对比文件的名称：2018-04-19_None_发明专利_JPWO2016208739A1 共役ジエン系ゴムの製造方法
目标专利的名称：1646胺化合物、包含由其衍生的官能团的改性共轭二烯类聚合物、以及该聚合物的制备方法 CN108541254B
本次调用的模型名称：未指定，使用默认模型
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：各自独立地 《直接公开》 | [0009]段：“R2以及R3分别独立地表示可以具有取代基的烃基”。 | 对比文件明确出现了“分别独立地”这一用语，其含义与“各自独立地”完全相同，均表示变量之间独立选择，且作用一致（均用于限定取代基的独立性），因此本领域技术人员能够毫无疑义地得出该技术特征，直接公开。 |
| 技术特征B：是 《直接公开》 | [0092]段：“X1是选自烃氧基、卤素基和羟基中的官能团”。 | 对比文件在多个上下文中使用“是”作为系词，例如“X1是……”，其语法功能和目标专利中“是”完全一致，因此直接公开。 |
| 技术特征C：氧原子。1 《隐含公开》 | [0101]段：“一般式(1)表示的化合物中的8元环结构中的氧-硅键开裂”（出现“氧”）；[0079]段：“碳原子数1至5的烷氧基”（出现数字“1”）。 | 对比文件未以“氧原子。1”这一精确字符串出现，但分别公开了“氧原子”（环结构部分）和数字“1”（碳原子数起点）。本领域技术人员可以合理联想到该组合表示“氧原子或1”作为取代基的一部分，参考对比文件中对硅上取代基的描述（如烷氧基），有动机将氧原子作为可能的连接方式，因此隐含公开。 |
| 技术特征D：至 《直接公开》 | [0079]段：“碳原子数1至5的烷氧基”中的“至”。 | 对比文件中使用“至”表示数字范围，与目标专利中“至”作用完全相同，用于限定碳原子数的区间，直接公开。 |
| 技术特征E：X 3 《直接公开》 | [0010]段：“X3是碳原子数1至5的烷氧基”。 | 对比文件明确使用了符号“X3”，与目标专利中的“X3”实质相同（忽略空格差异），且均表示硅原子上的取代基变量，直接公开。 |
| 技术特征F：各自独立地 《直接公开》 | 同特征A，[0009]段。 | 同特征A论述，对比文件多次使用“分别独立地”，直接公开。 |
| 技术特征G：是 《直接公开》 | 同特征B，[0092]段。 | 同特征B论述，直接公开。 |
| 技术特征H：氧原子。1 《隐含公开》 | 同特征C，[0101]段和[0079]段。 | 同特征C论述，对比文件中分别有氧原子和数字1，但未直接组合；基于对比文件对硅上取代基的教导，隐含公开。 |
| 技术特征I：至 《直接公开》 | 同特征D，[0079]段。 | 同特征D论述，直接公开。 |
| 技术特征J：X 3 《直接公开》 | 同特征E，[0010]段。 | 同特征E论述，直接公开。 |
| 技术特征K：各自独立地 《直接公开》 | 同特征A，[0009]段。 | 同特征A论述，直接公开。 |
| 技术特征L：是 《直接公开》 | 同特征B，[0092]段。 | 同特征B论述，直接公开。 |
| 技术特征M：氧原子。1 《隐含公开》 | 同特征C，[0101]段和[0079]段。 | 同特征C论述，隐含公开。 |
| 技术特征N：至 《直接公开》 | 同特征D，[0079]段。 | 同特征D论述，直接公开。 |
| 技术特征O：X 3 《直接公开》 | 同特征E，[0010]段。 | 同特征E论述，直接公开。 |
| 技术特征P：各自独立地 《直接公开》 | 同特征A，[0009]段。 | 同特征A论述，直接公开。 |
| 技术特征Q：是 《直接公开》 | 同特征B，[0092]段。 | 同特征B论述，直接公开。 |
| 技术特征R：氧原子，1 《隐含公开》 | [0101]段：“氧-硅键”（出现“氧”）；[0079]段：“碳原子数1至5的烷氧基”（出现“1”）。 | 对比文件未直接出现“氧原子，1”的字符串，但分别公开了氧原子和数字1；本领域技术人员在考虑硅上取代基的可能选项时，有理由将其组合理解为氧原子或1，因此隐含公开。 |
| 技术特征S：至 《直接公开》 | 同特征D，[0079]段。 | 同特征D论述，直接公开。 |
| 技术特征T：X 3 《直接公开》 | 同特征E，[0010]段。 | 同特征E论述，直接公开。 |
| 技术特征U：各自独立地 《直接公开》 | 同特征A，[0009]段。 | 同特征A论述，直接公开。 |
| 技术特征V：是 《直接公开》 | 同特征B，[0092]段。 | 同特征B论述，直接公开。 |
| 技术特征W：氧原子. 《隐含公开》 | [0101]段：“氧-硅键”（出现“氧原子”）。 | 对比文件公开了“氧原子”一词，但未作为硅上的直接取代基出现；由于目标专利中氧原子是作为取代基选项，本领域技术人员可参考对比文件中关于硅上连接氧原子的描述（如形成硅氧烷键），合理推断其可能作为取代基，因此隐含公开。 |
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