对比文件名称：2019-05-09_JP2019071757A_发明专利_JP2019071757A ロータ及びロータ製造方法
目标专利名称：1529马达CN113906656B
本次调用的模型名称：本AI模型
## 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述马达包括定子《直接公开》 | [0010]「ロータは、回転電機で用いられる部品である。回転電機では、ロータの周囲にステータが配置される。」（转子是用于旋转电机的部件。在旋转电机中，定子配置在转子周围。） | 对比文件明确记载旋转电机（即马达）包括定子（ステータ），且定子配置在转子周围。本领域技术人员可直接、毫无疑义地确定转子马达包括定子这一技术特征。 |
| 技术特征B：轴，所述轴设置在所述定子的内部《直接公开》 | [0010]「ロータの周囲にステータが配置される」（定子配置在转子周围）；[0027]「シャフト10は、ロータの回転軸となる金属製の部材である。」（轴10是作为转子旋转轴的金属构件。） | 对比文件公开了转子及其轴（シャフト）作为一体，且定子配置在转子周围，因此轴必然位于定子的内部。本领域技术人员可直接得出轴设置在定子内部的结论。 |
| 技术特征C：磁体，所述磁体联接至所述轴（未公开） | [0033]「ロータコア16には、規則的に配置された磁石挿入孔が設けられており、…永久磁石が挿入される。」（转子铁心16设有规则排列的磁体插入孔，…插入永久磁体。） | 对比文件中的磁体插入转子铁心的磁体插入孔内，磁体不与轴直接接触或联接，而是通过转子铁心间接固定。目标专利要求磁体直接联接至轴，对比文件未公开此特征，亦无法合理推断出磁体与轴直接联接。 |
| 技术特征D：覆盖件，所述覆盖件设置在所述磁体的外部（未公开） | 对比文件全文未提及覆盖件或类似结构。 | 对比文件主要涉及转子铁心与轴的固定，完全没有公开用于包裹磁体的覆盖件。本领域技术人员无法从中得到任何关于覆盖件的技术方案。 |
| 技术特征E：其中，所述覆盖件包括第一部分和从所述第一部分的一个侧部延伸的第二部分（未公开） | 对比文件全文未提及覆盖件的任何结构。 | 对比文件未公开覆盖件，更未公开其第一部分和第二部分的划分。 |
| 技术特征F：所述磁体的内表面与所述轴的外表面接触（未公开） | 同特征C，磁体不与轴接触。 | 对比文件中磁体不设置在轴表面，因此不存在磁体内表面与轴外表面接触的关系。 |
| 技术特征G：所述磁体的外表面与所述第一部分的内表面接触（未公开） | 对比文件无覆盖件结构，无第一部分。 | 对比文件未公开覆盖件，更未公开磁体外表面与覆盖件内表面接触。 |
| 技术特征H：所述第二部分的内表面的一部分与所述轴的所述外表面接触（未公开） | 对比文件无覆盖件第二部分。 | 对比文件无覆盖件特征。 |
| 技术特征I：所述第二部分的所述内表面的剩余部分设置成与所述轴的所述外表面间隔开，使得在所述轴的所述外表面与所述磁体的一个端部之间设置有第一空间(S1)（未公开） | 对比文件全文未提及此类空间结构。 | 对比文件未公开任何覆盖件与轴之间的空间结构。 |
| 技术特征J：所述覆盖件包括从所述第一部分的另一侧部延伸的第三部分（未公开） | 对比文件无覆盖件结构的任何描述。 | 对比文件未公开第三部分。 |
| 技术特征K：所述第三部分的内表面的一部分与所述轴的所述外表面接触（未公开） | 同特征J。 | 对比文件未公开第三部分及其与轴的接触。 |
| 技术特征L：所述第三部分的所述内表面的剩余部分设置成与所述轴的所述外表面间隔开，使得在所述轴的所述外表面与所述磁体的另一端部的表面之间设置有第二空间(S2)（未公开） | 同特征J、K。 | 对比文件未公开任何空间结构。 |
| 技术特征M：其中，所述第一空间(S1)沿轴向方向设置在所述磁体的一侧（未公开） | 对比文件无空间概念。 | 对比文件未公开S1及其方位。 |
| 技术特征N：其中，所述第二空间(S2)沿所述轴向方向设置在所述磁体的另一侧（未公开） | 对比文件无空间概念。 | 对比文件未公开S2及其方位。 |
| 技术特征O：其中，所述覆盖件包括第三区域，所述第三区域相对于所述轴的中心在径向方向上具有不同的厚度；并且，所述覆盖件包括设置成围绕所述轴的中心在周向方向上彼此间隔开的多个第一区域（未公开） | 对比文件全文未提及类似区域。 | 对比文件未公开覆盖件的厚度变化区域或周向间隔区域。 |
| 技术特征P：沿径向方向从所述轴的所述外表面至所述第一区域的距离小于沿所述径向方向从所述轴的所述外表面至所述磁体的所述外表面的最短距离（未公开） | 对比文件未公开第一区域及相关距离关系。 | 对比文件无对应的第一区域及距离比较。 |
| 技术特征Q：其中，所述第一空间(S1)和所述第二空间(S2)连接至所述第一区域（未公开） | 对比文件无空间与区域的连接关系。 | 对比文件未公开任何连接结构。 |
| 技术特征R：其中，所述磁体包括第一单元磁体和第二单元磁体（未公开） | [0033]虽提及磁体插入，但未明确分为单元磁体；磁体插入转子铁心，并非设置在轴表面。 | 对比文件未公开磁体在轴表面分为单元磁体。 |
| 技术特征S：所述第一区域设置在所述第一单元磁体与所述第二单元磁体之间（未公开） | 对比文件无第一区域，无单元磁体设置关系。 | 对比文件未公开此位置关系。 |
| 技术特征T：所述第一区域设置在轴向方向上（未公开） | 对比文件无第一区域。 | 对比文件未公开第一区域的轴向设置。 |
| 技术特征U：其中，所述覆盖件包括相对于所述轴的中心在径向方向上构成多层的第二区域（未公开） | 对比文件无覆盖件分层或多层区域。 | 对比文件未公开多层结构。 |
| 技术特征V：其中，所述覆盖件包括第一层和在所述第二区域中堆叠在所述第一层上的第二层（未公开） | 同特征U。 | 对比文件未公开层叠结构。 |
| 技术特征W：所述第二层的一个侧边缘能够设置成相对于所述第一层的一个侧边缘倾斜（未公开） | 对比文件无覆盖件且无层边缘倾角。 | 对比文件未公开任何倾斜边缘。 |
| 技术特征X：其中，所述轴包括与所述磁体接触的多个突出部（未公开） | [0009]等公开了轴具有突出部（下侧突出部12、上侧突出部26），但突出部用于与转子铁心接触固定，而非与磁体接触。 | 对比文件中的突出部用于压接转子铁心端面，不与磁体接触。目标专利突出部用于导引和固定设置在轴表面的磁体，作用不同。对比文件未公开突出部与磁体接触。 |
| 技术特征Y：所述多个突出部包括从所述轴的外周表面突出的第一面和凹入地设置在所述轴的内周表面中的第二面（未公开） | [0009]公开突出部为壁面塑性变形形成的开口状结构（开口68、72等），未提及内周表面具有凹入的第二面；[0043]描述切断面28c，但无内周凹面。 | 对比文件的突出部通过切断和塑性变形形成贯通开口，内壁没有形成实体凹入的第二面；目标专利的第二面是通过压花工艺在实心壁上形成的凹入结构，两者本质不同。对比文件未公开第二面。 |
| 技术特征Z：其中，所述第一面和所述第二面中的每一者包括至少一个平坦表面（未公开） | [0043]“切断面28cは、壁面60に対してほぼ垂直な形状に形成されている”（切断面28c形成为相对于壁面大致垂直的形状）——暗示第一面可为平坦；但第二面不存在，更无平坦表面。 | 对比文件仅可能具有第一面的平坦表面，但未公开第二面及其平坦表面。目标专利要求两面均包含平坦表面，对比文件未满足。 |
综合以上分析，对比文件直接公开了技术特征A和B，未直接或隐含公开其余技术特征。
<<<A>>><<<B>>>