2008-09-24_EP1973161A_发明公开_EP1973161A2 Light emitting diode_+++A_B_C_D_E+++.docx

**对比文件的名称**:2008-09-24_EP1973161A_发明公开_EP1973161A2 Light emitting diode

**目标专利的名称**:1669发光器件和包括发光器件的发光器件封装CN105098041B

**本次调用的模型名称**:DeepSeek

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### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
**A:衬底** <br>《直接公开》【0031】形成在衬底51上。<br>【0042】单个芯片50具有衬底51。对比文件明确记载了发光单元形成在衬底上,该衬底为生长或支撑基板,与目标专利的衬底作用相同,均为承载发光结构的基础部件。本领域技术人员能够毫无疑义地确定该特征已被直接公开。
**B:多个发光单元,沿第一方向布置在所述衬底上** <br>《直接公开》【0042】多个发光单元1设置在衬底51上。<br>【图3】示出了多个发光单元沿直线方向排列的阵列。对比文件公开了在单个衬底上形成多个发光单元,且图3及说明书描述显示这些单元沿一定方向线性排列(串行阵列),该排列方向即为第一方向。目标专利中的“沿第一方向布置”本意即为线性排列,故该特征被直接公开。
**C:至少一个连接电极,用于连接所述发光单元** <br>《直接公开》【0048】一个发光单元的下半导体层55通过导线87连接到相邻另一个发光单元的上电极层61。<br>【0050】导线87通过开口连接相邻发光单元的上电极垫64和下电极65,从而将发光单元串联。对比文件中用于串联的导线87即为连接电极,其功能是将发光单元电连接,与目标专利中连接电极的作用完全相同。因此该技术特征被直接公开。
**D:第一绝缘层,布置在由所述连接电极连接的相邻发光单元与所述连接电极之间** <br>《直接公开》【0049】除了用于接触导线87的部分外,发光单元1的所有层和衬底51均被绝缘层85覆盖。<br>【0050】绝缘层85具有开口以暴露上电极垫64和下电极65,导线87通过开口连接。对比文件的绝缘层85介于导线(连接电极)与发光单元之间,起到电隔离作用,与目标专利中第一绝缘层的功能和位置一致。本领域技术人员可直接得出该特征已被公开。
**E:每个所述发光单元包括发光结构,该发光结构包括从衬底起依次堆叠的第一导电型半导体层、有源层和第二导电型半导体层** <br>《直接公开》【0045】每个发光单元1包括:由第一导电型化合物半导体层构成的下半导体层55、有源层57、以及由第二导电型化合物半导体层构成的上半导体层59。<br>【0034】缓冲层53位于下半导体层55与衬底51之间。对比文件明确公开了从衬底向上依次为下半导体层(第一导电型)、有源层、上半导体层(第二导电型)的层叠结构,与目标专利的发光结构堆叠顺序完全相同。该特征被直接公开。
**F:反射层,布置在所述第二导电型半导体层上** <br>《未公开》【0047】上电极层61可位于上半导体层59上,该上电极层为透明电极层,例如由ITO或Ni/Au形成。对比文件虽然在上半导体层上设置了上电极层,但该层是透明导电层(用于电流分布),并非专门用于反射光的反射层。目标专利的反射层具有高反射率(≥70%)、可由金属形成并具有特定多层结构,对比文件未提及任何具有反射功能的层,本领域技术人员不能从对比文件得出该特征。
**G:所述连接电极将相邻发光单元中的第一发光单元的所述第一导电型半导体层连接到相邻发光单元中的第二发光单元的所述反射层** <br>《未公开》【0048】导线87将一个发光单元的下半导体层55连接到相邻另一个发光单元的上电极层61。<br>下电极65形成于下半导体层55暴露区,上电极垫64形成于上电极层61上。对比文件中导线连接的是下半导体层(第一导电型)和上电极层(透明导电层),而上电极层并非反射层。目标专利的连接对象包括反射层,对比文件既无反射层也无连接至反射层的教导,因此该特征未被公开。
**H:在所述相邻发光单元中的每一个中,在第一方向上第二导电型半导体层的第一宽度等于或大于反射层的第三宽度** <br>《未公开》对比文件全文未涉及第二导电型半导体层或反射层的宽度比较,也未定义第一方向上的宽度参数。目标专利明确规定了半导体层与反射层在特定方向上的宽度关系,以优化电流扩散。对比文件未公开任何宽度尺寸或宽度关系的内容,本领域技术人员无法从对比文件直接或隐含得出该特征。
**I:第一方向不同于发光结构的厚度方向;并且多个发光单元中的每一个包括布置在第一方向上的每一个发光单元宽度的中心的至少一个电极孔以暴露出第一导电型半导体层的一部分** <br>《未公开》【0048】下电极65形成于暴露的下半导体层55上。<br>【0050】绝缘层85具有开口暴露上电极垫和下电极,但未描述从顶部蚀穿半导体层的电极孔。对比文件中连接是通过表面电极和导线实现的,并未形成从第二导电型层向下蚀刻至第一导电型层的电极孔。目标专利的电极孔是从发光结构顶部延伸暴露第一导电型层的盲孔,且位于单元宽度中心。对比文件未公开任何类似孔结构,因此该特征未被公开。
**J:使得连接电极穿过所述电极孔以将相邻发光单元中的第一发光单元的第一导电型半导体层连接到相邻发光单元中的第二发光单元的反射层** <br>《未公开》对比文件无电极孔结构,连接电极(导线)形成于绝缘层表面,未穿透任何半导体层内的孔。由于对比文件缺少电极孔,连接电极不可能穿过电极孔。目标专利该特征依赖于电极孔的存在,对比文件未公开其基础结构,故未被公开。
**K:每个发光单元还包括布置在反射层与第二导电型半导体层之间的导电层** <br>《未公开》【0047】上电极层61(透明电极层)位于上半导体层59上,该层是导电的,但无反射层位于其上。对比文件的上电极层虽然位于第二导电型半导体层上且具有导电性,但缺少位于其上方的反射层,因此不构成“布置在反射层与第二导电型半导体层之间”的层叠关系。该特征要求反射层存在,对比文件未公开反射层,故未公开。
**L:所述导电层具有透光性** <br>《未公开》【0035】【0047】上电极层61是透明电极层,例如由ITO或Ni/Au形成,具有透光性。虽然对比文件中的上电极层具有透光性,但该特征依附于K中的导电层。由于K未被公开(缺少反射层),L作为整体特征的一部分也未公开。单独看透光性虽然存在,但无法与反射层配合,故不认定为公开。
**M:在第一方向上第二导电型半导体层的第一宽度、反射层的第三宽度、导电层的第二宽度满足以下关系之一** <br>《未公开》对比文件全文未讨论任何宽度参数或宽度之间的关系。目标专利的M~T特征均基于反射层、导电层、半导体层的宽度比较,对比文件既未定义这些宽度,也未涉及任何宽度关系,本领域技术人员无法从中推断出任何宽度关系,因此M未被公开。
**N:第一宽度、第二宽度和第三宽度相同** <br>《未公开》同M对比文件未公开任何宽度参数,更未公开三者相等的关系,故未被公开。
**O:在第一方向上导电层的第一宽度、第二宽度或第三宽度至少之一相互不同** <br>《未公开》同M对比文件未公开任何宽度不同的关系,故未被公开。
**P:第二宽度等于或大于第三宽度** <br>《未公开》同M对比文件未公开,故未被公开。
**Q:第一宽度与第二宽度相同** <br>《未公开》同M对比文件未公开,故未被公开。
**R:第一宽度大于第二宽度** <br>《未公开》同M对比文件未公开,故未被公开。
**S:第一宽度等于或大于第二宽度,且第二宽度等于或大于第三宽度** <br>《未公开》同M对比文件未公开,故未被公开。
**T:第一宽度大于第二宽度,且第二宽度等于或大于第三宽度** <br>《未公开》同M对比文件未公开,故未被公开。
**U:反射层欧姆接触第二导电型半导体层** <br>《未公开》【0038】上电极层61与上半导体层59欧姆接触以降低接触电阻。但上电极层是透明电极层,并非反射层。对比文件虽存在欧姆接触,但接触层是透明导电层,不是反射层。目标专利要求反射层本身与半导体层欧姆接触,对比文件既无反射层,也未教导反射层与半导体层形成欧姆接触,故未公开。
**V:第一宽度等于或大于第三宽度** <br>《未公开》对比文件未涉及第一宽度与第三宽度的比较,且无反射层宽度定义。该特征与H实质相同,对比文件未公开任何宽度关系,故未公开。
**W:反射层具有多层结构** <br>《未公开》对比文件未提及任何反射层,更无多层结构。目标专利的反射层可由多层形成,但对比文件没有反射层的概念,故未公开。
**X:该多层结构包括反射光的第一层** <br>《未公开》对比文件无多层反射层结构。目标专利明确多层结构的第一层功能,对比文件未公开,故未公开。
**Y:该多层结构包括用作阻挡层的第二层** <br>《未公开》对比文件无多层反射层结构。目标专利明确第二层功能,对比文件未公开,故未公开。
**Z:该多层结构包括用作钝化粘附增强层的第三层** <br>《未公开》对比文件无多层反射层结构。目标专利明确第三层功能,对比文件未公开,故未公开。

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### 公开性代码输出

根据上述判断,对比文件直接公开了技术特征A、B、C、D、E,未隐含公开任何其他特征。因此仅输出以下大写字母代码:

<<<A>>> <<<B>>> <<<C>>> <<<D>>> <<<E>>>

权利要求与技术特征
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