对比文件名称：2015-01-07_JP5649979B_发明专利_JP5649979B2 黒鉛のナノプレートレットおよび組成物
目标专利名称：1673包括优化出口的片材剥离装置CN107921484B
本次调用模型名称：GPT-4
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **A.** 所述片材剥离装置包括：入口，片材供应到所述入口中。（**直接公开**） | [0121] “蠕動ポンプを用いて、Ｄｙｎｏ（登録商標）−Ｍｉｌｌに連続的に投入する（６００ｃｃの容量）”。[0123]详细描述了将含有石墨的混合物通过蠕动泵供应到Dyno-Mill中。 | 对比文件明确公开了湿式研磨装置（Dyno-Mill）具有入口，通过蠕动泵将石墨原料连续供入入口。该作用与目标专利相同，即引入待剥离的片材。本领域技术人员可毫无疑义地得出该技术特征。 |
| **B.** 高压泵，位于所述入口的前端，并产生用于对所述片材加压的压力。（**未公开**） | 全文未记载高压泵及其位于入口前端产生压力的相关描述。 | 对比文件仅提及使用蠕动泵进行低压力进料（用于输送浆料），未公开能够产生100‑3000巴高压的高压泵，也未暗示该种泵的存在。因此既未直接公开也未隐含公开。 |
| **C.** 微通道，位于所述入口的后端，所述片材通过所述高压泵产生的压力穿过所述微通道，由此所述片材被均质化。（**未公开**） | 全文未记载微通道结构，也未记载片材通过高压泵压力穿过微通道而被均质化。研磨中使用的间隙（0.05‑0.1mm）是珠子间的空间，并非流体高速通过的微通道。 | 对比文件的湿式研磨通过珠子碰撞实现剥离，而非使流体在微细通道中高速通过产生剪切。无任何内容教导或暗示微通道及相应的均质化作用。 |
| **D.** 出口，位于所述微通道的后端。（**未公开**） | 全文未记载与所述微通道配套的出口结构。 | 由于对比文件未公开微通道，相应地位于其后端的出口自然也未公开。Dyno-Mill虽有出料口，但其结构、位置与目标专利的出口无关。 |
| **E.** 所述微通道的所述后端与从所述微通道的所述后端排出的所述片材所碰撞的出口壁面之间的最小距离(y，单位m)以及所述微通道的所述后端处的所述片材的速度(x，单位m/s)满足以下方程式1：[方程式1] y≥(2.7×10<sup>-5</sup>)x-(4.2×10<sup>-5</sup>)。（**未公开**） | 全文未提及出口壁面距离、片材速度及任何数学关系。 | 目标专利的特征在于通过控制出口距离‑速度关系避免石墨烯被研磨，对比文件完全没有涉及此类参数设计，因此未公开。 |
| **F.** 所述方法包括以下步骤：1)将包含石墨的溶液供应到所述入口。（**直接公开**） | [0123]详细描述了配制石墨/矿物油混合物（“4Lの鉱油…20.0gのプラズマ処理黒鉛”），[0124]“約６０〜７０ｍＬ／分のポンプ速度で、Ｄｙｎｏ（登録商標）−Ｍｉｌｌに連続的に投入する”。即通过泵将含石墨的液体供入研磨机入口。 | 对比文件明确公开了将含有膨胀石墨的溶液（浆料）供应到装置入口的步骤，这与目标专利的步骤1)完全相同，作用均为将原料引入剥离装置。 |
| **G.** 2)用高压泵对所述入口施加压力以使包含石墨的所述溶液通过所述微通道。（**未公开**） | 全文未记载使用高压泵对入口施加压力并使溶液通过微通道的操作。 | 对比文件中溶液通过蠕动泵低压输入Dyno‑Mill，并非高压泵驱动；且通过的部位是研磨室而非微通道，因此该特征未公开。 |
| **H.** 3)从所述出口回收石墨烯分散体。（**直接公开**） | [0125]“空の７Ｌのステンレス鋼ビーカー内に、Ｄｙｎｏ（登録商標）−Ｍｉｌｌの流出物を回収する”，[0127]通过过滤回收石墨滤饼（即石墨纳米片分散体）。 | 对比文件从研磨机出口收集流出物，随后过滤得到石墨纳米片分散体，其中包含多层的石墨烯结构。该步骤与目标专利的回收石墨烯分散体直接对应。 |
| **I.** 其中，所述微通道的所述后端与从所述微通道的所述后端排出的所述片材所碰撞的出口壁面之间的所述最小距离(y)为0.001m至0.050m。（**未公开**） | 全文未记载微通道后端与出口壁面的距离数值范围。 | 对比文件未公开微通道，更未公开此类距离参数，故未公开。 |
| **J.** 其中，所述微通道的所述后端处的所述片材的所述速度(x)为10m/s至600m/s。（**未公开**） | 全文未记载微通道后端片材的速度范围。 | 对比文件未公开微通道及排料速度，故未公开。 |
| **K.** 其中，所述出口是圆柱形的，并且所述微通道的所述后端位于圆柱形的所述出口的侧面。（**未公开**） | 全文未记载出口形状及微通道与出口的方位关系。 | 对比文件未描述Dyno‑Mill出口的具体形状和微通道位置，故未公开。 |
| **L.** 其中，装备有用于将所述片材供应到所述入口(10)的供应线。（**直接公开**） | [0121]“蠕動ポンプを用いて、Ｄｙｎｏ（登録商標）−Ｍｉｌｌに連続的に投入する”。[0123]‑[0124]进一步描述了通过蠕动泵和管道构成供应路径。 | 对比文件明确装备了蠕动泵及连接管道作为供应线，将原料连续供入入口。这与目标专利的供应线作用相同，均用于输送片材。 |
| **M.** 其中，步骤2)的所述压力为100巴至3000巴。（**未公开**） | 全文未记载向装置施加100‑3000巴压力的内容。等离子体步骤压力为200托‑大气压，湿磨步骤仅使用低压力蠕动泵。 | 对比文件既未直接指定该压力范围，也未暗示存在如此高的操作压力，故未公开。 |
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