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权利要求与技术特征
权利要求 1
A
包括，
B
基础层
C
和在所述基础层上的复数个柱状间隔物
D
其中球状间隔物附接至所述复数个柱状间隔物中的至少一者或嵌入到所述复数个柱状间隔物中的至少一者中
E
其中附接有或嵌入有所述球状间隔物的所述柱状间隔物的数量A相对于未附接或嵌入所述球状间隔物的所述柱状间隔物的数量B的比率A/B在0.01至10的范围内
F
其中所述柱状间隔物的高度平均值H与所述球状间隔物的平均粒径D的比率H/D大于1
G
其中所述复数个柱状间隔物的直径的平均值在14μm至60μm的范围内
H
其中所述柱状间隔物的高度的标准偏差在0.05μm至0.3μm的范围内
I
其中所述柱状间隔物损失率为15％或更小，所述损失率通过以下来测量：将Nichiban胶带CT‑24以宽度为24mm且长度为40mm的矩形附接区域附接至其上形成有所述柱状间隔物的所述基础层的表面，然后以30mm/秒的剥离速率和180度的剥离角在纵向方向上剥离所述Nichiban胶带CT‑24。
权利要求 2
J
其中所述柱状间隔物的光密度在1.1至4的范围内。
权利要求 3
K
其中所述柱状间隔物包含颜料或染料。
权利要求 4
L
其中所述柱状间隔物包含金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、基于偶氮的颜料、酞菁颜料或基于碳的材料。
权利要求 5
M
其中所述柱状间隔物包含炭黑或石墨。
权利要求 6
N
其中所述基础层为无机基础层或有机基础层。
权利要求 7
O
其中在所述基础层与所述柱状间隔物之间形成电极层并且其中所述柱状间隔物与所述电极层接触。
权利要求 8
P
其中所述柱状间隔物的高度的平均值在2μm至50μm的范围内。
权利要求 9
Q
其中所述柱状间隔物的直径的标准偏差在0.3μm至1.5μm的范围内。
权利要求 10
R
其中所述柱状间隔物的直径的平均值T相对于所述球状间隔物的平均粒径D的比率T/D大于1。
权利要求 11
S
其中所述球状间隔物的粒径的标准偏差为0.8μm或更小。
权利要求 12
T
其中基于所述基础层的总表面面积，所述基础层的表面上的所述球状间隔物和所述柱状间隔物的面积在0.5％至20％的范围内。
权利要求 13
U
还包括附接在其上形成有所述球状间隔物和所述柱状间隔物的所述基础层的表面上的保护压敏粘合膜。