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权利要求与技术特征
权利要求 1
A
用于从入射电磁波形成出射电磁波
B
其中所述光学装置包括至少一个单位单元(UC
C
UC1,UC2)
D
所述单位单元包括至少两个亚波长光学元件(1,2,…,N)
E
其各自属于不同组(MS1,MS2,…,MSn)的亚波长光学元件
F
一组亚波长光学元件以对入射电磁波的光学响应的类型为特征
G
纳米喷射微透镜(21)
H
其能够响应于入射在所述单位单元上的电磁波(20)来选择性地激发属于给定组的所有亚波长光学元件
I
所述亚波长光学元件位于所述纳米喷射微透镜的焦平面中。
权利要求 2
J
其中光学响应的类型属于如下的组
K
该组包括施加至所述入射电磁波的相移
L
所述入射电磁波的谱的至少一部分的振幅变化。
权利要求 3
M
其中所述亚波长光学元件(NP)属于如下的组
N
该组包括金属粒子
O
介质粒子
P
半导体粒子
Q
光学共振器
R
光学天线。
权利要求 4
S
其中所述亚波长光学元件组装在介质基板(10)上或内部。
权利要求 5
T
其中所述纳米喷射微透镜是嵌入在所述基板中
U
由折射率高于所述基板的折射率的介质材料制成的纳米喷射微透镜。
权利要求 6
V
其中所述纳米喷射微透镜放置在所述基板的组装有所述亚波长光学元件的表面下方的一定距离处。
权利要求 7
W
其中所述基板包括充满折射率低于所述基板的折射率的媒介的至少一个腔；并且中所述纳米喷射微透镜是以与所述基板相同的材料形成的
X
具有由所述腔的边缘引起的折射率的阶跃实现的聚焦功能。
权利要求 8
Y
其中所述纳米喷射微透镜附接至所述基板的与所述基板的组装有所述亚波长光学元件的表面相对的表面；并且中所述光学装置包括围绕所述纳米喷射微透镜并且折射率低于所述纳米喷射微透镜的折射率的宿主媒介。
权利要求 9
Z
其中所述纳米喷射微透镜在组装有所述亚波长光学元件的表面上形成所述基板。