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对比文件列表
1997-05-27_US5632083A_发明授权_US5632083A Lead frame fabricating method and lead frame fabricating apparatus_+++A_B_D_L+++.docx
2026-07-03 01:17
2000-06-20_JP2000167681A_发明专利_JP2000167681A Laser cutting substrate, liquid crystal display panel and manufacture of the panel_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2000-07-05_KR1020000038519A_发明公开_KR1020000038519A 레이저 커팅 설비_+++I_K_l+++.docx
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2001-02-27_JP2001056455A_发明专利_JP2001056455A Liquid crystal display device panel_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2001-10-02_US6297869B_发明授权_US06297869B1 Substrate and a liquid crystal display panel capable of being cut by using a laser and a method for manufacturing the same_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2003-11-13_US2003209528A_发明申请_US20030209528A1 Laser cutting apparatus and method_+++A_B_D_I_K_l+++.docx
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2004-04-06_US6717101B_发明授权_US06717101B2 Method and apparatus for laser ablation of a target material_+++A_B_E_I_J_L+++.docx
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2004-11-23_US6822725B_发明授权_US06822725B2 Liquid crystal display substrates integrated by sealant formed inside cutting lines_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2005-07-14_JP2005189530A_发明专利_JP2005189530A Lamination type polarizing plate and its manufacturing method_+++D_F_G_I_L_M_N_k+++.docx
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2006-02-15_CN1733415A_发明公开_CN1733415A 激光加工方法_+++A_B_I_J_L_d+++.docx
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2006-02-16_US2006035411A_发明申请_US20060035411A1 Laser processing method_+++A_B_D_I_J_L+++.docx
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2006-02-23_JP2006051517A_发明专利_JP2006051517A Laser beam machining method_+++A_B_C_D_I_J_L+++.docx
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2006-05-11_US2006098155A_发明申请_US20060098155A1 Substrate and a liquid crystal display panel capable of being cut by using a laser and a method for manufacturing the same_+++A_B_I_K_l+++.docx
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2007-05-23_CN1966198A_发明公开_CN1966198A 激光加工装置_+++A_B_D_I_J_L+++.docx
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2008-03-01_TW200810868A_发明专利_TW200810868A 光學薄膜之切斷方法及光學薄膜_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
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2008-03-06_JP2008051964A_发明专利_JP2008051964A Method for cutting optical film, and the optical film_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
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2009-03-04_JP4233999B_发明专利_JP4233999B2 Stacked polarizing plate and a method for manufacturing_+++D_G_I_L_N_f+++.docx
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2009-08-12_CN101505909A_发明公开_CN101505909A 光学膜的切割方法及光学膜_+++D_F_I_K_L+++.docx
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2009-10-05_KR1020090103991A_发明公开_KR1020090103991A 광학 필름의 절단 방법 및 광학 필름_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
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2011-11-02_JP4808106B_发明专利_JP4808106B2 Cutting method of optical film_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
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2012-01-05_US2012000894A_发明申请_US20120000894A1 PRECISION LASER SCORING_+++A_B_D_I_K_L+++.docx
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2012-06-01_TW201221262A_发明专利_TW201221262A 雷射切割裝置及具備該雷射切割裝置之切條機 LASER CUTTER AND SLITTER PROVIDED WITH THE LASER CUTTER_+++F_I_K_M_l+++.docx
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2012-09-13_JP2012521339A_发明专利_JP2012521339A Precision laser scoring_+++A_B_D_I_K_L_f+++.docx
2026-07-03 01:17
2012-09-19_CN102686354A_发明公开_CN102686354A 精密激光刻痕_+++A_B_I_K_L+++.docx
2026-07-03 01:17
2013-09-11_CN101505909B_发明授权_CN101505909B 光学膜的切割方法_+++D_F_I_K_L_N+++.docx
2026-07-03 01:17
2014-07-02_CN103907051A_发明公开_CN103907051A 光学显示设备的生产系统以及生产方法_+++I_k_l+++.docx
2026-07-03 01:17
2014-08-01_TW201430408A_发明专利_TW201430408A 偏光板及圖像顯示裝置_+++F_L_m+++.docx
2026-07-03 01:17
2012-01-05_US2012000894A_发明申请_US20120000894A1 PRECISION LASER SCORING_+++A_B_D_I_K_L+++.docx

**对比文件名称**:2012-01-05_US2012000894A_发明申请_US20120000894A1 PRECISION LASER SCORING

**目标专利名称**:1663用于切割偏光板的方法以及使用该方法切割的偏光板CN106687249B

**调用的模型名称**:DeepSeek(本次调用)

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### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
**技术特征A**:激光束的形状为椭圆形状 《直接公开》**[0077]** “FIG. 2 schematically illustrates an elongated elliptical beam that can be used in certain embodiments of the present invention having a length L(LB) and a width W(LB).” <br> 中文翻译:图2示意性地示出了可在本发明的某些实施例中使用的细长椭圆光束,其具有长度L(LB)和宽度W(LB)。对比文件明确描述所用激光束形状为“细长椭圆光束”(elongated elliptical beam),即椭圆形状。该形状在对比文件中用于实现精密划线,与目标专利中椭圆形状激光束用于切割偏光板的作用本质相同(均通过特定形状光束控制热影响区)。因此本领域技术人员可毫无疑义地确定该技术特征已被直接公开。
**技术特征B**:所述椭圆形状的长轴与切割方向平行 《直接公开》**[0012]** “scoreline is within the exposed area and is essentially parallel to L(LB)” <br> **[0016]** “translating the laser beam in a direction essentially parallel to L(LB) along a scoreline” <br> 中文翻译:划痕线位于暴露区域内且基本上平行于L(LB);在基本上平行于L(LB)的方向上沿着划痕线平移激光束。对比文件中,光束长度方向L(LB)为长轴方向,划痕线(切割方向)平行于该长轴。光束平移方向也明确与长轴平行。目标专利要求长轴与切割方向平行,对比文件公开了这一几何关系,且该关系在对比文件中同样用于控制划线精度。因此直接公开。
**技术特征C**:所述椭圆形状具有1:0.6至1:0.4的长轴对短轴的比率 《未公开》**[0018]** “the laser beam provided has an aspect ratio of at least 30, in certain other embodiments at least 40, ... at most 400, at most 300.” <br> 中文翻译:所提供的激光束的纵横比至少为30,某些其他实施例中至少为40,……最多400,最多300。对比文件公开的纵横比(长轴/短轴)至少为30,远大于目标专利的1:0.6~1:0.4(即长轴/短轴约1.67~2.5)。两者数值范围完全不重叠,且对比文件未给出任何降低至该小比率的教导或暗示。目标专利的比率范围旨在防止热损伤,对比文件的高比率用于高速划线,功能不同。因此未直接或隐含公开。
**技术特征D**:所述激光束具有100毫米/秒至1,000毫米/秒的切割速度 《直接公开》**[0017]** “in step (II-1), the translation speed of the laser beam is at least 300 mm/s. In certain other embodiments, ... at least 750 mm/s.” <br> **[0082]** “scoring speed of at least 300 mm/second... at least 750 mm/second... scoring speed as high as 1000 mm/second” <br> 中文翻译:平移速度至少300 mm/s,某些实施例至少750 mm/s;划线速度至少300 mm/s,至少750 mm/s,高达1000 mm/s。对比文件明确公开了300 mm/s、750 mm/s和1000 mm/s的切割速度,这些数值均落入目标专利的100~1000 mm/s范围内。由于目标专利的速度范围是封闭区间,对比文件公开了其中的具体点,本领域技术人员可直接且毫无疑义地确认该速度范围已被公开。此外,对比文件的速度值在划线中起相同作用(提高效率、保证质量)。
**技术特征E**:所述激光束具有在5mJ至7mJ的范围内的脉冲能量 《未公开》对比文件全文未提及激光脉冲能量值,也未涉及脉冲能量范围。对比文件主要描述连续波CO₂激光划线,未给出任何关于脉冲能量(mJ级)的教导。目标专利的脉冲能量范围针对偏光板切割优化,对比文件无相关内容。因此未公开。
**技术特征F**:所述偏光板包括基于环烯烃的薄膜作为光学膜 《未公开》**[0068]** “the processes and apparatuses of the present invention can be adapted for precision cutting of other sheet materials, such as organic polymer sheets and films...” <br> 中文翻译:本发明的方法和装置可适用于其他片材的精密切割,例如有机聚合物片和薄膜。对比文件仅笼统提及可适用于有机聚合物片材和薄膜,但未具体指明环烯烃薄膜,更未涉及偏光板的光学膜类型。目标专利的环烯烃薄膜具有特定的吸收特性,对比文件无任何暗示。因此未公开。
**技术特征G**:所述切割方向是与偏光板的拉伸方向相同的方向或是与偏光板的拉伸方向垂直的方向 《未公开》对比文件全文未涉及偏光板的拉伸方向,也未提及切割方向与拉伸方向的关系。对比文件切割对象为无机玻璃片,不存在偏光板中的拉伸方向概念。该技术特征仅适用于偏光板切割,对比文件完全没有相关内容。因此未公开。
**技术特征H**:在所述偏光板的切割表面上形成的锥度具有80微米至120微米的尺寸 《未公开》**[0062]** “the desirable vent depth for successful scoring is in the range of 10-20% of the glass thickness, which corresponds to 70-140 μm for a substrate having a thickness of 0.7 millimeter.” <br> 中文翻译:成功划线所需的理想排气深度在玻璃厚度的10‑20%范围内,对于厚度为0.7毫米的基板,对应70‑140微米。对比文件公开的是玻璃划线中的排气深度(vent depth),而非偏光板切割表面上的锥度(taper)尺寸。两者物理含义不同,且目标专利的锥度测量方式与对比文件的排气深度不同。对比文件未公开锥度尺寸,也无法合理推导。因此未公开。
**技术特征I**:其中,所述激光为CO2激光或UV激光 《直接公开》**[0014]** “an IR laser beam such as a CO2 laser operating at about 10.6 μm wavelength.” <br> 中文翻译:红外激光束,例如在约10.6 μm波长下工作的CO₂激光。对比文件明确公开了CO₂激光作为划线激光源。目标专利特征I为“CO₂激光或UV激光”,属于选择方案。对比文件公开了其中的CO₂激光,因此本领域技术人员可直接确定该特征已被公开(对于“或”类型特征,公开任一选项即可视为公开该特征)。UV激光部分未公开,但不影响特征I的整体公开性。
**技术特征J**:其中,所述UV激光具有300纳米至400纳米的波长 《未公开》对比文件全文未涉及UV激光及其波长。对比文件仅涉及CO₂激光(10.6 μm)和红外激光,无任何UV激光的教导或暗示。目标专利的UV波长范围未被公开。
**技术特征K**:其中,所述CO2激光具有9.0微米至10.9微米的振荡波长 《直接公开》**[0014]** “a CO2 laser operating at about 10.6 μm wavelength.” <br> 中文翻译:在约10.6 μm波长下工作的CO₂激光。对比文件公开的CO₂激光波长10.6 μm完全落入目标专利的9.0~10.9 μm范围内。本领域技术人员可直接获知该波长范围已被覆盖。
**技术特征L**:其中,使用激光切割偏光板通过单一切割系统或多重切割系统执行 《直接公开》**[0098]** “While a single-pass laser exposure is sufficient for successful formation of a vent in many embodiments, it is desired in certain embodiments multiple passes of laser exposure be carried out along the same scoreline” <br> 中文翻译:虽然在许多实施例中单次激光曝光足以成功形成排气口,但在某些实施例中期望沿同一划痕线进行多次激光曝光。对比文件明确记载了单次(single-pass)和多次(multiple passes)激光曝光方式,对应目标专利的单一切割系统(一次切割)和多重切割系统(多次切割)。该特征在对比文件中用于控制划线深度,与目标专利中切割偏光板的作用类似。因此直接公开。
**技术特征M**:其中,所述基于环烯烃的薄膜具有10微米至80微米的厚度 《未公开》对比文件未涉及环烯烃薄膜,也未涉及10‑80 μm的薄膜厚度。对比文件未提及环烯烃薄膜,更未公开其厚度范围。目标专利的该厚度范围是针对偏光板中环烯烃光学膜的特定设计,对比文件无任何对应内容。因此未公开。
**技术特征N**:其中,所述偏光板具有50微米至250微米的厚度 《未公开》对比文件涉及玻璃基板厚度(如≤2mm),未涉及偏光板厚度。对比文件切割对象为无机玻璃,其厚度范围(通常0.5‑2 mm)与目标专利偏光板厚度(50‑250 μm)完全不同,且无任何暗示或关联。因此未公开。

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### 最终公开性代码

根据上述分析,对比文件直接公开的技术特征有:A、B、D、I、K、L。无隐含公开。因此代码为:

<<<A>>> <<<B>>> <<<D>>> <<<I>>> <<<K>>> <<<L>>>

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