对比文件名称：JP2007240599A（Liquid crystal display and method of manufacturing the liquid crystal display）
目标专利名称：1585基板CN110770646B
本次调用的模型名称：DeepSeek
## 特征比对表格
| 技术特征 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| **A：包括：基础层** | 对比文件[2]段落记载：“絶縁性基板１”（绝缘性基板1）和“対向基板６”（对向基板6）。 | 对比文件直接公开绝缘性基板或对向基板作为基础层，本领域技术人员可毫无疑义地得出技术特征A。**《直接公开》** |
| **B：和设置在所述基础层上的复数个间隔物** | 对比文件[2]段落记载：“柱状スペーサ９”（柱状间隔物9），且结合附图1可见在基板上形成多个柱状间隔物。 | 对比文件明确公开在基础层上设置多个柱状间隔物，本领域技术人员可直接得出。**《直接公开》** |
| **C：其中每个间隔物为在顶部具有半球形部分的半球形间隔物** | 对比文件[2]段落记载：“柱状スペーサは頂部に角のないドーム形状である”（柱状间隔物在顶部具有无棱角的圆顶形状）。 | 对比文件公开间隔物顶部为圆顶（ドーム）形状，通常圆顶形状可视为半球形或近似半球形，且间隔物整体为柱状。虽未使用“半球形”一词，但本领域技术人员可合理推断该圆顶部分即为半球形部分，间隔物相当于具有半球形部分的半球形间隔物。**《隐含公开》** |
| **D：其中所述半球形部分为所述间隔物的包含弯曲形状的部分** | 对比文件[2]段落记载：“柱状スペーサの頂部を角がないドーム形状”（柱状间隔物顶部为无棱角的圆顶形状），圆顶形状必然是弯曲的。 | 对比文件直接公开间隔物顶部为弯曲的圆顶形状，即包含弯曲形状的部分。**《直接公开》** |
| **E：其中所述弯曲形状的截面具有最大曲率为150mm⁻¹或更小的轨迹** | 对比文件全文未提及任何曲率数值或限制。 | 对比文件未公开任何关于曲率的参数，本领域技术人员无法毫无疑义得出，也不存在合理推断的基础。**未公开** |
| **F：其中所述间隔物中的每个间隔物为包括所述半球形部分并且具有高于所述半球形部分的高度的柱状间隔物** | 对比文件[2]段落记载：“柱状スペーサ”（柱状间隔物），并结合顶部为ドーム形状的描述，表明间隔物包含柱状主体和顶部圆顶部分。 | 对比文件明确间隔物为柱状，并具有圆顶（半球形）部分。本领域技术人员可直接确定该柱状间隔物的总高度必然高于半球形部分的高度（因柱状部分高度大于零）。**《直接公开》** |
| **G：其中所述半球形部分的高度在5μm至20μm的范围内；并且相对于所述基础层的总面积，被所述间隔物占据的面积比率为20％或更小** | 对比文件未公开半球形部分的具体高度数值，也未公开间隔物占据的面积比率。 | 对比文件完全没有提及任何关于高度范围或面积比率的数值。本领域技术人员无法得出该特征。**未公开** |
| **H：其中，所述复数个间隔物的标准间距为P，当在所述基础层的表面上任选地选择具有10P作为一条边长度的两个或更多个正方形区域时，存在于每个正方形区域中的间隔物的数量的标准偏差为2或更小** | 对比文件未公开关于标准间距、标准偏差或任何统计分布的内容。 | 对比文件未涉及该排列统计参数。**未公开** |
| **I：其中所述复数个间隔物布置为使得相邻间隔物之间的间距的分布由间隔正态分布图表示** | 对比文件未公开间隔物间距的分布图。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **J：其中，在所述间隔正态分布图中，相邻间隔物之间的间距表示在所述间隔正态分布图的X轴上并且具有给定间距的相邻间隔物的比率表示在所述间隔正态分布图的Y轴上** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **K：其中具有给定间距的相邻间隔物的比率的总和为1；并且所述复数个间隔物设置成使得所述间隔正态分布图的半高宽为0.5μm至1,000μm以及所述间隔正态分布图的最大高度小于1** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **L：其中所述轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹** | 对比文件[2]段落强调“頂部に角のないドーム形状”（无棱角的圆顶形状），暗示顶部为连续弯曲，未描述平坦部分。 | 对比文件未公开任何曲率为0的轨迹，且其圆顶形状通常不包括平坦顶部。**未公开** |
| **M：其中所述半球形部分的宽度在2μm至40μm的范围内** | 对比文件未公开宽度数值。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **N：其中在所述间隔物的底部形成其中截面轨迹为曲率中心形成在截面外部的弯曲形状的渐缩部分** | 对比文件[2]段落记载：“柱状スペーサと対向基板との接続部分においても角がない滑らかな形状”（柱状间隔物与对向基板的连接部分也是无棱角的平滑形状）。 | 对比文件公开了间隔物底部与基板的连接部分具有平滑的弯曲形状，本领域技术人员可合理推断该平滑形状是通过渐缩实现的，且通常曲率中心在截面外部。**《隐含公开》** |
| **O：其中配向膜形成在所述基础层和所述间隔物上；并且形成在所述间隔物上的所述配向膜的顶部具有半球形** | 对比文件[2]段落记载：“配向膜５，１０”（配向膜5、10），“対向基板６に形成された柱状スペーサ９が、…対向基板側にも、液晶を配向すべく配向膜１０が積層されている”（在形成有柱状间隔物的对向基板上层叠配向膜10）。 | 对比文件明确公开配向膜形成在基础层和间隔物上。由于间隔物顶部为圆顶（半球形）形状，配向膜保形涂覆后其覆盖间隔物的部分必然形成相似的半球形顶部，本领域技术人员可合理推断。**《隐含公开》** |
| **P：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的截面轨迹的最大曲率为2,000mm⁻¹或更小** | 对比文件未公开配向膜顶部的曲率数值。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **Q：其中所述配向膜的顶部的所述半球形的所述截面轨迹包括曲率为0mm⁻¹的轨迹** | 对比文件未公开配向膜顶部是否包含平坦部分。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **R：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的高度在1μm至50μm的范围内** | 对比文件未公开配向膜高度数值。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **S：其中形成在所述间隔物上的所述配向膜的宽度在1μm至80μm的范围内** | 对比文件未公开配向膜宽度数值。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **T：当任选地选择所述复数个间隔物中的三个、四个或六个间隔物时** | 对比文件未涉及间隔物选择形成闭合图形的概念。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **U：条件是当选择选定的间隔物以形成作为闭合图形的三角形、四边形或六边形时** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **V：在所述闭合图形中不存在其他间隔物** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开。**未公开** |
| **W：所述间隔物设置成使得所述三角形、所述四边形或所述六边形中的边的长度中的至少一者不同** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开。**未公开** |
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