测量输出与命令信号获得误差,因此直接公开。
技术特征G:用非线性滤波器滤波所述这组误差。不公开无相关公开。对比文件仅使用线性低通滤波器([0062]“稳定低通滤波器T−1(s)”),未公开任何非线性滤波器,也不隐含公开。
技术特征H:根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据。不公开无相关公开。对比文件未公开根据滤波误差产生改进的前馈数据,其自适应信号vad并非基于滤波误差直接产生的前馈数据。
技术特征I:所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件。不公开无相关公开。对比文件未公开改进的前馈数据及其使用。
技术特征J:所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e)。不公开无相关公开。对比文件未公开迭代学习过程。
技术特征K:直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止。不公开无相关公开。对比文件未公开阈值条件判断。
技术特征L:输出满足阈值条件的改进的前馈数据。不公开无相关公开。对比文件未公开。
技术特征M:其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度。不公开无相关公开。对比文件未公开幅度依赖滤波。
技术特征N:其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量。不公开无相关公开。对比文件未公开。
技术特征O:其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带。不公开无相关公开。对比文件未公开频带分解。
技术特征P:对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作。不公开无相关公开。对比文件未公开。
技术特征Q:其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组。《隐含公开》[0044]等描述了控制过程,通常采用离散时间实现。本领域技术人员可合理推断测量时间与命令时间对应,因此隐含公开。
技术特征R:其中所述目标状态包括以下所述的至少一个:所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度。《隐含公开》[0052]“界轨迹yc(t)”,但未明确物理量。本领域技术人员可合理推断命令信号可代表位置、速度或加速度,因此隐含公开。
技术特征S:其中对于所述滤波器进行配置。不公开无相关公开。对比文件未公开对应滤波器配置。
技术特征T:使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分。不公开无相关公开。对比文件未公开死区滤波器。
技术特征U:其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示。不公开无相关公开。对比文件未公开误差数据阵列表示。
技术特征V:其中0≤i≤n。不公开无相关公开。对比文件未公开。
技术特征W:n是组中的采样数。不公开无相关公开。对比文件未公开。
技术特征X:所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示。不公开无相关公开。对比文件未公开。
技术特征Y:步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积。不公开无相关公开。对比文件未公开。
技术特征Z:其中所述的Φ(ey(i))的定义如下:...不公开无相关公开。对比文件未公开具体数学公式。

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