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对比文件列表
1996-07-23_US5538821A_发明授权_US5538821A Resist ink composition and cured article prepared therefrom_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_K_L_M+++.docx
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1998-12-22_US5852136A_发明授权_US5852136A Curable coating composition_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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2002-11-27_JP2002338652A_发明专利_JP2002338652A Aqueous alkaline solution-soluble urethane forming epoxycarboxylate compound, photosensitive resin composition using the same and its hardened material_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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2005-10-27_JP2005300764A_发明专利_JP2005300764A Curable resin composition, resist pattern forming method, and resin cured object_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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2005-12-02_JP2005331938A_发明专利_JP2005331938A Photosensitive composition for black matrix_+++C_D_G_H_I_J_K+++.docx
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2006-06-08_None_发明专利_JPWO2004079452A1 感光性樹脂組成物及びその硬化物_+++B_C_E_F_G_H_M_l+++.docx
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2007-06-07_KR100725432B_发明授权_KR100725432B1 감광성 수지 조성물 및 그 경화물_+++C_E_F_G_H_L_M+++.docx
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2007-07-19_US2007166642A_发明申请_US20070166642A1 Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof_+++A_B_C_E_F_G_H_L_M_d+++.docx
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2008-04-03_JP2008074938A_发明专利_JP2008074938A Photosensitive resin composition and its cured product_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_L_M_k+++.docx
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WO02094904A1_Description_20260718_2106_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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WO2004079452A1_Description_20260718_2107_+++C_G_H_L_M+++.docx
2026-07-29 13:28
WO2004079452A1_Description_20260718_2107_+++C_G_H_L_M+++.docx

对比文件名称:WO2004079452A1_Description_20260718_2107

目标专利名称:1831氨基甲酸酯多官能单体、该单体的制备方法及含有该单体的光敏树脂组合物CN101998947B

本次调用的模型名称:DeepSeek(资深专利代理师模拟)

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译)公开性论述
技术特征A:通过反应如下化合物制备(未公开)对比文件公开的制备方法:使二异氰酸酯化合物(a)、分子中具有烯属不饱和基的二醇化合物(b)、分子中具有羧基的二醇化合物(c)、以及任选的分子中不具有烯属不饱和基或羧基的二醇化合物(d)在无催化剂下进行氨基甲酸酯化反应,然后与环状酸酐(e)反应,得到碱水溶液可溶性聚氨酯树脂(A)。(参见“発明の開示”部分:“①ジイソシァネート化合物(a)、分子中にエチレン性不飽和基を有するジオール化合物(b)、分子中にカルボキシル基を有するジオール化合物(c)、任意成分として、分子中にエチレン性不飽和基またはカルボキシル基を有しないジオール化合物(d)を無触媒下でウレタン化反応させ、環状酸無水物(e)を反応させて得られるアルカリ水溶液可溶性ウレタン樹脂(A)”)对比文件的目标产物是碱溶性聚氨酯树脂(A),其制备原材料为二异氰酸酯、含烯属不饱和基的二醇、含羧基的二醇等,与目标专利的“通过反应(a)环氧化合物、(b)具有酸基团的二元醇化合物、(c)具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物制备氨基甲酸酯多官能单体”完全不同。对比文件未公开使用环氧化合物和含异氰酸酯基的烯基化合物,因此技术特征A未被公开。
技术特征B:(a)一种具有两个以上环氧基的环氧化合物(未公开)对比文件使用的组分(a)为二异氰酸酯化合物,例如异佛尔酮二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯等,未提及任何环氧化合物。(参见“発明の開示”部分:“①ジイソシァネート化合物(a)”)对比文件中的组分(a)明确为二异氰酸酯,而非具有两个以上环氧基的环氧化合物,因此技术特征B未被公开。
技术特征C:(b)一种具有酸基团的二元醇化合物(直接公开)对比文件明确记载了“分子中具有羧基的二醇化合物(c)”,并具体举例如二羟甲基丙酸(ジメチロールプロピオン酸)、二羟甲基丁酸(ジメチロールブタン酸)等。(参见“発明を実施するための最良の形態”部分:“分子中にカルボキシル基を有するジオール化合物(c)とは、分子中に2個のアルコール性水酸基と1個以上のカルボキシル基を同時に有する化合物であり、特に限定されないが、組成物の現像液として用いるアルカリ水溶液に良好な溶解性を示すジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸(2,2-ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸)が特に好ましい。”)对比文件中的含羧基的二醇化合物与目标专利的(b)具有酸基团的二元醇化合物在结构和功能上完全相同,均用于提供酸基团。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
技术特征D:(c)一种具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物(未公开)对比文件中使用的含烯属不饱和基的化合物是分子中具有烯属不饱和基的二醇化合物(b),其含有羟基和烯键,但不含异氰酸酯基;使用的异氰酸酯化合物是二异氰酸酯化合物(a),其含有两个异氰酸酯基,但不含烯键。对比文件未公开同时含有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物。(参见“発明の開示”部分:“分子中にエチレン性不飽和基を有するジオール化合物(b)”、“ジイソシァネート化合物(a)”)目标专利的(c)是同一分子中同时具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物,而对比文件将这两种基团分别置于不同的化合物中,未公开该特定化合物。因此,技术特征D未被公开。
技术特征E:其中所述(a)具有两个以上环氧基的环氧化合物选自(未公开)对比文件未使用任何环氧化合物,更未涉及环氧化合物的选择。(参见技术特征B的引用)由于对比文件未公开环氧化合物,该选择特征无从谈起,故技术特征E未被公开。
技术特征F:双酚A环氧树脂和芳族环氧树脂(未公开)对比文件未公开双酚A环氧树脂或芳族环氧树脂。(参见技术特征B的引用)对比文件未使用环氧化合物,故未公开该具体种类的环氧树脂,技术特征F未被公开。
技术特征G:其中所述b)具有酸基团的二元醇化合物由下式I表示(直接公开)对比文件公开的二羟甲基丙酸(ジメチロールプロピオン酸)其结构为HO-C(CH₃)(COOH)-CH₂OH,完全符合式I(R1为甲基)。(参见技术特征C的引用以及对二羟甲基丙酸的描述)对比文件明确公开了二羟甲基丙酸,该化合物与目标专利式I(R1=甲基)完全一致,因此技术特征G被直接公开。
技术特征H:其中R1为甲基或乙基(直接公开)对比文件公开了二羟甲基丙酸(R1=甲基)和二羟甲基丁酸(R1=乙基)。(参见技术特征C的引用)对比文件同时公开了R1为甲基和乙基的两种具体化合物,因此技术特征H被直接公开。
技术特征I:其中所述c)具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物由下式II表示(未公开)对比文件未公开任何同时含有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物,更未公开式II所示的化合物。(参见技术特征D的引用)对比文件中均未出现符合式II的化合物,因此技术特征I未被公开。
技术特征J:其中R2为氢或C1-C5烷基(未公开)对比文件未公开式II化合物,故未公开R2的选择。(参见技术特征I的引用)无公开,技术特征J未被公开。
技术特征K:n为1-12的整数(未公开)对比文件未公开式II化合物,故未公开n的范围。(参见技术特征I的引用)无公开,技术特征K未被公开。
技术特征L:还包括(直接公开)对比文件在制备碱溶性聚氨酯树脂(A)时,明确包括使残存的醇性羟基与环状酸酐(e)反应的步骤,即“还包括”环状酸酐的反应。(参见“発明の開示”部分:“環状酸無水物(e)を反応させて得られる”;以及“発明を実施するための最良の形態”部分:“残存するアルコール性水酸基に環状酸無水物(e)を反応”)对比文件公开了在树脂制备中必须包括与环状酸酐反应的步骤,这与目标专利中单体可进一步包括酸酐的技术特征一致。因此,技术特征L被直接公开。
技术特征M:丁二酸酐、戊二酸酐、甲基丁二酸酐、马来酸酐、甲基马来酸酐、邻苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、顺-5-降冰片烯-(内型,外型)-2,3-二羧酸酐,或其组合(直接公开)对比文件具体列举了环状酸酐(e)的实例,包括:无水コハク酸(丁二酸酐)、無水マレイン酸(马来酸酐)、無水フタル酸(邻苯二甲酸酐)、テトラヒドロ無水フタル酸(四氢邻苯二甲酸酐)、ヘキサヒドロ無水フタル酸(六氢邻苯二甲酸酐)等。(参见“発明を実施するための最良の形態”部分:“2塩基酸1無水物の具体例としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられ、好ましくは無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸である。”)对比文件公开的酸酐中的丁二酸酐、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐均明确落入目标专利的M列表中,且目标专利的列表为开放式(“或其组合”),因此该技术特征被对比文件直接公开。

**结论**:对比文件直接公开了技术特征C、G、H、L、M,未公开其他特征。

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