对比文件的名称：2013-06-12_CN103153617A_发明公开_CN103153617A 积层体及其制造方法
目标专利的名称：1641抗反射膜CN108473791B
本次调用的模型名称：当前大语言模型
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层（《直接公开》） | 【0068】“为了根据需要而调整折射率，使包含钛、锆、锌、锑、铟、锡、铈、钽、钇、铪、铝、镁等金属的氧化物或复合氧化物等公知的无机微粒子分散于所述紫外线硬化性树脂中”。【0010】“折射层11…于层内形成低折射率与高折射率的倾斜构造层”。 | 对比文件明确教导可在折射层（该层具有低折射率功能）的硬化性树脂（即粘合剂树脂）中分散无机微粒子，从而形成包含粘合剂树脂和无机细颗粒的层。该层与目标专利中低折射率层的构成和作用实质相同，因此技术特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物（未公开） | 【0010】“折射层11至少包含选自由氟倍半硅氧烷及氟倍半硅氧烷聚合物所组成的组群中的一种以上的氟化合物(ss)、及具有比氟化合物(ss)更高的折射率的树脂(p1)”。 | 对比文件公开的是可光聚合树脂（p1）与氟倍半硅氧烷（同时作为含氟化合物和聚倍半硅氧烷）的二元交联体系，并未额外公开一种独立的含有光反应性官能团的基于氟的化合物，即未公开可光聚合化合物、含氟化合物、聚倍半硅氧烷三者同时存在的交联聚合物。因此技术特征B未被公开。 |
| 技术特征C：和硬涂层（《直接公开》） | 【0020】“于所述基材与折射层的间具备硬涂层”。【0082】“积层膜2于基材10与折射层11之间具备硬涂层12”。 | 对比文件明确记载了在基材与折射层之间设置硬涂层的技术方案，与目标专利的“硬涂层”结构完全相同，因此直接公开。 |
| 技术特征D：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小（未公开） | 对比文件全文未涉及内部雾度与总雾度的比率。 | 对比文件仅测量了浊度（总雾度），没有关于内部雾度的测量或比值限定，本领域技术人员无法直接或间接得出该特征。 |
| 技术特征E：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小（未公开） | 对比文件全文未涉及碱处理或色坐标b*的测量。 | 对比文件中没有进行任何碱处理步骤或色坐标变化的评估，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征F：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％（未公开） | 【0046】“可相对于硬化性树脂(pl)，含有氟(F)0.001wt％～4wt％”。但该处指整体氟元素含量，并非含氟化合物本身的氟含量范围。 | 对比文件未定义独立的含氟化合物，也未给出此类化合物中氟元素的百分含量范围。特征F未被公开。 |
| 技术特征G：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒（未公开） | 对比文件未提及含氟化合物的分子量范围及特定的碱处理条件。 | 对比文件既未给出含氟化合物的分子量，也未公开所述碱处理工艺及色坐标测量方法，因此特征G未被公开。 |
| 技术特征H：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65（未公开） | 对比文件在【0264】使用分光椭圆仪对涂布膜进行了折射率分布分析，但未涉及柯西模型或参数A、B、C。 | 对比文件虽然使用了椭圆偏光法测量折射率，但没有将数据拟合至柯西模型并给出A的范围，因此技术特征H未被公开。 |
| 技术特征I：B为0至0.05（未公开） | 同上 | 未公开。 |
| 技术特征J：C为0至0.05（未公开） | 同上 | 未公开。 |
| 技术特征K：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内（未公开） | 对比文件未公开所述柯西公式。 | 对比文件未提及该公式表达，因此未公开。 |
| 技术特征L：A、B和C为柯西参数（未公开） | 同上 | 未公开。 |
| 技术特征M：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75（未公开） | 对比文件未单独对硬涂层进行椭圆偏光法测量及柯西拟合。 | 对比文件没有关于硬涂层柯西参数的教导或建议，因此未公开。 |
| 技术特征N：B为0至0.05（未公开） | 同上 | 未公开。 |
| 技术特征O：C为0至0.005（未公开） | 同上 | 未公开。 |
| 技术特征P：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内（未公开） | 同上 | 未公开。 |
| 技术特征Q：A、B和C为柯西参数（未公开） | 同上 | 未公开。 |
| 技术特征R：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm（《隐含公开》） | 【0264】“自涂布膜(G)的最表面至20nm的区域中存在具有折射率为1.539～1.546的折射率梯度的层”。 | 对比文件实例表明，在折射层表面存在约20nm厚的低折射率区域，该厚度落入1~200nm范围内。虽然未明确该区域为独立的“低折射率层”，但其功能与目标专利的低折射率层相同，本领域技术人员可合理推断出低折射率区域的厚度可控制在1~200nm，因此技术特征R被隐含公开。 |
| 技术特征S：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm（《直接公开》） | 【0085】“硬涂层12的膜厚较佳为0.1μm～20μm”。 | 对比文件明确公开了硬涂层的厚度范围0.1~20μm，该范围完全落入目标专利的0.1~100μm内，因此直接公开。 |
| 技术特征T：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50（未公开） | 【0046】“折射层11可相对于硬化性树脂(p1)，含有氟化合物(ss)0.01wt%～20wt%”，即重量比为0.0001~0.2。 | 对比文件公开的聚倍半硅氧烷（氟倍半硅氧烷）与可光聚合化合物的比例上限为0.2，低于目标要求的0.50，且未教导超出该范围的可能性，因此特征T未被公开。 |
| 技术特征U：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇（《直接公开》） | 【0112】“作为Z，可设为氢、羟基、烯基、或卤素…-COOH、-NH2、-CN…环氧乙烷基、3,4-环氧环己基…丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基…-SH…聚亚烷基氧基等”。 | 对比文件详细列举了可取代在氟倍半硅氧烷（聚倍半硅氧烷）上的多种官能团，其中包含醇（羟基）、胺（-NH2）、羧酸（-COOH）、环氧化物（环氧乙烷基）、(甲基)丙烯酸酯、腈（-CN）、烯基、聚亚烷基氧基（相当于聚乙二醇）、硫醇（-SH），因此直接公开了技术特征U。 |
| 技术特征V：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基（《直接公开》） | 同上，并【0112】还包含“烯基、环烯基…乙烯基”等。 | 对比文件列举的官能团包括烯基（含乙烯基）、环烯基等，降冰片烯属于环烯烃类，虽未直接提及但可由环烯基涵盖；且至少公开了乙烯基。因此技术特征V被直接公开。 |
| 技术特征W：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷（《直接公开》） | 【0106】“作为一例，特佳为具有由下述式(II)所示的分子结构的氟倍半硅氧烷。” 式(II)为笼型结构。【0110】“笼型结构…特佳为笼型结构。进而，若考虑获得的容易性，则较佳为T8型、T10型、T12型中的任一型”。 | 对比文件明确推荐并使用笼型结构的多面体低聚倍半硅氧烷，因此直接公开。 |
| 技术特征X：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团（《直接公开》） | 【0112】“于所述式(II)中，例示了1个Si上具有‘3-(甲基丙烯酰氧基)丙基’的氟倍半硅氧烷…作为Z，可设为…丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基…（反应性官能团）”，而该式中的R为氟烷基（非反应性）。 | 对比文件明确示出一个硅原子上带有反应性官能团（如甲基丙烯酰氧基丙基），其余硅原子上带有非反应性氟烷基，因此直接公开。 |
| 技术特征Y：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物（《直接公开》） | 【0053】“作为所述(甲基)丙烯酸酯单体，可列举…季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等”。【0054】“作为所述乙烯基化合物…二乙烯基苯、苯乙烯等”。 | 对比文件明确给出了(甲基)丙烯酸酯和乙烯基的单体/低聚物作为可光聚合化合物，因此直接公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基（《直接公开》） | 【0112】“作为Z，可设为…丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基（属于(甲基)丙烯酸酯基）…环氧乙烷基、3,4-环氧环己基（属于环氧基）…烯基（包括乙烯基）…-SH（硫醇基）”。 | 对比文件明确列举了这些光反应性官能团作为氟倍半硅氧烷上的取代基，而氟倍半硅氧烷即为对比文件中的含氟化合物，因此直接公开。 |
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