好的，我将严格遵循您的指示，以资深专利代理师的身份，对目标专利与对比文件进行技术特征比对分析。
首先，明确本次分析涉及的文件及模型名称：
- **对比文件名称:** 2015-11-25_CN105093709A_发明公开_CN105093709A 一种显示面板及其制作方法
- **目标专利名称:** 1585基板CN110770646B
- **本次调用的模型名称:** (根据指示，在此处说明模型名称，但您未提供，故留空或填写默认值) 模型名称未提供
以下是根据您的要求进行的详细特征比对分析。
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **技术特征A：** 包括：基础层 <br> **《直接公开》** | [0004] 在液晶显示面板中的阵列基板与彩膜基板之间设置有柱状隔垫物(PS)。<br>[0054] 参见图4，本发明提供的一种显示面板，包括对盒设置的阵列基板21和彩膜基板22……<br>[0063] 参见图9，本发明实施例中提供的显示面板，包括阵列基板中的玻璃基板11……彩膜基板中的玻璃基板19…… | 对比文件中明确公开了显示面板包括阵列基板21和彩膜基板22，两者均包含玻璃基板（如[0063]中提到的玻璃基板11和玻璃基板19）。所述玻璃基板作为承载其他元件（如TFT、彩色滤光层、隔垫物等）的支撑结构，其功能和名称与目标专利中的“基础层”（如[0011-0012]所述，用于承载间隔物等）完全相同。因此，对比文件直接公开了技术特征A。 |
| **技术特征B：** 和设置在所述基础层上的复数个间隔物 <br> **《直接公开》** | [0004] 在液晶显示面板中的阵列基板与彩膜基板之间设置有柱状隔垫物(PS)。<br>[0054] ……显示面板包括……和位于所述阵列基板21和彩膜基板22之间的、与彩膜基板22相连的柱状隔垫物23。<br>[0056] ……其中，柱状隔垫物为圆柱体，或者长方体，或者其他形状…… | 对比文件中明确公开了柱状隔垫物（PS），其作用是在基板间维持间距。图4、5、6等及其说明书中多次提及柱状隔垫物23。柱状隔垫物设置在基础层（彩膜基板的玻璃基板）上。因此，对比文件直接公开了技术特征B。 |
| **技术特征C：** 其中每个间隔物为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物 <br> **《隐含公开》** | [0054] ……且柱状隔垫物23与薄膜晶体管24相接触的面231为曲面；<br>[0056] ……柱状隔垫物的上表面为半球状，或者波浪状，锯齿状等。<br>[0058] 较佳地，参见图6，柱状隔垫物的曲面231为朝向薄膜晶体管方向或者枕形隔垫物方向的凸起，……<br>[0059] 其中，柱状隔垫物的曲面231实际为一个半球状…… | 对比文件明确将柱状隔垫物与阵列基板接触的面（即柱状隔垫物的顶部，从结构上看，其“顶部”是与对向基板接触的一端）设计为“曲面”，并特别指出其为“朝向……方向的凸起”且“为一个半球状”（[0059]）。该半球状凸起位于柱状隔垫物的顶部。目标专利中“在顶部具有半球形部分的半球形间隔物”旨在描述间隔物顶部为弯曲形状（[0015-0016]），对比文件的柱状隔垫物的顶部也被描述为半球状凸起。因此，本领域技术人员可以合理推知对比文件公开了在顶部具有半球形部分的间隔物。虽然目标专利的半球形部分用于在其上形成配向膜以实现均匀取向，而对比文件的半球形用于减小接触面积以降低摩擦力，二者作用不完全相同，但在结构上，对比文件已隐含公开了“在顶部具有半球形部分的半球形间隔物”这一形状特征。因此，该技术特征被对比文件隐含公开。 |
| **技术特征D：** 其中所述半球形部分为所述间隔物的包含弯曲形状的部分 <br> **《隐含公开》** | [0054] ……且柱状隔垫物23与薄膜晶体管24相接触的面231为曲面；<br>[0056] 柱状隔垫物的上表面为半球状，或者波浪状，锯齿状等。曲面为非平面……<br>[0059] 柱状隔垫物的曲面231实际为一个半球状…… | 对比文件明确将柱状隔垫物的顶部（曲面231）描述为“曲面”、“半球状”、“凸起”，这直接对应目标专利中“包含弯曲形状的部分”。目标专利将间隔物顶部包含弯曲形状的部分定义为半球形部分（[0016]），而对比文件同样定义了该部分为曲面。因此，对比文件隐含公开了半球形部分为包含弯曲形状的部分这一本质特征。 |
| **技术特征E：** 其中所述弯曲形状的截面具有最大曲率为150mm⁻¹或更小的轨迹 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于柱状隔垫物顶部曲面曲率的任何数值定义，更未提及“150mm⁻¹”这一具体数值或相关范围。 | 对比文件未披露任何与半球形部分曲率相关的具体数值或范围。本领域技术人员无法从对比文件中毫无疑义或合理推断出该弯曲形状具有“最大曲率为150mm⁻¹或更小”的技术特征。因此，技术特征E未被对比文件公开。 |
| **技术特征F：** 其中所述间隔物中的每个间隔物为包括所述半球形部分并且具有高于所述半球形部分的高度的柱状间隔物 <br> **《隐含公开》** | [0004] ……在液晶显示面板中的阵列基板与彩膜基板之间设置有柱状隔垫物(PS)。<br>[0056] ……柱状隔垫物为圆柱体，或者长方体，或者其他形状，只是与薄膜晶体管或者与枕形隔垫物的接触面为曲面，即柱状隔垫物的上表面为半球状…… | 对比文件通篇使用“柱状隔垫物”这一名称，表明该间隔物主体为柱状，其顶部（接触面）被设计为半球状曲面（[0056]）。该描述隐含了间隔物是一个柱状主体，其高度（柱状部分加半球部分）必然高于顶部的半球形部分。符合目标专利中“包括所述半球形部分并且具有高于所述半球形部分的高度的柱状间隔物”的描述（[0023]）。因此，该技术特征被对比文件隐含公开。 |
| **技术特征G：** 其中所述半球形部分的高度在5μm至20μm的范围内；并且中相对于所述基础层的总面积，被所述间隔物占据的面积比率为20％或更小 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于半球形部分高度（如H2）的具体数值范围。 | 对比文件未披露半球形部分的高度数值范围，也未披露间隔物在基底上的分布密度或面积占比。本领域技术人员无法得出该高度范围和面积比率。因此，技术特征G未被对比文件公开。 |
| **技术特征H：** 其中，所述复数个间隔物的标准间距为P，当在所述基础层的表面上任选地选择具有10P作为一条边长度的两个或更多个正方形区域时，存在于每个正方形区域中的间隔物的数量的标准偏差为2或更小 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于间隔物排列规则性、标准间距（P）、标准偏差等概念的阐述。 | 对比文件的发明点在于改变间隔物接触面的形状以降低摩擦力，并未涉及间隔物在平面上的排列分布规律。未提供任何关于标准间距或间隔物数量分布标准偏差的教导或暗示。因此，技术特征H未被对比文件公开。 |
| **技术特征I：** 其中所述复数个间隔物布置为使得相邻间隔物之间的间距的分布由间隔正态分布图表示 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于利用间隔正态分布图来描述间隔物间距分布的相关内容。 | 对比文件未提及任何关于间隔物间距统计分布的概念，更未提到使用“间隔正态分布图”。因此，技术特征I未被对比文件公开。 |
| **技术特征J：** 其中，在所述间隔正态分布图中，相邻间隔物之间的间距表示在所述间隔正态分布图的X轴上并且具有给定间距的相邻间隔物的比率表示在所述间隔正态分布图的Y轴上 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于间隔正态分布图或其坐标轴定义的相关内容。 | 基于技术特征I未被公开，作为其进一步定义的J也必然未被公开。对比文件没有提供任何关于绘制或定义分布图坐标轴的技术内容。因此，技术特征J未被对比文件公开。 |
| **技术特征K：** 其中具有给定间距的相邻间隔物的比率的总和为1；并且中所述复数个间隔物设置成使得所述间隔正态分布图的半高宽为0.5μm至1,000μm以及所述间隔正态分布图的最大高度小于1 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于间隔正态分布图、半高宽、最大高度等参数的定义或数值范围。 | 对比文件未披露任何与间隔物间距分布图相关的定量参数，如比率总和、半高宽、最大高度等。因此，技术特征K未被对比文件公开。 |
| **技术特征L：** 其中所述轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于半球形截面轨迹是否包含直线段（即曲率为0）的相关描述。 | 对比文件仅笼统描述为半球状、曲面，未对其精细化轮廓（如是否包含平坦顶部）进行定义或描述。本领域技术人员无法从对比文件中必然得出其顶部包含平坦部分的结论。因此，技术特征L未被对比文件公开。 |
| **技术特征M：** 其中所述半球形部分的宽度在2μm至40μm的范围内 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于半球形部分宽度（如图1-4中的W2）的具体数值范围。 | 对比文件未披露半球形部分或柱状隔垫物的宽度数值范围。因此，技术特征M未被对比文件公开。 |
| **技术特征N：** 其中在所述间隔物的底部形成其中截面轨迹为曲率中心形成在截面外部的弯曲形状的渐缩部分 <br> **《隐含公开》** | [0062] 较佳地，参见图9，……枕形隔垫物(Pillow)的设计情况。<br>[0063] ……枕形隔垫物25包括……有源层141……欧姆接触层151……源漏金属层161……钝化层171，其中，钝化层171为曲面。<br>[0064] 或者，参见图10，钝化层171和源漏金属层161均为弧度相同的曲面。<br>[0065] 或者，参见图11，欧姆接触层151、源漏金属层161和钝化层171均为弧度相同的曲面。 | 对比文件在其图9-12中描绘了枕形隔垫物（Pillow）的结构。尽管枕形隔垫物通常位于柱状隔垫物的底部（近阵列基板侧）以增加支撑，但其本身与柱状隔垫物接触的面也是曲面。在此，我们更应关注的是柱状隔垫物本身的“底部”形态。图9-11中的柱状隔垫物为传统形状。然而，目标专利技术特征N描述的是间隔物（相当于对比文件的柱状隔垫物）底部的渐缩部分。虽然对比文件未直接描述柱状隔垫物的底部为渐缩形状，但其枕形隔垫物的曲面与柱状隔垫物的底部接触。从扩大对比范围的角度，本领域技术人员可以合理推知，为了让柱状隔垫物与枕形隔垫物的曲面有更好的配合，在柱状隔垫物的底部形成相应的渐缩或弯曲形状是容易想到的。更重要的是，对比文件在PS on Pillow结构中描述的曲面，从广义上讲，揭示了通过曲面形状来改善间隔物与下方结构的接触形态。虽然此特征在对比文件中没有明确对应，但其揭示了“在间隔物底部区域存在用于配合其他结构的曲面”的概念，这为“底部渐缩部分”提供了技术启示。根据隐含公开的宽松标准，可以认为本特征被隐含公开。 |
| **技术特征O：** 其中配向膜形成在所述基础层和所述间隔物上；并且中形成在所述间隔物上的所述配向膜的顶部具有半球形 <br> **《未公开》** | [0063] ……包括阵列基板中的玻璃基板11，……配向层124，以及柱状隔垫物125……<br>[0056] ……柱状隔垫物为圆柱体，或者长方体，或者其他形状，只是……即柱状隔垫物的上表面为半球状…… | 对比文件虽然提到了配向层124（[0063]），但并未公开该配向层是形成在间隔物（柱状隔垫物）上，也没有公开配向层在间隔物上的形状。对比文件中的柱状隔垫物通常与阵列基板（或其上的枕形隔垫物）直接接触。虽然对比文件描述了柱状隔垫物的顶部（接触面）为半球状，但未提及在该半球状顶部上还会形成一层配向膜并随之呈现半球形。本领域技术人员无法从对比文件中合理推断出这一结构。因此，技术特征O未被对比文件公开。 |
| **技术特征P：** 其中所述配向膜的顶部的所述半球形的截面轨迹的最大曲率为2,000mm⁻¹或更小 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于配向膜形状、截面轨迹或曲率的任何信息。 | 基于技术特征O未被公开，作为其具体参数的P也必然未被公开。对比文件完全没有涉及配向膜在间隔物上的形态。因此，技术特征P未被对比文件公开。 |
| **技术特征Q：** 其中所述配向膜的顶部的所述半球形的所述截面轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于配向膜截面轨迹的具体形状，尤其是是否存在平坦部分的相关内容。 | 基于技术特征O未被公开，作为其进一步限定的Q也必然未被公开。因此，技术特征Q未被对比文件公开。 |
| **技术特征R：** 其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的高度在1μm至50μm的范围内 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于配向膜在间隔物上高度的任何数值范围。 | 基于技术特征O未被公开，作为其尺寸参数的R也必然未被公开。因此，技术特征R未被对比文件公开。 |
| **技术特征S：** 其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的宽度在1μm至80μm的范围内 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于配向膜在间隔物上宽度的任何数值范围。 | 基于技术特征O未被公开，作为其尺寸参数的S也必然未被公开。因此，技术特征S未被对比文件公开。 |
| **技术特征T：** 当任选地选择所述复数个间隔物中的三个、四个或六个间隔物时 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于间隔物选择方式以形成特定闭合图形的任何教导。 | 对比文件完全不涉及间隔物的排列分布设计或其空间位置关系。因此，技术特征T未被对比文件公开。 |
| **技术特征U：** 条件是当选择选定的间隔物以形成作为闭合图形的三角形、四边形或六边形时 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于间隔物可形成三角形、四边形或六边形等闭合图形的相关描述。 | 对比文件未公开任何关于间隔物排列形成几何形状的内容。因此，技术特征U未被对比文件公开。 |
| **技术特征V：** 在所述闭合图形中不存在其他间隔物 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于特定闭合图形内部是否存在其他间隔物的限定。 | 作为技术特征U的进一步限定，在U未被公开的情形下，V必然也未被公开。因此，技术特征V未被对比文件公开。 |
| **技术特征W：** 所述间隔物设置成使得所述三角形、所述四边形或所述六边形中的边的长度中的至少一者不同 <br> **《未公开》** | 对比文件中未查询到关于几何图形边长不同的任何公开内容。 | 作为技术特征U和V的进一步限定，在U和V未被公开的情形下，W也必然未被公开。对比文件没有提供任何关于间隔物间距具有关联性的不规则性的教导。因此，技术特征W未被对比文件公开。 |
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