对比文件名称：2011-12-22_None_发明专利_JPWO2010001974A1 インクの吐出量制御システム及びカラーフィルタの製造方法
目标专利名称：1789立体图像显示器的多功能滤光片和包括其的立体图像显示装置CN103154802B
本次调用的模型名称：基于深度学习的专利评估模型（AI）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括，所述图像产生单元包括在一侧具有透明电极的上基板。**公开性判断：未公开** | 对比文件未公开具有透明电极的上基板结构。对比文件涉及彩色滤光片制造，其基板为透明玻璃或树脂基板，但未提及透明电极或液晶显示面板的上基板（[0034]）。 | 对比文件主题为彩色滤光片制造，不涉及液晶显示面板的图像产生单元，更未公开具有透明电极的上基板。因此，本领域技术人员无法从对比文件直接或隐含得出该技术特征。 |
| 技术特征B：与所述上基板间隔开并在一侧具有透明电极的下基板。**公开性判断：未公开** | 对比文件未公开下基板及透明电极。对比文件仅描述了彩色滤光片基板，未涉及对置的下基板（[0034]）。 | 对比文件未涉及液晶显示面板的下基板结构，无相关技术内容。因此，未公开该特征。 |
| 技术特征C：插入所述上基板和所述下基板之间的液晶晶胞。**公开性判断：未公开** | 对比文件未公开液晶晶胞。对比文件描述的是彩色滤光片基板及着色层，未涉及液晶层（[0034]）。 | 对比文件不涉及液晶显示装置，没有液晶晶胞的相关公开。因此，未公开该特征。 |
| 技术特征D：滤光片。**公开性判断：直接公开** | [0001]“本发明涉及一种用于向彩色滤光片的目标区域喷出彩色墨水的喷墨量控制系统及彩色滤光片的制造方法。”明确提及“彩色滤光片”（カラーフィルタ）。 | 对比文件公开了“彩色滤光片”，这是一种滤光片，具有滤光功能。因此，技术特征D“滤光片”被直接公开。 |
| 技术特征E：所述滤光片包括被图案化为调整右眼图像的偏振状态的第一区域和调整左眼图像的偏振状态的第二区域的3D滤光层。**公开性判断：未公开** | 对比文件未公开任何关于偏振调整或3D滤光层的内容。对比文件涉及彩色滤光片，其功能是滤色，而非调整偏振（[0001]）。 | 对比文件不涉及立体显示或偏振图案，没有3D滤光层的技术启示。因此，未公开该特征。 |
| 技术特征F：具有RGB图案的滤色层。**公开性判断：直接公开** | [0034]“图4（A）是彩色滤光片基板W的一部分的放大平面图。...在各黑色矩阵7之间，从印刷头20的例如一个喷嘴45供给RGB中任一色的墨水，由此形成着色层6。”[0035]“图4（A）中，作为RGB的排列，示出了RGB各色在纵向直线排列的条纹类型。” | 对比文件公开了着色层6具有RGB图案，用于滤色，即相当于滤色层。因此，技术特征F被直接公开。 |
| 技术特征G：所述滤光片设置在所述上基板的外侧。**公开性判断：未公开** | 对比文件未公开滤光片的安装位置。对比文件仅涉及彩色滤光片基板的制造，未说明其相对于显示面板的安装位置（[0036]等）。 | 对比文件无任何关于滤光片设置在上基板外侧的记载，本领域技术人员无法直接或隐含得出该特征。 |
| 技术特征H：还包括，位于所述3D滤光层和所述滤色层之间的粘合层。**公开性判断：未公开** | 对比文件未公开粘合层。对比文件未涉及3D滤光层，也未提及任何粘合层结构（[0001]-[0098]）。 | 对比文件不涉及3D滤光层，也没有粘合层的相关公开。因此，未公开该特征。 |
| 技术特征I：还包括，位于所述滤光片的最上层上的粘合层。**公开性判断：未公开** | 对比文件未公开粘合层。对比文件未涉及滤光片最上层的粘合层（[0001]-[0098]）。 | 对比文件无任何关于滤光片最上层粘合层的记载，因此未公开该特征。 |
| 技术特征J：其中，所述滤色层通过印刷法形成。**公开性判断：直接公开** | [0002]“以往，在彩色滤光片的制造中使用喷墨法（インクジェット法）。”喷墨法属于印刷法的一种。 | 对比文件公开了使用喷墨法（印刷法）形成彩色滤光片的着色层，即滤色层。因此，技术特征J被直接公开。 |
| 技术特征K：其中，所述滤色层通过喷墨印刷法或凹版印刷法形成。**公开性判断：直接公开** | [0002]“以往，在彩色滤光片的制造中使用喷墨法。”及[0034]等，明确涉及喷墨印刷法。 | 对比文件公开了使用喷墨印刷法形成滤色层，喷墨印刷法属于该技术特征中“喷墨印刷法”的选择。因此，该技术特征被直接公开（至少对于喷墨印刷法部分）。 |
| 技术特征L：其中，所述滤色层通过光刻法形成。**公开性判断：未公开** | 对比文件未公开光刻法。对比文件仅涉及喷墨法，未提及光刻工艺（[0001]-[0098]）。 | 对比文件不涉及光刻法，因此未公开该特征。 |
根据上述对比，对比文件直接公开了技术特征D、F、J、K，未直接或隐含公开其他技术特征。
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