对比文件的名称：2017-03-30_JP2017062361A_发明专利_JP2017062361A 調光フィルム及び調光フィルムの製造方法
目标专利的名称：1599光学装置CN112204462B
本次调用的模型名称：GPT-4
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译，含段落标号） | 公开性论述 |
| **技术特征A：** 包括第一外基板和第二外基板。 **未公开** | 对比文件未记载第一外基板和第二外基板。 | 目标专利中的外基板为独立的保护基板（如玻璃或塑料），对比文件所述的调光膜为自支撑膜层结构，仅包含基材、电极、配向层等，未提及任何形成外部保护的外基板，本领域技术人员无法从对比文件直接或隐含得出该特征。 |
| **技术特征B：** 液晶元件。 **直接公开** | [0033] "調光フィルム1は、直線偏光板2、3により調光フィルム用の液晶セル4を挟持して構成される。" （调光膜1由线性偏振片2、3夹持调光膜用液晶单元4构成。）<br>[0035] "液晶セル4は、フィルム形状による第1及び第2の積層体である上側積層体8及び下側積層体9により液晶層10を挟持して構成される。" （液晶单元4由膜状的第一及第二层叠体即上侧层叠体8和下侧层叠体9夹持液晶层10构成。） | 对比文件明确公开了“液晶セル4”，其结构与目标专利的液晶元件相当，均为利用电场调控液晶取向以实现光透过率变化的装置，技术特征B被直接公开。 |
| **技术特征C：** 所述液晶元件定位在所述第一外基板与所述第二外基板之间并且具有其中第一基础层、液晶层和第二基础层顺序层合的结构。 **未公开** | [0035] "下側積層体9は、基材6、保持層12、透明電極13、スペーサ14、配向層15を積層して形成される。上側積層体8は、基材5、保持層17、透明電極18、配向層19を積層して形成される。" （下侧层叠体9由基材6、保持层12、透明电极13、间隔物14、取向层15层叠形成。上侧层叠体8由基材5、保持层17、透明电极18、取向层19层叠形成。）<br>虽然对比文件公开了基材5、6夹持液晶层10的结构，但并未设置外基板。 | 目标专利要求液晶元件位于第一外基板与第二外基板之间，而对比文件的液晶单元仅包含内部基材（基材5、6）作为基础层，没有外基板作为外部保护层。因此，整体技术特征C未被公开。 |
| **技术特征D：** 粘合膜。 **直接公开** | [0033] "粘着剤層や紫外線硬化性樹脂等による接着剤層2A、3Aにより液晶セル4に配置される。" （通过粘合剂层或紫外线固化树脂等形成的粘合层2A、3A配置于液晶单元4。）<br>[0035] "基材5、6は、粘着剤層や紫外線硬化性樹脂等による接着剤層12A、17Aにより保持層12、17と積層されて配置される。" （基材5、6通过粘合剂层或紫外线固化树脂等形成的粘合层12A、17A与保持层12、17层叠配置。） | 对比文件多处使用“接着剤層”（粘合层）作为层间粘结材料，虽未明确称为“膜”，但粘合层实质上为薄层粘合材料，与目标专利中的“粘合膜”功能及形态相同，技术特征D被直接公开。 |
| **技术特征E：** 所述粘合膜定位在所述第一外基板与所述液晶元件之间以及所述第二外基板与所述液晶元件之间。 **未公开** | 对比文件未记载第一外基板和第二外基板，故不存在该定位关系。其粘合层位于基材与保持层之间、偏振片与液晶单元之间等位置。 | 由于对比文件缺少外基板，粘合膜不可能位于外基板与液晶元件之间，技术特征E未公开。 |
| **技术特征F：** 其中所述第一基础层和所述第二基础层中的一者或更多者的如由以下方程式1表示的抗弯刚度D为2.2*10⁻⁴ N·m或更大。 **未公开** | 对比文件未涉及抗弯刚度及相关参数。 | 对比文件仅提及基材5、6的材料种类（如PC、COP、TAC），未披露其厚度、杨氏模量、泊松比或抗弯刚度数值，本领域技术人员无法直接或推导得出该具体抗弯刚度范围，特征F未公开。 |
| **技术特征G：** [方程式1]在以上方程式1中。 **未公开** | 对比文件无相关方程式描述。 | 目标专利的方程式1为抗弯刚度计算公式，对比文件未公开任何类似公式或力学参数定义，特征G未公开。 |
| **技术特征H：** D为所述基础层的抗弯刚度，E为所述基础层的杨氏模量，he为所述基础层的厚度，以及υ为所述基础层的泊松比。 **未公开** | 对比文件无上述参数定义。 | 同上，对比文件未公开抗弯刚度计算所需的任何参数（杨氏模量、厚度、泊松比），特征H未公开。 |
| **技术特征I：** 其中所述第一基础层和所述第二基础层各自具有2.2*10⁻⁴ N·m或更大的如由方程式1表示的抗弯刚度D。 **未公开** | 对比文件未公开任何抗弯刚度数值。 | 特征I进一步限定两个基础层均满足该抗弯刚度条件，对比文件无此披露，未公开。 |
| **技术特征J：** 其中所述第一基础层和所述第二基础层各自具有1*10⁹ N/m²至1*10¹⁰ N/m²的杨氏模量。 **未公开** | 对比文件未公开基材的杨氏模量。 | 对比文件未提及任何基材的杨氏模量数据，未公开。 |
| **技术特征K：** 其中所述第一基础层和所述第二基础层各自具有10μm至1,000μm的厚度he。 **未公开** | 对比文件[0020]提及保持层厚度为20μm以下，但未提及基材（基础层）厚度。 | 对比文件未公开基材的厚度范围，保持层的厚度范围与基础层无关，特征K未公开。 |
| **技术特征L：** 其中所述第一基础层和所述第二基础层各自独立地为聚萘二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亚胺膜、环烯烃聚合物膜、三乙酰纤维素膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或聚碳酸酯膜。 **直接公开** | [0035] "基材5、6は、この種のフィルム材に適用可能な種々の透明フィルム材を適用することができ、例えばポリカーボネートフィルム、COP(シクロオレフィンポリマー)フィルム、TACフィルム等、光学異方性の小さなフィルム材を適用することができる。" （基材5、6可使用适用于该类膜材的各种透明膜材，例如聚碳酸酯膜、COP（环烯烃聚合物）膜、TAC膜等具有小光学各向异性的膜材。） | 对比文件明确公开了基材可以使用聚碳酸酯膜（PC）、环烯烃聚合物膜（COP）、三乙酰纤维素膜（TAC），这些均属于目标专利技术特征L所列举的材料，因此技术特征L被直接公开（部分列举但已覆盖可选材料）。 |
| **技术特征M：** 其中所述液晶层包含二色性染料客体。 **直接公开** | [0014] "前記液晶層が、ゲストホスト液晶による液晶層である調光フィルム。" （所述液晶层为宾主液晶的调光膜。）<br>[0063] "ゲストホスト型液晶による液晶層60" （由宾主型液晶构成的液晶层60） | 宾主（GH）液晶层明确包含二色性染料客体，这是本领域公知常识，对比文件直接公开了该液晶层类型，因此技术特征M被直接公开。 |
| **技术特征N：** 其中所述液晶元件包括形成在所述第一基础层和所述第二基础层中的每一者上的导电层。 **直接公开** | [0035] "下側積層体9は、基材6、保持層12、透明電極13、スペーサ14、配向層15を積層して形成される。上側積層体8は、基材5、保持層17、透明電極18、配向層19を積層して形成される。" （下侧层叠体9由基材6、保持层12、透明电极13、间隔物14、取向层15层叠形成。上侧层叠体8由基材5、保持层17、透明电极18、取向层19层叠形成。） | 透明电极13形成于基材6侧的保持层12上，透明电极18形成于基材5侧的保持层17上，这些导电层均配置在对应基础层（基材）的同一侧面上，相当于形成在基础层上，技术特征N被直接公开。 |
| **技术特征O：** 其中所述液晶元件包括形成在所述导电层上的配向膜。 **直接公开** | [0035] 同上，配向层15、19分别形成于透明电极13、18之上（配向層15在透明電極13及スペーサ14上，配向層19在透明電極18上）。 | 对比文件明确配向层直接制作在透明电极上，技术特征O被直接公开。 |
| **技术特征P：** 其中所述液晶元件能够切换第一取向状态和第二取向状态。 **直接公开** | [0002] "液晶に印加する電界の可変により液晶の配向を可変して外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を可変したりする" （通过施加于液晶的电场的可变性来改变液晶的取向，以遮挡或透射外部光，并且还可改变透射光量。）<br>[0032] "印加電圧の可変により透過光の光量を制御する" （通过可变施加电压来控制透射光量。） | 通过电场的改变使液晶取向发生变化，从而实现光透过率的调节，本质上是第一取向状态（遮光）与第二取向状态（透光）之间的切换，技术特征P被直接公开。 |
| **技术特征Q：** 还包括定位在所述第一外基板与所述第二外基板之间的偏振器。 **未公开** | 对比文件[0033]公开了直線偏光板2、3，但这些偏振片直接固定于液晶单元两侧，未置于外基板之间。 | 由于对比文件不存在外基板，无法满足偏振器位于外基板之间的限定，特征Q未公开。 |
| **技术特征R：** 其中所述粘合膜定位在所述第一外基板与所述液晶元件之间、所述液晶元件与所述偏振器之间、以及所述第二外基板与所述偏振器之间。 **未公开** | 对比文件存在粘合层位于偏振片与液晶单元之间（2A、3A），但无外基板，故不涉及外基板与液晶元件或偏振器之间的粘合。 | 对比文件中粘合层的位置与目标专利要求的位置（涉及外基板）完全不同，特征R未公开。 |
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