对比文件名称：2006-12-28_US2006290220A_发明申请_US20060290220A1 BRUSHLESS PERMANENT MAGNET MACHINE WITH AXIAL MODULES OF ROTOR MAGNETIZATION SKEW AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
目标专利名称：1587电机CN113994567B
本次调用的模型名称：GPT-4
以下为特征比对表格：
| 第一栏 | 第二栏 | 第三栏 |
| 技术特征A：包括（直接公开） | [0024]：“图1是电机10的局部剖视图，电机10具有转子15和定子20。转子15联接到轴17。”从全文看，电机还包括定子芯、绕组、壳体等。 | 对比文件公开了一种电机，包含轴、转子、定子等基本部件，因此特征“包括”被直接公开。 |
| 技术特征B：轴（直接公开） | [0024]：“转子15联接到轴17。” | 对比文件明确公开了轴17，特征B直接公开。 |
| 技术特征C：转子（直接公开） | [0024]：“电机10具有转子15。” | 对比文件明确公开了转子15，特征C直接公开。 |
| 技术特征D：所述转子被联接到所述轴（直接公开） | [0024]：“转子15联接到轴17。” | 对比文件直接公开转子联接至轴，特征D直接公开。 |
| 技术特征E：定子（直接公开） | [0024]：“电机10具有定子20。” | 对比文件明确公开了定子20，特征E直接公开。 |
| 技术特征F：所述定子被布置为与所述转子相对应（直接公开） | [0026]：“转子15位于定子20内侧并被径向气隙隔开。” | 对比文件直接公开定子与转子相对布置（转子在内、定子在外），特征F直接公开。 |
| 技术特征G：所述定子包括轭（直接公开） | [0045]：“定子芯105包括背铁部分115。” | 对比文件直接公开定子芯的背铁（轭），特征G直接公开。 |
| 技术特征H：和从所述轭突出的齿（直接公开） | [0043]：“定子芯105包括多个定子齿110。”结合图6，齿从背铁径向向内突出。 | 对比文件直接公开从轭突出的齿，特征H直接公开。 |
| 技术特征I：其中所述齿包括与所述转子相对置的第一表面（直接公开） | [0058]：“在定子齿110中设置‘伪’槽130。”结合图8，齿具有面向转子的平台表面（如中间平台）。 | 对比文件齿的平台表面（未开槽部分）与转子相对置，该表面相当于第一表面，直接公开。 |
| 技术特征J：多个第二表面（直接公开） | [0066]：“图8显示了定子齿110包括两个伪槽130。”每个伪槽的底部形成面向转子的凹陷表面。 | 对比文件每个伪槽底部是凹陷表面且与转子相对置，多个伪槽对应多个第二表面，直接公开。 |
| 技术特征K：和多个第三表面（未公开） | 对比文件图8中齿两端有平台表面，但该平台与中间平台处于同一圆柱面（齿内径），径向距离与第一表面相同。 | 目标专利的第三表面定义在第三圆周上，半径介于第一和第二之间（R1<R3<R2）。对比文件两端平台与第一表面径向相等，不具有中间半径的表面，也未公开任何其他符合条件的表面，因此特征K未公开。 |
| 技术特征L：所述第二表面被布置在所述第一表面和所述第三表面之间（未公开） | [0066]：“伪槽的中心线将齿距分成三个近似相等区间。”即伪槽（第二表面）位于中间平台和两端平台之间。 | 特征K未公开，第三表面不存在；即使将两端平台视为第三表面，其径向位置也不符合目标专利定义。故特征L未公开。 |
| 技术特征M：以在从所述轴开始的径向方向上在所述第一表面所述第二表面和所述第三表面之间具有预定间距（未公开） | [0065]公开了伪槽深度（平台与槽底之间的径向间距），但未涉及第一表面与第三表面之间的径向间距（第一与第三表面在对比文件中处于同一圆周，间距为零）。 | 目标专利要求三个表面之间在径向均有间距。对比文件仅有第一与第二之间的间距，第一与第三之间无间距，因此特征M未公开。 |
| 技术特征N：从所述轴到所述第一表面的最短距离小于从所述轴到所述第三表面的最短距离（未公开） | 对比文件图8中第一表面（中间平台）和第三表面（两端平台）到轴的距离相等。 | 无小于关系，特征N未公开。 |
| 技术特征O：其中从所述轴的中心到所述第三表面的最短距离小于到所述第二表面的最短距离（未公开） | 对比文件[0065]中，两端平台（若视为第三表面）到轴距离小于槽底（第二表面）到轴距离，但两端平台不符合目标专利第三表面定义。 | 特征K未公开，第三表面不存在，故无法成立。即使勉强对应，其径向位置与第三表面定义矛盾，特征O未公开。 |
| 技术特征P：其中所述第一表面未被布置在布置有所述第二表面和所述第三表面的圆周上（未公开） | 对比文件中第一表面（中间平台）与第三表面（两端平台）处于同一圆周（齿内径），第二表面在另一圆周。 | 第一表面与第三表面同圆周，第一表面被布置在第三表面所在的圆周上，违反“未被布置”的要求，特征P未公开。 |
| 技术特征Q：其中所述多个第二表面在圆周方向上的长度相同（隐含公开） | [0066]：“伪槽的中心线将齿距分成三个近似相等区间。”未明确伪槽宽度（第二表面长度）相同。 | 本领域技术人员为对称性及减振降噪，通常会设计同一齿上多个伪槽宽度相同，对比文件隐含给出了该特征的可能性，特征Q隐含公开。 |
| 技术特征R：其中所述第一表面在所述圆周方向上的长度小于所述第二表面在所述圆周方向上的长度（未公开） | 对比文件未涉及第一表面长度与第二表面长度的任何比较。 | 无任何直接或隐含教导，特征R未公开。 |
| 技术特征S：其中所述第一表面在所述圆周方向上的长度与所述第三表面在所述圆周方向上的长度相同（未公开） | 对比文件未公开第三表面，也未公开长度关系。 | 特征S依赖于第三表面，未公开。 |
| 技术特征T：其中所述多个第三表面被布置在所述齿的两端（未公开） | 对比文件图8齿两端有平台，但该平台不符合目标专利第三表面的径向位置要求。 | 由于第三表面未公开，特征T未公开。 |
| 技术特征U：其中所述第一表面被布置在第一圆周上（直接公开） | 对比文件图8中第一表面（中间平台）位于齿内径的圆柱面上，该圆柱面即为第一圆周。 | 对比文件直接公开了第一表面所在的第一圆周，特征U直接公开。 |
| 技术特征V：所述多个第二表面被布置在第二圆周上（直接公开） | 对比文件图8中第二表面（伪槽底部）位于另一半径较大的圆柱面上，该圆柱面即为第二圆周。 | 对比文件直接公开了第二表面所在的第二圆周，特征V直接公开。 |
| 技术特征W：所述多个第三表面被布置在第三圆周上（未公开） | 对比文件中第三表面未公开，无第三圆周。 | 特征W未公开。 |
| 技术特征X：所述第一圆周的半径（直接公开） | 对比文件公开了第一圆周的存在，其半径是几何固有参数。 | 特征X直接公开。 |
| 技术特征Y：所述第二圆周的半径（直接公开） | 对比文件公开了第二圆周的存在，其半径是几何固有参数。 | 特征Y直接公开。 |
| 技术特征Z：和所述第三圆周的半径彼此不同（未公开） | 对比文件中第三圆周不存在，且第一圆周半径与第三圆周半径相同（若将两端平台所在圆周视为第三圆周）。 | 未公开三个半径彼此不同，特征Z未公开。 |
<<<A>>> <<<B>>> <<<C>>> <<<D>>> <<<E>>> <<<F>>> <<<G>>> <<<H>>> <<<I>>> <<<J>>> <<<U>>> <<<V>>> <<<X>>> <<<Y>>> <<<q>>>