非显而易见性评估仅供参考，不构成法律建议。
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对比文件列表
| 编号 | 名称 |
|---|---|
| 0 | 2008-06-26_US2008149572A_发明申请_US20080149572A1 Systems and Methods Using Multiple Solvents for the Removal of Lipids from Fluids.docx |
| 0 | DE60021063T2_Description_20260712_1547_+++A_B_C_I_J_L_X_Y_Z_d_e+++.docx |
| 0 | 2015-03-26_WO2015040049A_发明申请_WO2015040049A1 TREATMENT DEVICE FOR THE SKIN USING RADIO-FREQUENCY ELECTRIC CURRENT_+++A_B_C_E_I_J_M_X_Y_Z_d+++.docx |
| 0 | 2014-12-24_CN104244857A_发明公开_CN104244857A 用于皮肤治疗的方法和系统_+++A_M+++.docx |
| 0 | 2014-02-27_KR1020140023708A_发明公开_KR1020140023708A 패드의 본딩을 테스트할 수 있는 반도체 장치.docx |
| 0 | 2013-05-30_WO2013076714A_发明申请_WO2013076714A1 A SAFE SKIN TREATMENT APPARATUS FOR PERSONAL USE AND METHOD FOR ITS USE_+++A_B_C_I_X_Y_f_k_l_z+++.docx |
| 0 | 2012-08-23_WO2012110996A_发明申请_WO2012110996A2 A METHOD AND APPARATUS FOR COSMETIC SKIN TREATMENT_+++A_B_C_D_E_I_J_K_L_M_R_S_X_Y_Z_f_h+++.docx |
| 0 | 2012-08-16_KR1020120090007A_发明公开_KR1020120090007A 경피적으로 에너지를 전달하는 장치 및 방법_+++A_B_C_E_F_I_J_M_X_Y_Z_d_k_l+++.docx |
| 0 | 2012-02-23_WO2012023129A_发明申请_WO2012023129A1 ELECTROMAGNETIC ENERGY APPLICATOR FOR PERSONAL AESTHETIC SKIN TREATMENT_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_L_M_P_S_X_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2010-09-02_WO2010098784A_发明申请_WO2010098784A1 DEVICES AND METHODS FOR PERCUTANEOUS ENERGY DELIVERY_+++A_B_C_E_F_I_J_L_M_R_X_Y_Z_d_h_k_s+++.docx |
| 0 | 2010-08-26_US2010217255A_发明申请_US20100217255A1 Fluid-Assisted Electrosurgical Device and Methods of Use Thereof_+++A_b_c_l_x_y_z+++.docx |
| 0 | 2009-10-08_US2009250335A_发明申请_US20090250335A1 Method of controlling plasma distribution uniformity by superposition of different constant solenoid fields.docx |
| 0 | 1983-11-22_US4416277A_发明授权_US4416277A Return electrode monitoring system for use during electrosurgical activation_+++A_B_X_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2008-06-18_JP4102031B_发明专利_JP4102031B2 Apparatus and method for treating tissue_+++A_B_C_D_E_I_J_X_Y_Z_k_l_m_r_s+++.docx |
| 0 | 2008-04-03_US2008082097A_发明申请_US20080082097A1 Smart return electrode pad_+++A_B_C_X_Y_Z+++.docx |
| 0 | 2008-02-14_US2008039831A_发明申请_US20080039831A1 System and method for measuring initial tissue impedance_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_X_Y_Z_l_r+++.docx |
| 0 | 2007-07-26_US2007173813A_发明申请_US20070173813A1 System and method for tissue sealing_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Y_k_l+++.docx |
| 0 | 2005-10-16_ES2240078T_发明专利_ES2240078T3 APARATO PARA EL TRATAMIENTO DE TEJIDOS_+++A_B_C_E_I_J_X_Y_Z_d_l+++.docx |
| 0 | 2005-06-29_EP1158919B_发明授权_EP1158919B1 APPARATUS FOR TREATMENT OF TISSUE_+++A_B_C_I_J_X_Y_Z_a_b+++.docx |
| 0 | 2003-02-11_US6518320B_发明授权_US06518320B1 Polyolefin products and process additives therefor having reduced transfer to substrates.docx |
| 0 | 2002-11-07_US2002165531A_发明申请_US20020165531A1 An Electrosurgical System.docx |
| 0 | 2001-12-05_EP1158919A_发明公开_EP1158919A1 APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF TISSUE_+++A_B_C_X_Y_Z_d_e_f_i_j+++.docx |
| 0 | 1993-10-19_None_发明专利_JPH05271456A Polystyrene resin foam sheet and its production.docx |
权利要求1
一种用于使用射频(RF)电流加热皮肤的内部区域(15)的非侵入性皮肤处理装置(100)，所述皮肤处理装置包括，RF处理电极(10)具有限定接触平面的皮肤接触区域；所述RF处理电极(10)被配置和布置成允许RF电流穿过所述皮肤的外表面并且穿过所述内部区域(15)；返回电极(40)被配置和布置成允许RF电流穿过所述内部区域(15)和所述皮肤的外表面；RF发生器(20)被配置和布置成使得在处理期间，RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间，用于加热所述内部区域(15)；阻抗测量电路(35)被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗；以及处理设定限定器(30)被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定；其特征在于，所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25)；所述控制器(25)被编程使得在操作期间，所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前，激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO；其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间，所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定；所述处理设定至少包括以下与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD)；以及与所述RF处理信号相关联的RF电气参数；并且其中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后，所述控制器连续地激活所述处理设定限定器(30)，以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定；配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号；以及激活所述RF发生器(20)，以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD)。
权利要求2
根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其中所述处理持续时间(TD)与所述内部区域(15)中从期望处理结果到不期望的处理结果的过渡相关联。
权利要求3
根据权利要求2所述的皮肤处理装置，其中所述不期望的处理结果与所述内部区域(15)内的凝固或消融相关联。
权利要求4
根据权利要求1‑3中任一项所述的皮肤处理装置，其中所述RF处理电极(10)在所述RF处理电极(10)的所述接触平面中的最大尺寸小于或等于2mm。
权利要求5
根据权利要求1‑3中任一项所述的皮肤处理装置，其中所述处理设定限定器(30)被编程使得所述处理设定限定器(30)根据以下公式确定所述处理设定：J＝K.R.TT.PM.(1–exp(‑TD/TT))；其中J是与期望的处理结果与不期望的处理结果之间的过渡相关联的皮肤损害发作因子；K是常数，单位为每毫米‑毫焦耳，取决于皮肤组织的热和介电特性；R是所述RF处理电极(10)在所述接触平面内的半径，单位为毫米；TT是皮肤组织的热时间常数，单位为毫秒；PM是与所述RF处理信号相关联RF功率，单位为瓦特，等于VM/ZO，其中VM是所述RF处理信号的电压；以及TD是所述处理持续时间，单位为毫秒。
权利要求6
根据权利要求5所述的皮肤处理装置，其中K等于0.38±0.03mm-1 mJ-1。
权利要求7
根据权利要求5所述的皮肤处理装置，其中TT等于40.4±4.8毫秒。
权利要求8
根据权利要求5所述的皮肤处理装置，其中所述皮肤损害发作因子(J)是以下中的一个或多个：J＝1±0.3，当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与非消融性凝固损害的发作相关联时；或者J＝1.7±0.5，当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与消融性损害的发作相关联时。
权利要求9
根据权利要求1‑3和6‑8中任一项所述的皮肤处理装置，其中与所述RF处理信号相关联的所述RF电气参数是以下一个或多个：IM，是所述RF处理信号的电流，单位为安培；VM，是所述RF处理信号的电压，单位为伏特；以及PM，是与所述RF处理信号相关联的功率，单位为瓦特。
权利要求10
根据权利要求1‑3和6‑8中任一项所述的皮肤处理装置，其中所述控制器(25)进一步被编程，使得如果所测量的初始皮肤阻抗ZO大于预定上限或小于预定下限，则所述控制器防止所述RF发生器(20)被激活以施加所述处理信号到所述内部区域(15)。
权利要求11
根据权利要求1‑3和6‑8中任一项所述的皮肤处理装置，其中所述阻抗测量电路(35)进一步被配置和布置成在处理期间测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的实际皮肤阻抗；并且所述控制器(25)被进一步编程，使得如果所述实际皮肤阻抗大于预定的进一步的上限或小于预定的进一步的下限，则所述控制器在处理期间中断所述RF发生器(20)，以防止其施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)。