对比文件名称：2009-07-15_KR1020090077767A_发明公开_KR1020090077767A 하드 코팅 필름, 그의 제조 방법 및 반사 방지 필름
目标专利名称：减反射膜和显示装置 CN108027456B
模型名称：DeepSeek（深度求索大模型）
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括硬涂层 《直接公开》 | [19]：“폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽 면에, 표면 및 폴리에스테르 필름과 하드 코팅층의 계면에 요철 구조를 갖는 하드 코팅층이 적층되고…”（翻译：在聚酯薄膜的至少一个面上，层叠有在表面及聚酯薄膜与硬涂层界面具有凹凸结构的硬涂层） | 对比文件明确记载在聚酯薄膜上形成硬涂层，即公开了减反射膜包含硬涂层，且该硬涂层具有特定的表面结构。本领域技术人员可直接毫无疑义地得出该技术特征。 |
| 技术特征B：在所述硬涂层上形成的低折射率层 《直接公开》 | [32]：“(1)에 기재된 하드 코팅층 상에 굴절률 1.45 이하의 저굴절률층, 또는 굴절률 1.55 이상의 고굴절률층을 개재하여 굴절률 1.45 이하의 저굴절률층이 형성되어 이루어지는 반사 방지 필름”（翻译：在(1)记载的硬涂层上形成折射率1.45以下的低折射率层，或隔着折射率1.55以上的高折射率层形成折射率1.45以下的低折射率层的防反射膜）；[128]进一步说明在硬涂层上设置低折射率层。 | 对比文件明确公开了在硬涂层上形成低折射率层以构成反射防止膜，该低折射率层即为减反射膜的一部分。技术特征B被直接公开。 |
| 技术特征C：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5 《未公开》 | 对比文件全文未出现“粗糙度偏度(Rsk)”这一参数，亦未公开Rsk的数值范围。其采用三维表面粗糙度参数中的算术平均粗糙度Sa和表面高度分布峭度Sku，而非Rsk。 | 目标专利通过Rsk>0.5且<5定义特定表面不对称性，而对比文件采用完全不同的参数集（Sa、Sku）。对比文件未给出任何关于Rsk的教导或暗示，本领域技术人员无法从对比文件直接或推理得出该参数范围。因此，技术特征C未被公开。 |
| 技术特征D：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度 《未公开》 | [28]：“하드 코팅층 표면의 직교하는 2 방향 각각의 산술평균경사각 Δa1, Δa2의 평균치 Δa=(Δa1+Δa2)/2가 0.2 내지 1.0 deg”（翻译：硬涂层表面正交两方向各自的算术平均倾斜角Δa1、Δa2的平均值Δa = (Δa1+Δa2)/2为0.2至1.0度）；[116]进一步说明Δa小于0.2 deg时不利。 | 对比文件限定的倾斜角为算术平均倾斜角Δa，范围为0.2-1.0度，与目标专利的“倾斜角”（定义为基于法线与切线的角度，数值0.01-0.2度）在定义和数值上均不同。对比文件未教导或暗示目标专利中远小于0.2度的范围，且强调Δa应不低于0.2度。因此，技术特征D未被公开。 |
| 技术特征E：其中，所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒 《直接公开》 | [79]-[80]公开硬涂层组合物包含多官能丙烯酸酯（可光聚合化合物）作为粘合剂树脂前体；[278]（比较例6、7）：“비교예 5에 있어서 하드 코팅 형성 도포제 중에 평균 입경 5 ㎛, 입자 굴절률 1.52의 스티렌-아크릴 가교 유기 입자를 용제를 제외한 하드 코팅층 형성 성분 100 중량부에 대하여 1 중량부(비교예 6), 5 중량부(비교예 7) 첨가”（翻译：在比较例5的硬涂层形成涂布液中，相对于除溶剂外的硬涂层形成成分100重量份，添加平均粒径5μm、折射率1.52的苯乙烯-丙烯酸交联有机粒子1重量份（比较例6）、5重量份（比较例7））。 | 对比文件明确记载了在硬涂层形成组合物中包含可光聚合的多官能丙烯酸酯以及有机微粒（比较例6、7），从而公开了“硬涂层包含含有可光聚合化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的有机或无机微粒”这一技术特征。本领域技术人员可直接从其公开内容得出该技术方案。 |
| 技术特征F：其中，所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm 《直接公开》 | [278]：“평균 입경 5 ㎛”（翻译：平均粒径5μm） | 对比文件明确记载使用的有机微粒平均粒径为5μm，该数值落入1-5μm的范围内。技术特征F被直接公开。 |
| 技术特征G：其中，所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm 《隐含公开》 | [77]：“하드 코팅층의 두께는 용도에 따라 결정하면 되는 데, 통상 0.5 ㎛ 내지 30 ㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 내지 15 ㎛이다”（翻译：硬涂层的厚度根据用途决定，通常优选0.5μm至30μm，更优选1μm至15μm）；[249]实施例1中厚度为5μm。 | 对比文件公开了硬涂层厚度通常在1-15μm范围内，并给出了5μm的具体实例。虽然5μm本身不满足“大于5μm且小于10μm”，但本领域技术人员根据该范围可以合理选择5-10μm的子区间（例如6-9μm），这是常规的厚度优化选择。因此，技术特征G被隐含公开。 |
| 技术特征H：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果 《隐含公开》 | [53]：“하드 코팅 표면의 3차원 표면조도는 표면형상 측정장치 SP-500 또는 SP-700…에 의해, 5배 대물 렌즈, 측정 모드 WSI로 측정”（翻译：硬涂层表面的三维表面粗糙度通过表面形状测量装置SP-500或SP-700…使用5倍物镜、测量模式WSI（白光扫描干涉）测量）；[135]-[137]进一步详述了使用非接触式光学轮廓仪测量表面形貌参数。 | 对比文件明确使用了非接触式三维光学轮廓仪（SP-500/700）测量表面形貌，虽然对比文件具体测量的是Sa和Sku，但本领域技术人员熟知该仪器亦可测量粗糙度偏度（Rsk）和倾斜角等参数。因此，本领域技术人员可以合理推断出目标专利中Rsk和倾斜角的测量方式与对比文件相同或等同。技术特征H被隐含公开。 |
| 技术特征I：其中，所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％ 《未公开》 | 对比文件提到反射率测量（[169]），但未给出具体的平均反射率数值；在[32]和[131]中仅规定了380nm处的透过率低于5%，而非整个可见光波段的平均反射率。 | 目标专利限定了特定波长范围的平均反射率小于4%，而对比文件没有公开该反射率范围，也未给出任何启示或教导使本领域技术人员能够直接得出该数值。因此，技术特征I未被公开。 |
| 技术特征J：其中，所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％ 《未公开》 | 对比文件仅定义了总雾度（[118]：“헤이즈값은 3％ 미만”）且是对于硬涂层膜的雾度，未涉及内部雾度的概念和测量。 | 目标专利将雾度区分为内部雾度和外部雾度，并规定内部雾度大于0且小于10%，对比文件完全没有提到内部雾度的定义、测量方法或数值范围。因此，技术特征J未被公开。 |
| 技术特征K：其中，所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％ 《未公开》 | 对比文件未提及“外部雾度”的概念。 | 同技术特征J，对比文件未公开任何与外部雾度相关的内容，本领域技术人员无法从中获得该技术特征。 |
| 技术特征L：其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒 《直接公开》 | [278]：“하드 코팅 형성 성분 100 중량부에 대하여 1 중량부(비교예 6), 5 중량부(비교예 7)”（翻译：相对于硬涂层形成成分100重量份，添加1重量份（比较例6）、5重量份（比较例7））。该硬涂层形成成分主要为可光聚合的化合物（多官能丙烯酸酯等）。 | 对比文件明确公开了在硬涂层形成成分（相当于100重量份的可光聚合化合物）中包含1重量份和5重量份的有机微粒，该数值范围完全落入1-20重量份内。因此技术特征L被直接公开。 |
| 技术特征M：其中，基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子 《未公开》 | 对比文件全文未提及在硬涂层中添加直径为1-50nm的无机纳米粒子，更未公开其含量比率。 | 目标专利限定了硬涂层中特定尺寸和含量的无机纳米粒子，对比文件没有给出任何关于该纳米粒子的教导或暗示。因此技术特征M未被公开。 |
| 技术特征N：其中，所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子 《未公开》 | 对比文件未记载该特征。 | 同技术特征M，对比文件未公开硬涂层中包含任何直径大于50nm且120nm以下的无机纳米粒子。 |
| 技术特征O：其中，所述低折射率层包含：粘合剂树脂 《直接公开》 | [163]：“불소 함유계 공중합체(플루오로올레핀/비닐에테르 공중합체)를 포함하는 도료(고형분 3％)(JSR(주) 제조, JN-7215) 40부”（翻译：含有氟系共聚物（氟代烯烃/乙烯基醚共聚物）的涂料（固体成分3%）40份）。该涂料形成低折射率层，其中的共聚物起粘合剂树脂作用。 | 对比文件明确记载低折射率层由含氟共聚物等构成，该共聚物作为粘合剂树脂形成连续相。因此技术特征O被直接公开。 |
| 技术特征P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物 《未公开》 | 对比文件低折射率层的粘合剂树脂为氟代烯烃/乙烯基醚共聚物（[163]），并添加了胶体二氧化硅，但未使用聚倍半硅氧烷，也未公开可光聚合化合物及光反应性官能团的具体组合。 | 目标专利限定了低折射率层粘合剂树脂由三种特定组分交联形成，其中聚倍半硅氧烷是关键组分，对比文件未提供聚倍半硅氧烷的任何信息，也未公开类似的交联聚合物结构。因此技术特征P未被公开。 |
| 技术特征Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒 《直接公开》 | [163]：“콜로이달 실리카 분산액(평균일차입경 13 ㎚, 고형분 30％, 메틸이소부틸케톤 분산액) 1부, 콜로이달 실리카 분산액(평균일차입경 100 ㎚, 고형분 30％, 메틸이소부틸케톤 분산액) 0.1부”（翻译：胶态二氧化硅分散液（平均一次粒径13nm，固体成分30%，甲基异丁基酮分散液）1份，胶态二氧化硅分散液（平均一次粒径100nm，固体成分30%，甲基异丁基酮分散液）0.1份）。 | 对比文件明确将无机微粒（二氧化硅纳米粒子）分散在低折射率层的粘合剂树脂中，从而公开了技术特征Q。 |
| 技术特征R：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团 《未公开》 | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷，更未对其上的反应性官能团进行定义。 | 由于对比文件完全不包含聚倍半硅氧烷，故该技术特征未被公开。 |
| 技术特征S：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 同特征R，对比文件未公开聚倍半硅氧烷及其非反应性官能团取代。 |
| 技术特征T：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 对比文件未提及任何形式的聚倍半硅氧烷，包括笼形多面体低聚倍半硅氧烷。 |
| 技术特征U：其中，所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 同特征T。 |
| 技术特征V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 同特征T。 |
| 技术特征W：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 同特征T。 |
| 技术特征X：其中，所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物 《直接公开》 | [79]-[80]：“다관능 아크릴레이트를 주성분으로 하는 화합물”（翻译：以多官能丙烯酸酯为主成分的化合物）；列举的具体化合物如“디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트”均含(甲基)丙烯酸酯基。 | 对比文件在硬涂层及低折射率层中广泛使用多官能(甲基)丙烯酸酯单体/低聚物作为可光聚合化合物，其明确公开了该技术特征。 |
| 技术特征Y：其中，所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种 《未公开》 | 对比文件[163]使用的氟系共聚物（氟代烯烃/乙烯基醚共聚物）中乙烯基醚可视为含乙烯基，但对比文件并未明确将该乙烯基作为“光反应性官能团”进行限定，也未公开其他如(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、硫醇基等官能团在氟系化合物中的使用。 | 目标专利明确要求氟系化合物含有特定的光反应性官能团，而对比文件仅笼统地使用含氟共聚物，未突出其光反应性具体种类，也未给出能直接或合理推断出该技术特征的教导。因此特征Y未被公开。 |
| 技术特征Z：其中，所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子 《隐含公开》 | [130]：“저굴절률층을 형성하는 재료로서는… 결합제 수지 중에 중공미세 입자를 충전시킴으로써 달성할 수도 있다. 이러한 중공 입자는, 예를 들면 일본 특허 공개 제2001-233611호 공보, J. Am. Chem. soc. 2003, 125, 316-317 등의 공지 문헌에 기재되어 있다.”（翻译：作为形成低折射率层的材料…也可以通过向粘合剂树脂中填充中空微粒来实现。这种中空粒子记载于例如日本特开2001-233611号公报、J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 316-317等已知文献中。） | 对比文件明确教导低折射率层中可以使用中空微粒，本领域技术人员公知中空微粒通常为中空二氧化硅，且粒径在10-100nm范围内是常规选择（如参考文献记载）。因此，本领域技术人员可以合理推断出该技术特征，技术特征Z被隐含公开。 |
**公开性编码汇总**：
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