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对比文件列表
1997-09-05_None_发明专利_JPH09232632A Semiconductor light-emitting element and manufacture thereof_+++A_B_C_D_E_H_I_J+++.docx
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1999-09-14_US5952681A_发明授权_US5952681A Light emitting diode emitting red, green and blue light_+++A_B_C_D_E_H+++.docx
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2001-06-12_JP2001160650A_发明专利_JP2001160650A Semiconductor light emitting element_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_N_O_P+++.docx
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2001-12-07_JP2001339121A_发明专利_JP2001339121A Nitride semiconductor light emitting device and optical device including the same_+++A_B_C_D_E_H_i_j+++.docx
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2002-04-12_JP2002111059A_发明专利_JP2002111059A Optical semiconductor element and optical semiconductor device_+++A_B_C_D_E_H+++.docx
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2002-10-24_US2002154496A_发明申请_US20020154496A1 Window for light-emitting diode_+++A_B_C_J_h+++.docx
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2003-03-12_EP1291989A_发明公开_EP1291989A1 NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE AND OPTICAL APPARATUS INCLUDING THE SAME_+++A_B_C_D_E_h_i_j_n_o_x+++.docx
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2003-07-01_US6586762B_发明授权_US06586762B2 Nitride semiconductor device with improved lifetime and high output power_+++A_B_C_D_E_H+++.docx
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2003-08-26_US6610995B_发明授权_US06610995B2 Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor_+++A_B_C_D_E_H+++.docx
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2003-10-31_JP2003308218A_发明专利_JP2003308218A Intermediate code execution system and incorporated equipment_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_K_L_M_N_O_P_Q_R_S_T_U_V_W_X_Y_a_b_c_d_e_f_g_h_i_j_k_l_m_n_o_p_q_r_s_t_u_v_w_x_y+++.docx
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2003-11-06_US2003207480A_发明申请_US20030207480A1 Method of manufacturing semiconductor device_+++A_B_C_D_F_H_N_O_P+++.docx
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2004-12-30_US2004266044A_发明申请_US20040266044A1 Method for manufacturing gallium nitride-based semiconductor light emitting device_+++A_B_C_D_E_H_I_J+++.docx
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2005-05-10_US6891871B_发明授权_US06891871B1 Semiconductor light emitting device_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_N_O_Q_S_T+++.docx
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2005-06-09_US2005121679A_发明申请_US20050121679A1 Nitride semiconductor device_+++A_B_C_D_E_H_I_J+++.docx
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2006-02-14_US6998690B_发明授权_US06998690B2 Gallium nitride based III-V group compound semiconductor device and method of producing the same_+++A_B_C_D_E_H_I_J+++.docx
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2006-08-08_KR100609968B_发明授权_KR100609968B1 정전기 보호 기능을 갖는 발광 다이오드 및 그 제조 방법_+++A_B_C_D_E_H_I_J+++.docx
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2006-09-07_JP2006237574A_发明专利_JP2006237574A GaN-BASED LIGHT EMITTING DIODE_+++A_B_C_D_H_e_i_j+++.docx
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2006-10-16_TW200637034A_发明专利_TW200637034A GaN系發光二極體及發光裝置 GAN-BASED LIGHT-EMITTING DIODE AND LUMINOUS DEVICE_+++A_B_C_D_H_n_o+++.docx
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2007-04-12_JP2007096116A_发明专利_JP2007096116A Light emitting element_+++A_B_C_D_E_H_I_J+++.docx
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2007-05-23_KR100721515B_发明授权_KR100721515B1 ⅠTO층을 갖는 발광다이오드 및 그 제조방법_+++A_B_C_D_E_H_I_J_X+++.docx
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2007-06-14_US2007131958A_发明申请_US20070131958A1 Single chip with multi-LED_+++A_B_C_D_E_H_f+++.docx
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2008-05-28_CN101188267A_发明公开_CN101188267A 发光装置及其制造方法_+++A_B_C_D_H_N_O_e_f_g_q_w_y+++.docx
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2008-05-29_US2008121907A_发明申请_US20080121907A1 LIGHT EMITTING DIODE AND FABRICATING METHOD THEREOF_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_N_O+++.docx
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2008-08-07_US2008185606A_发明申请_US20080185606A1 Semiconductor light emitting element_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_N_O_V_Y_k_p_q_r_s_t+++.docx
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2008-08-16_TW200834984A_发明专利_TW200834984A 發光元件及其製造方法_+++A_B_C_D_E_F_G_H_N_O_P_Q_X_Y+++.docx
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2008-10-01_KR1020080087251A_发明公开_KR1020080087251A 커패시터를 구비하는 발광 다이오드_+++A_B_C_D_E_H_I_J+++.docx
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2009-03-17_KR1020090027329A_发明公开_KR1020090027329A 수직구조 반도체 발광소자 및 그 제조 방법_+++A_B_C_D_H+++.docx
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2009-04-30_JP2009094107A_发明专利_JP2009094107A ELECTRODE FOR GaN-BASED LED DEVICE AND GaN-BASED LED DEVICE USING THE SAME_+++A_B_C_D_E_H+++.docx
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2009-05-21_US2009127575A_发明申请_US20090127575A1 Light-Emitting Diode Chip With High Light Extraction And Method For Manufacturing The Same_+++A_B_C_D_E_H_I_J_x+++.docx
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2009-10-06_KR1020090104453A_发明公开_KR1020090104453A 질화물 반도체 발광소자_+++A_B_C_D_F_H_N_O_R+++.docx
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2009-11-01_TW200945631A_发明专利_TW200945631A 半導體發光元件及其製造方法_+++A_B_C_D_H+++.docx
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2009-12-03_WO2009145502A_发明申请_WO2009145502A2 발광 소자_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_N_O+++.docx
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2009-12-23_WO2009154383A_发明申请_WO2009154383A2 반도체 발광소자_+++A_B_C_D_E_F_H+++.docx
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2009-12-24_US2009315058A_发明申请_US20090315058A1 NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME_+++A_B_C_D_H_e_i_j+++.docx
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2009-12-31_US2009321775A_发明申请_US20090321775A1 LED with Reduced Electrode Area_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_N_O+++.docx
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2010-02-11_US2010032694A_发明申请_US20100032694A1 LIGHT EMITTING DIODE WITH ITO LAYER AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME_+++A_B_C_D_E_H_I_J_x+++.docx
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2004-12-30_US2004266044A_发明申请_US20040266044A1 Method for manufacturing gallium nitride-based semiconductor light emitting device_+++A_B_C_D_E_H_I_J+++.docx

对比文件的名称:2004-12-30_US2004266044A_发明申请_US20040266044A1 Method for manufacturing gallium nitride-based semiconductor light emitting device

目标专利的名称:1782发光器件和发光器件封装CN102194958B

本次调用的模型名称:DeepSeek

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译)公开性论述
技术特征A:包括发光结构,所述发光结构包括第一导电半导体层《直接公开》[0033]“在衬底上顺序形成第一导电类型包层33、有源层35、第二导电类型包层37”。对比文件明确公开了第一导电类型包层33,其对应于目标专利的第一导电半导体层,且位于发光结构中,因此该特征被直接公开。
技术特征B:在所述第一导电半导体层上的有源层《直接公开》[0033]“在衬底上顺序形成第一导电类型包层33、有源层35、第二导电类型包层37”。对比文件公开的有源层35直接形成在第一导电类型包层33上,对应于目标专利的有源层,因此该特征被直接公开。
技术特征C:所述有源层上的第二导电半导体层《直接公开》[0033]“在衬底上顺序形成第一导电类型包层33、有源层35、第二导电类型包层37”。对比文件公开的第二导电类型包层37形成在有源层35上,对应于目标专利的第二导电半导体层,因此该特征被直接公开。
技术特征D:其中所述发光结构具有其中暴露所述第一导电半导体层的顶表面的区域《直接公开》[0036]“部分去除第二导电类型包层37和有源层35,从而部分暴露第一导电类型包层33”。对比文件通过台面蚀刻工艺暴露了第一导电类型包层33的顶表面部分区域,与目标专利的暴露区域特征一致,因此该特征被直接公开。
技术特征E:透射电极层,所述透射电极层在所述第二导电半导体层上《直接公开》[0035]“在第二导电类型包层37上形成透明电极层38”。对比文件在第二导电类型包层37上形成透明电极层38,透明电极层即为透射电极层,因此该特征被直接公开。
技术特征F:粘附层,所述粘附层接触所述第一导电半导体层《未公开》对比文件未公开粘附层,仅公开了钝化层40,但钝化层在形成电极时被蚀刻去除,不保留在电极与半导体层之间。目标专利的粘附层是专门用于提高电极与半导体层粘附强度的层,且永久保留在电极下方。对比文件没有公开任何层在电极与第一导电半导体层之间直接接触作为粘附层,也没有任何层起到相同作用,因此该特征未公开。
技术特征G:第一电极,所述第一电极在所述区域中接触所述粘附层和所述第一导电半导体层上《未公开》对比文件公开了第一键合电极39b直接接触第一导电类型包层33,但未公开粘附层,因此第一电极不与粘附层接触。目标专利的第一电极同时接触粘附层和第一导电半导体层,对比文件的第一电极仅接触第一导电半导体层,没有粘附层,因此该特征未公开。
技术特征H:第二电极,所述第二电极接触所述第二导电半导体层《直接公开》[0044]“在透明电极38和第一导电类型包层33的暴露部分上分别形成p型导电键合电极39a和n型导电键合电极39b”。对比文件中的第二键合电极39a形成在透明电极38上,透明电极38直接接触第二导电类型包层37,因此第二电极通过透明电极间接接触第二导电半导体层,可视为接触,且目标专利中第二电极可通过透射电极层接触,因此该特征被直接公开。
技术特征I:其中所述第二电极的第一部分通过所述透射电极层接触所述第二导电半导体层的至少一部分《直接公开》[0044]“在透明电极38的暴露部分上形成p型导电键合电极39a”。对比文件中的第二键合电极39a整体形成在透明电极38上,从而通过透明电极接触第二导电类型包层37,即第二电极通过透射电极层接触第二导电半导体层,因此该特征被直接公开。
技术特征J:所述第二电极的第二部分接触所述透射电极层的至少一部分《直接公开》[0044]“在透明电极38的暴露部分上形成p型导电键合电极39a”。对比文件中的第二键合电极39a直接接触透明电极38,即第二电极的第二部分接触透射电极层,因此该特征被直接公开。
技术特征K:其中所述粘附层被布置在所述第一导电半导体层的侧表面和顶表面、所述有源层的侧表面、以及所述第二导电半导体层的顶表面和侧表面上;并且中所述第二电极的第一部分被所述透射电极层包围《未公开》对比文件未公开粘附层,且第二电极的第一部分(即接触半导体层的部分)不存在,透射电极层位于第二电极下方而非包围。目标专利的粘附层具有特定的延伸范围,且第二电极的第一部分被透射电极层包围。对比文件既无粘附层,也无透射电极层包围第二电极的结构,因此该特征未公开。
技术特征L:其中接触所述第一导电半导体层的顶表面的所述第一电极的底表面具有所述第一电极的顶表面的10%至95%的面积《未公开》对比文件未公开第一电极底表面与第一导电半导体层顶表面的接触面积比例。目标专利限定了第一电极与第一导电半导体层的接触面积范围,对比文件没有给出任何关于面积比例的信息,因此该特征未公开。
技术特征M:其中所述第一电极和所述粘附层之间的垂直重叠区域具有所述第一电极的顶表面的5%至90%的宽度《未公开》对比文件未公开粘附层,因此不存在第一电极与粘附层的垂直重叠区域。目标专利限定了第一电极与粘附层的垂直重叠宽度比例,对比文件没有粘附层,因此该特征未公开。
技术特征N:其中所述粘附层包括透射导电材料和透射绝缘材料中的至少一个《未公开》对比文件未公开粘附层,仅钝化层40可能使用SiO2或SiN,但钝化层不是粘附层且不用于粘附目的。目标专利的粘附层材料选择范围,对比文件没有公开任何粘附层,因此该特征未公开。
技术特征O:其中所述粘附层包括从由SiOx、SiOxNy、Si3N4、TiO2、Al2O3、铟锡氧化物、铟锌氧化物、铟锌锡氧化物、铟铝锌氧化物、铟镓锌氧化物、铟镓锡氧化物、铝锌氧化物、锑锡氧化物、镓锌氧化物、IrOx、以及RuOx组成的组中选择的至少一个《未公开》对比文件公开了钝化层40可由SiO2或SiN形成,但这些材料用于钝化层而非粘附层,且未公开粘附层。尽管对比文件中的材料部分落入目标专利的粘附层材料列表中,但对比文件没有公开这些材料用于形成粘附层,也没有公开粘附层结构,因此该特征未公开。
技术特征P:其中所述粘附层沿着所述发光结构的侧表面从所述第一导电半导体层的顶表面延伸到所述第二导电半导体层的顶表面的一部分《未公开》对比文件未公开粘附层,其钝化层40覆盖整个器件表面,但电极区域被去除,且不专门沿侧表面延伸至第二导电半导体层顶表面的一部分。目标专利的粘附层具有特定的延伸路径,对比文件没有公开类似结构,因此该特征未公开。
技术特征Q:其中所述粘附层包括:第一层,所述第一层在所述第一导电半导体层的顶表面上并且包括透射绝缘材料《未公开》对比文件未公开粘附层,更未公开其多层结构。目标专利的粘附层可具有包括透射绝缘材料的第一层,对比文件没有公开任何粘附层叠层,因此该特征未公开。
技术特征R:和第二层,所述第二层在所述第一层上并且包括透射导电材料《未公开》对比文件未公开粘附层,更未公开其多层结构。目标专利的粘附层可具有包括透射导电材料的第二层,对比文件没有公开任何粘附层叠层,因此该特征未公开。
技术特征S:其中所述粘附层包括:第一层,所述第一层在所述第一导电半导体层的顶表面上并且具有高折射率《未公开》对比文件未公开粘附层,更未公开其折射率特性。目标专利的粘附层可具有高折射率的第一层,对比文件没有公开任何粘附层及其折射率,因此该特征未公开。
技术特征T:和第二层,所述第二层在所述第一层上并且具有低折射率《未公开》对比文件未公开粘附层,更未公开其折射率特性。目标专利的粘附层可具有低折射率的第二层,对比文件没有公开任何粘附层及其折射率,因此该特征未公开。
技术特征U:其中所述透射电极层与所述第二导电半导体层的顶表面上的所述粘附层的一端隔开《未公开》对比文件未公开粘附层,因此透射电极层与粘附层的位置关系不存在。目标专利限定了透射电极层与粘附层一端的隔开关系,对比文件没有粘附层,因此该特征未公开。
技术特征V:其中所述粘附层延伸到所述第二导电半导体层的顶表面并且被设置在所述透射电极层和所述第二导电半导体层之间《未公开》对比文件未公开粘附层,透射电极层直接接触第二导电半导体层,无中间层。目标专利的粘附层位于透射电极层和第二导电半导体层之间,对比文件没有这样的层,因此该特征未公开。
技术特征W:其中所述粘附层延伸到所述透射电极层的顶表面《未公开》对比文件未公开粘附层,因此无此延伸。目标专利的粘附层可延伸到透射电极层顶表面,对比文件没有粘附层,因此该特征未公开。
技术特征X:其中所述第二电极的第一部分没有暴露到外部《未公开》对比文件未公开第二电极的第一部分(直接接触半导体层的部分),第二电极整体暴露在表面。目标专利的第二电极第一部分被透射电极层包围而不暴露,对比文件第二电极直接形成在透明电极上,整体暴露,因此该特征未公开。
技术特征Y:其中所述第一电极穿过所述粘附层并且在垂直方向上与所述粘附层重叠《未公开》对比文件未公开粘附层,第一电极直接接触第一导电半导体层,无重叠。目标专利的第一电极穿过粘附层并与粘附层垂直重叠,对比文件没有粘附层,因此该特征未公开。

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