对比文件名称：1991-10-03_WO1991014969A_发明申请_WO1991014969A1 METHOD AND APPARATUS FOR USE IN BEAD COATING A WEB WITH LIQUID COMPOSITION
目标专利名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
本次调用的模型名称：资深专利代理师评估模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括狭缝式模具《未公开》 | 对比文件全文未提及“狭缝式模具”，其涂布头为“slide hopper”（滑斗）。例如，[p0015] “...通过已知的滑斗18。” | 对比文件公开的是滑斗式涂布装置，并非狭缝式模具。两者结构不同，对比文件未公开或暗示使用狭缝式模具，因此本领域技术人员不能从对比文件得出或合理推断出该技术特征。 |
| 技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液《未公开》 | 对比文件未公开狭缝式模具，因此无相关供应涂布液的记载。 | 由于对比文件未公开狭缝式模具，故其配置为向基膜供应涂布液的功能特征也无法被公开。 |
| 技术特征C：真空室《直接公开》 | [p0017] “设有一个壳体46，具有端壁48，壳体46与滑斗18和辊40的一部分共同界定出一个腔室50。空气可沿管道52从腔室中抽出，以在腔室50中形成低于大气压的压力。” | 对比文件明确公开了一个腔室（chamber 50），通过抽气形成负压，该腔室即真空室，用于在涂布时提供真空环境，与目标专利中的真空室作用相同。因此，本领域技术人员可以毫无疑义地确定该特征被直接公开。 |
| 技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端《未公开》 | 对比文件公开的真空室（chamber 50）是由滑斗（hopper 18）、壳体（casing 46）和辊（roll 40）的一部分界定，位于涂布间隙下方，但未提及“狭缝式模具的前端”。 | 对比文件未公开狭缝式模具，且真空室的安装对象是滑斗，而非狭缝式模具。因此，该技术特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙《隐含公开》 | [p0016] “在唇部32与基膜12之间形成有一个小间隙44。” 且真空室位于唇部下方，通过该间隙与外界连通。 | 对比文件虽然未直接描述真空室与基膜之间的间隙，但其公开了涂布间隙44，该间隙位于滑斗唇部与基膜之间，且真空室紧邻该间隙，空气通过该间隙进入真空室。本领域技术人员可以合理推断出真空室与基膜之间形成有间隙，以实现空气流入。因此，该特征被隐含公开。 |
| 技术特征F：压力振荡减低箱《未公开》 | 对比文件全文未记载任何额外的箱体，其通过控制涡轮速度来稳定压力，如[p0025] “通过调节涡轮的速度来调节横跨珠的压差……产生了更稳定的压差”。 | 对比文件解决压力不稳定问题的技术手段是速度可调的涡轮，并未公开或暗示使用压力振荡减低箱。因此，该特征未被公开。 |
| 技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室《未公开》 | 无相关记载。 | 由于对比文件未公开压力振荡减低箱，故该特征必然未被公开。 |
| 技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接《直接公开》 | [p0017] “空气可沿管道52从腔室中抽出，以在腔室50中形成低于大气压的压力。” 以及[p0019]提及涡轮54作为真空泵。 | 对比文件明确公开了管道（conduit 52）连接真空室（chamber 50）和真空产生装置（涡轮54），该管道相当于第一管道，直接连接在真空室上，用于抽出空气。因此，该特征被直接公开。 |
| 技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接《未公开》 | 无相关记载。 | 由于对比文件未公开压力振荡减低箱，因此第二管道也不存在，该特征未被公开。 |
| 技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力《隐含公开》 | [p0019] “真空控制器还通过线路64接收表示腔室50中压力的信号。压力信号来自压力传感器66，该压力传感器通过管道68接收腔室50中的压力。” | 对比文件公开了压力传感器（压力表）及其连接管道，但未明确表示安装在第一管道的一侧。然而，本领域技术人员在知晓需要测量真空室压力的情况下，容易想到将压力表安装在第一管道上，这属于常规设计选择。因此，该特征被隐含公开。 |
| 技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开任何关于体积比较的公式，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征L：[公式1]《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开公式1。 |
| 技术特征M：V1≤V2《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开体积关系。 |
| 技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积《未公开》 | 无。 | 对比文件未定义V1。 |
| 技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积《未公开》 | 无。 | 对比文件未定义V2。 |
| 技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开公式2。 |
| 技术特征Q：[公式2]《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开公式2。 |
| 技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开此关系式。 |
| 技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m3)《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开体积单位。 |
| 技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3)《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开。 |
| 技术特征U：A为1m3/N至20m3/N《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开A的范围。 |
| 技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m2)《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开压力定义。 |
| 技术特征W：P2表示大气压力(N/m2)《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开。 |
| 技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m)《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开间隙宽度定义。 |
| 技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开涂层长度定义。 |
| 技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜《直接公开》 | [p0016] “邻近滑斗18的是涂布辊40，该辊被驱动旋转……基膜12被卷绕在辊40上……基膜向上移动经过滑斗唇部。” | 对比文件明确公开了基膜（web 12）被卷绕在涂布辊（coating roll 40）上，并通过辊的旋转供应基膜，实现连续涂布。因此，该特征被直接公开。 |
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