对比文件的名称：WO2006129657A1_Description_20260619_0117
目标专利的名称：1538泵CN114746652B
本次调用的模型名称：DeepSeek
### 特征比对表格
| 技术特征及公开性 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括<br>《直接公开》 | 【0019】“泵80是配备有泵部81、马达部82和控制部83构成的马达一体型内接齿轮泵。”<br>【0010】“一种马达一体型内接齿轮泵，具备……”。 | 对比文件直接记载了泵包括泵部、马达部和控制部，其“包括”的含义与目标专利权利要求中的“包括”一致，均表示开放式列举。本领域技术人员能够毫无疑义地确定对比文件公开了技术特征A。 |
| 技术特征B：壳体<br>《直接公开》 | 【0020】“正面壳体3和背面壳体4是形成泵壳体的部件。”<br>【0020】“泵部81包括……正面壳体3、背面壳体4……”。 | 对比文件明确公开了正面壳体和背面壳体共同构成泵壳体，该壳体用于容纳泵齿轮和马达部件。与目标专利中壳体用于容纳定子和泵齿轮的作用相同，因此技术特征B被直接公开。 |
| 技术特征C：定子，所述定子设置在所述壳体内部<br>《直接公开》 | 【0032】“马达部82包括……固定子12（定子）……”；<br>【0045】“在密封部6的外侧且与转子11相对的位置，将梳齿状铁心上卷绕有线圈的定子12压入安装在密封部6的外周。”<br>密封部6为背面壳体的一部分，定子通过压入方式固定于壳体内部形成的空间中。 | 对比文件中的固定子12即定子，其安装于密封部外周（密封部属于壳体的部分），整体位于壳体内部。目标专利的定子设置在壳体内部，二者结构布置完全相同，且均用于产生旋转磁场驱动转子。因此技术特征C被直接公开。 |
| 技术特征D：泵齿轮，所述泵齿轮设置成与所述定子对应并且包括外部齿轮和内部齿轮<br>《直接公开》 | 【0020】“泵部81包括内转子1、外转子2……”；<br>【0022】“外转子2是与内转子1大致相同齿宽的环状内齿轮形状，其齿数比内转子多一个。”；<br>【0045】“定子12在外转子外周设置（对应关系）”。 | 对比文件的外转子2相当于外部齿轮，内转子1相当于内部齿轮，两者啮合构成泵齿轮。外转子位于定子内侧，与定子径向对应，该配置与目标专利一致。因此技术特征D被直接公开。 |
| 技术特征E：磁体，所述磁体设置在所述外部齿轮上<br>《直接公开》 | 【0033】“在外转子2的外侧一体化永久磁石作为马达部82的转子11。” | 对比文件明确记载永久磁石（即磁体）一体化设置于外转子（外部齿轮）上。该磁体作为转子与定子电磁作用驱动外转子旋转，与目标专利中磁体的作用相同。因此技术特征E被直接公开。 |
| 技术特征F：其中，所述磁体包括第一外周表面<br>《直接公开》 | 【0033】“永久磁石作为转子11”；<br>结合附图1、图2，磁体具有暴露于外部的圆弧形外周表面。 | 对比文件中的永久磁石为环状或瓦状结构，必然具有朝外的外周表面（即第一外周表面）。本领域技术人员根据磁体形状可直接确定该表面的存在，无需额外说明。因此技术特征F被直接公开（实质公开）。 |
| 技术特征G：其中，所述外部齿轮包括第二外周表面<br>《直接公开》 | 【0025】“在外转子2的外周部形成有比齿部更向轴向伸出的环状伸出部21。”；<br>【0033】“外转子2的外侧安装磁体”。 | 对比文件的外转子（外部齿轮）具有外周部表面，即第二外周表面。该表面用于设置磁体或与其他部件配合，表面存在是固有结构。因此技术特征G被直接公开。 |
| 技术特征H：其中，所述第一外周表面的曲率小于所述第二外周表面的曲率<br>（未公开） | 对比文件未记载磁体外周表面曲率与外部齿轮外周表面曲率之间的关系。 | 对比文件中磁体直接安装于外转子外侧，未描述两者表面的曲率差异。目标专利中因磁体安装在容纳凹槽中，导致磁体外表面曲率小于齿轮外表面曲率，而对比文件未公开该关系，且无法从现有描述毫无疑义地推导出此特征。因此技术特征H未被对比文件公开。 |
| 技术特征I：其中，所述外部齿轮包括容纳凹槽，形成在所述第二外周表面上的所述磁体设置在所述容纳凹槽中<br>（未公开） | 对比文件无关于容纳凹槽的记载。<br>【0033】仅提到“一体化”方式包括“粘接、压入”等，但未提及凹槽结构。 | 目标专利中外部齿轮设有专用于容纳磁体的凹槽，而对比文件描述磁体可通过粘接或一体成型等方式固定，未给出在外部齿轮外表面开设凹槽以容纳磁体的任何教导或暗示。本领域技术人员不能从对比文件直接或隐含得出包含凹槽的技术方案，因此技术特征I未被公开。 |
| 技术特征J：其中，所述容纳凹槽包括底部表面和连接至所述底部表面的侧部表面<br>（未公开） | 对比文件未公开容纳凹槽，因此无相关表面结构。 | 由于对比文件未公开容纳凹槽，其底部表面和侧部表面更无从谈起。该特征依赖于凹槽结构，故未被对比文件公开。 |
| 技术特征K：其中，所述侧部表面包括以第一角度倾斜的第一区域和以第二角度倾斜的第二区域<br>（未公开） | 对比文件未公开任何关于侧部表面倾斜区域的内容。 | 对比文件未记载磁体安装槽的侧部形状或角度特征，本领域技术人员无法从对比文件得到任何关于侧部表面具有两个不同角度倾斜区域的技术信息。因此技术特征K未被公开。 |
| 技术特征L：其中，所述第一区域与所述磁体的侧部表面接触，并且所述第二区域与所述磁体的侧部表面不接触<br>（未公开） | 对比文件无相应描述。 | 对比文件没有公开凹槽侧壁与磁体侧表面的接触关系，更未区分接触与非接触区域。该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征M：其中，所述第二区域具有随着所述第二区域在所述外部齿轮的径向方向上向外行进而距所述磁体的所述侧部表面的距离变得更长的形状<br>（未公开） | 对比文件无此结构特征。 | 对比文件未提及凹槽侧壁的斜面形状及与磁体距离的变化关系。该形状特征在对比文件中无任何记载或暗示，因此未被公开。 |
| 技术特征N：其中，阶状部设置在所述外部齿轮的芯的外周表面上并且与所述磁体的上部表面或下部表面接触<br>（未公开） | 对比文件【0025】描述了外转子外周部的“环状伸出部21”，但该伸出部用于形成滑动轴承，并非用于与磁体端面接触的阶状部。 | 目标专利的阶状部专用于磁体的轴向定位，而对比文件的伸出部是用于径向轴承功能。两者结构、位置、功能均不相同。对比文件未公开与磁体上部或下部表面接触的阶状部，因此技术特征N未被公开。 |
| 技术特征O：其中，所述阶状部的侧部包括笔直部分和弯曲部分<br>（未公开） | 对比文件无此特征描述。 | 对比文件未公开阶状部的侧部形状，更未提及笔直部分与弯曲部分。该特征未被公开。 |
| 技术特征P：其中，所述笔直部分和所述弯曲部分沿着所述外部齿轮的周向方向交替布置；并且中，所述笔直部分布置成在与所述外部齿轮的所述径向方向垂直的竖直方向上与所述容纳凹槽重叠<br>（未公开） | 对比文件无此特征描述。 | 对比文件未公开任何关于笔直与弯曲部分交替布置及其与凹槽重叠的特定关系。该特征未被公开。 |
| 技术特征Q：所述磁体包括多个单元磁体；并且中，所述第二外周表面设置在所述多个单元磁体中的彼此相邻的两个单元磁体之间<br>（未公开） | 【0033】“永久磁石……外周侧沿周向NS极交替排列”。 | 对比文件虽提及磁极交替，但并未明确磁体由多个独立单元磁体构成，也未描述相邻单元磁体之间露出的外部齿轮表面（第二外周表面）。此特征涉及磁体结构的分立性及齿轮表面的暴露区域，对比文件未直接公开，也不能必然推导出。因此技术特征Q未被对比文件公开。 |
| 技术特征R：就径向方向而言，从所述外部齿轮的中心至所述第二外周表面的线性距离比从所述外部齿轮的中心至所述第一外周表面的最大线性距离大<br>（未公开） | 对比文件未比较径向距离关系。 | 目标专利中由于磁体安装在凹槽，导致齿轮外表面（第二外周表面）比磁体外表面（第一外周表面）更靠外。对比文件未描述磁体是否凹陷于齿轮外表面，或两者径向位置关系，因此技术特征R未被公开。 |
| 技术特征S：所述磁体的面向所述容纳凹槽的内表面的尺寸比所述第一外周表面的尺寸小<br>（未公开） | 对比文件无磁体截面形状的记载。 | 目标专利的磁体截面为内表面尺寸小于外表面尺寸的形状（梯形）。对比文件未公开磁体内外表面的尺寸关系，因此技术特征S未被公开。 |
| 技术特征T：所述磁体的侧部表面与所述磁体的内表面成锐角倾斜<br>（未公开） | 对比文件无磁体侧部相对于内表面角度的描述。 | 目标专利中磁体侧部向内倾斜与内表面形成锐角。对比文件未记载磁体的这种倾斜结构，因此技术特征T未被公开。 |
| 技术特征U：所述外部齿轮的内周表面包括凹形部分和凸形部分<br>《直接公开》 | 【0022】“外转子2是与内转子1大致相同齿宽的环状内齿轮形状，具有用圆弧等形成的齿形的齿，齿数比内转子多一个。”<br>【0025】“外转子2的齿部”。 | 外转子的内齿轮结构必然包含齿（凸形部分）和齿槽（凹形部分），对比文件明确记载其为内齿轮形状，因此直接公开了内周表面具有凹形和凸形交替部分。该结构与目标专利中外部齿轮内周表面的凹凸部分一致。因此技术特征U被直接公开。 |
| 技术特征V：其中，所述凸形部分比所述凹形部分更靠近所述外部齿轮的中心；并且中，所述凹形部分和所述凸形部分彼此交替地设置<br>《直接公开》 | 【0022】“外转子2……内齿轮形状”；<br>内齿轮的齿顶径向向内突出（凸形部分），齿槽径向向外（凹形部分），两者沿周向交替。 | 对比文件公开的内齿轮中，齿（凸形部分）的顶部较齿槽底部更靠近外转子中心，且齿与齿槽自然交替排列。该特征与目标专利完全一致。因此技术特征V被直接公开。 |
根据以上比对，对比文件直接公开了技术特征A、B、C、D、E、F、G、U、V。未直接公开或隐含公开其他技术特征。
<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<D>>><<<E>>><<<F>>><<<G>>><<<U>>><<<V>>>