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1983-11-22_US4416277A_发明授权_US4416277A Return electrode monitoring system for use during electrosurgical activation_+++A_B_X_Y_Z+++.docx
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2001-12-05_EP1158919A_发明公开_EP1158919A1 APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF TISSUE_+++A_B_C_X_Y_Z_d_e_f_i_j+++.docx
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2005-06-29_EP1158919B_发明授权_EP1158919B1 APPARATUS FOR TREATMENT OF TISSUE_+++A_B_C_I_J_X_Y_Z_a_b+++.docx
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2005-10-16_ES2240078T_发明专利_ES2240078T3 APARATO PARA EL TRATAMIENTO DE TEJIDOS_+++A_B_C_E_I_J_X_Y_Z_d_l+++.docx
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2007-07-26_US2007173813A_发明申请_US20070173813A1 System and method for tissue sealing_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Y_k_l+++.docx
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2008-02-14_US2008039831A_发明申请_US20080039831A1 System and method for measuring initial tissue impedance_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_X_Y_Z_l_r+++.docx
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2008-04-03_US2008082097A_发明申请_US20080082097A1 Smart return electrode pad_+++A_B_C_X_Y_Z+++.docx
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2008-06-18_JP4102031B_发明专利_JP4102031B2 Apparatus and method for treating tissue_+++A_B_C_D_E_I_J_X_Y_Z_k_l_m_r_s+++.docx
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2010-08-26_US2010217255A_发明申请_US20100217255A1 Fluid-Assisted Electrosurgical Device and Methods of Use Thereof_+++A_b_c_l_x_y_z+++.docx
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2010-09-02_WO2010098784A_发明申请_WO2010098784A1 DEVICES AND METHODS FOR PERCUTANEOUS ENERGY DELIVERY_+++A_B_C_E_F_I_J_L_M_R_X_Y_Z_d_h_k_s+++.docx
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2012-02-23_WO2012023129A_发明申请_WO2012023129A1 ELECTROMAGNETIC ENERGY APPLICATOR FOR PERSONAL AESTHETIC SKIN TREATMENT_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_L_M_P_S_X_Y_Z+++.docx
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2012-08-16_KR1020120090007A_发明公开_KR1020120090007A 경피적으로 에너지를 전달하는 장치 및 방법_+++A_B_C_E_F_I_J_M_X_Y_Z_d_k_l+++.docx
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2012-08-23_WO2012110996A_发明申请_WO2012110996A2 A METHOD AND APPARATUS FOR COSMETIC SKIN TREATMENT_+++A_B_C_D_E_I_J_K_L_M_R_S_X_Y_Z_f_h+++.docx
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2013-05-30_WO2013076714A_发明申请_WO2013076714A1 A SAFE SKIN TREATMENT APPARATUS FOR PERSONAL USE AND METHOD FOR ITS USE_+++A_B_C_I_X_Y_f_k_l_z+++.docx
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2014-12-24_CN104244857A_发明公开_CN104244857A 用于皮肤治疗的方法和系统_+++A_M+++.docx
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2015-03-26_WO2015040049A_发明申请_WO2015040049A1 TREATMENT DEVICE FOR THE SKIN USING RADIO-FREQUENCY ELECTRIC CURRENT_+++A_B_C_E_I_J_M_X_Y_Z_d+++.docx
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DE60021063T2_Description_20260712_1547_+++A_B_C_I_J_L_X_Y_Z_d_e+++.docx
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1983-11-22_US4416277A_发明授权_US4416277A Return electrode monitoring system for use during electrosurgical activation_+++A_B_X_Y_Z+++.docx

对比文件名称:1983-11-22_US4416277A_发明授权_US4416277A Return electrode monitoring system for use during electrosurgical activation

目标专利名称:1357具有处理设定限定器的使用RF电流的非侵入性皮肤处理装置CN107530544B

模型名称:AI模型

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
**技术特征A:《直接公开》**<br>RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间,用于加热所述内部区域(15)【段落[2]】“电外科发生器10可以包括已知电路,例如射频振荡器12和输出放大器14,它们产生电外科电流。该电流通过主动电极16施加到患者(未示出)。电外科电流通过分裂返回电极18返回发生器10,分裂返回电极18包括电极20和22以及双导体患者电缆24。”对比文件公开了RF电外科电流通过主动电极(相当于RF处理电极)和返回电极施加于患者组织(内部区域),该电流必然引起组织加热,因此技术特征A被直接公开。
**技术特征B:《直接公开》**<br>阻抗测量电路(35)【段落[2]】“患者阻抗检测电路42,其目的是产生电压EREM,该电压是电极20和22之间阻抗的函数。”对比文件明确公开了患者阻抗检测电路,即阻抗测量电路,用于测量阻抗,因此技术特征B被直接公开。
**技术特征C:《未公开》**<br>其被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗【段落[2]】“患者阻抗检测电路42,其目的是产生电压EREM,该电压是电极20和22之间阻抗的函数。”及【段落[2]】“检测电路42将恒定、生理上良性的监测电流(通常140kHz,2mA)施加到导体26,该电流通过电极20和患者,然后通过电极22和导体28返回到电路42。”对比文件中的阻抗测量电路测量的是分裂返回电极的两个部分(电极20和22)之间的阻抗,而非RF处理电极(主动电极16)与返回电极(整体)之间的皮肤阻抗。测量对象不同,且未教导或暗示测量所述特定电极间的阻抗,因此技术特征C未被公开。
**技术特征D:《未公开》**<br>处理设定限定器(30)【段落[2]】“自适应阈值电路44,其确定上述阻抗是否在期望范围内,该范围优选地适应于患者的生理特性。如果不是,则通过线46施加抑制信号以内部禁用发生器。”对比文件的自适应阈值电路仅用于确定阻抗是否在安全范围内并据此禁用发生器,而非确定与RF处理信号相关联的处理设定(如处理持续时间、功率等),功能不同,因此技术特征D未被公开。
**技术特征E:《未公开》**<br>其被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定,其特征在于,所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25)【段落[2]】同上(自适应阈值电路44);【段落[2]】关于利用微处理器实现阈值功能的描述。对比文件未公开确定处理设定的限定器,也未明确公开与处理设定限定器分开的控制器。自适应阈值电路的功能仅限于监测,不涉及处理设定,因此技术特征E未被公开。
**技术特征F:《未公开》**<br>所述控制器(25)被编程使得在操作期间,所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前,激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO【段落[2]】“监测返回电极电路不仅可以在电外科激活之前进行,而且可以在这种激活期间继续进行。”对比文件公开了在电外科激活前进行阻抗监测,但监测的是返回电极两部分之间的阻抗,而非RF处理电极与返回电极之间的初始皮肤阻抗ZO。测量对象不同,且未提及根据初始阻抗确定处理设定,因此技术特征F未被公开。
**技术特征G:《未公开》**<br>其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间,所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定,所述处理设定至少包括以下:与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD)无直接对应内容。对比文件未公开根据初始皮肤阻抗和电极尺寸确定处理设定的任何内容,也未公开处理持续时间(TD)的概念,因此技术特征G未被公开。
**技术特征H:《未公开》**<br>与所述RF处理信号相关联的RF电气参数;并且中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后,所述控制器连续地:激活所述处理设定限定器(30),以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定无直接对应内容。对比文件未公开RF电气参数作为处理设定的一部分,也未公开控制器在测量初始阻抗后激活处理设定限定器确定处理设定的顺序,因此技术特征H未被公开。
**技术特征I:《未公开》**<br>配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号无直接对应内容。对比文件未公开根据处理设定配置RF发生器,发生器输出由用户控制,而非根据预设处理设定,因此技术特征I未被公开。
**技术特征J:《未公开》**<br>激活所述RF发生器(20),以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD)无直接对应内容。对比文件未公开施加RF处理信号持续预设的处理持续时间,电外科激活时间由外科医生控制,因此技术特征J未被公开。
**技术特征K:《未公开》**<br>其中所述处理持续时间(TD)与所述内部区域(15)中从期望处理结果到不期望的处理结果的过渡相关联无直接对应内容。对比文件未涉及处理结果过渡的概念,因此技术特征K未被公开。
**技术特征L:《未公开》**<br>其中所述不期望的处理结果与所述内部区域(15)内的凝固或消融相关联无直接对应内容。对比文件未涉及不期望的处理结果与凝固或消融的关联,因此技术特征L未被公开。
**技术特征M:《未公开》**<br>其中所述RF处理电极(10)在所述RF处理电极(10)的所述接触平面中的最大尺寸小于或等于2mm无直接对应内容。对比文件未公开任何电极尺寸的数值范围,因此技术特征M未被公开。
**技术特征N:《未公开》**<br>其中所述处理设定限定器(30)被编程使得所述处理设定限定器(30)根据以下公式确定所述处理设定:J=K.R.TT.PM.(1–exp(‑TD/TT)),其中:J是与期望的处理结果与不期望的处理结果之间的过渡相关联的皮肤损害发作因子无直接对应内容。对比文件未公开任何公式或皮肤损害发作因子的概念,因此技术特征N未被公开。
**技术特征O:《未公开》**<br>K是常数,单位为每毫米‑毫焦耳,取决于皮肤组织的热和介电特性无直接对应内容。对比文件未公开常数K,因此技术特征O未被公开。
**技术特征P:《未公开》**<br>R是所述RF处理电极(10)在所述接触平面内的半径,单位为毫米无直接对应内容。对比文件未公开电极半径作为参数,因此技术特征P未被公开。
**技术特征Q:《未公开》**<br>TT是皮肤组织的热时间常数,单位为毫秒无直接对应内容。对比文件未公开热时间常数,因此技术特征Q未被公开。
**技术特征R:《未公开》**<br>2PM是与所述RF处理信号相关联RF功率,单位为瓦特,等于VM/ZO,其中VM是所述RF处理信号的电压无直接对应内容。对比文件未公开功率与电压和阻抗的关系式,因此技术特征R未被公开。
**技术特征S:《未公开》**<br>TD是所述处理持续时间,单位为毫秒无直接对应内容。对比文件未公开处理持续时间参数,因此技术特征S未被公开。
**技术特征T:《未公开》**<br>其中K等于0.38±0.03mm‑1mJ‑1无直接对应内容。对比文件未公开K的具体数值,因此技术特征T未被公开。
**技术特征U:《未公开》**<br>其中TT等于40.4±4.8毫秒无直接对应内容。对比文件未公开TT的具体数值,因此技术特征U未被公开。
**技术特征V:《未公开》**<br>其中所述皮肤损害发作因子(J)是以下中的一个或多个:J=1±0.3,当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与非消融性凝固损害的发作相关联时无直接对应内容。对比文件未公开J的数值或与非消融性凝固的关联,因此技术特征V未被公开。
**技术特征W:《未公开》**<br>者J=1.7±0.5,当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与消融性损害的发作相关联时无直接对应内容。对比文件未公开J的数值或与消融的关联,因此技术特征W未被公开。
**技术特征X:《直接公开》**<br>其中与所述RF处理信号相关联的所述RF电气参数是以下一个或多个:IM,是所述RF处理信号的电流,单位为安培【段落[2]】“电外科发生器10可以包括已知电路,例如射频振荡器12和输出放大器14,它们产生电外科电流。”对比文件明确公开了电外科电流,即RF处理信号的电流参数,因此技术特征X被直接公开。
**技术特征Y:《直接公开》**<br>VM,是所述RF处理信号的电压,单位为伏特【段落[2]】“电外科发生器10可以包括已知电路,例如射频振荡器12和输出放大器14,它们产生电外科电流。” 电外科电流必然伴随电压。对比文件公开了电外科发生器产生RF电压,因此技术特征Y被直接公开。
**技术特征Z:《直接公开》**<br>PM,是与所述RF处理信号相关联的功率,单位为瓦特【段落[2]】“电外科发生器10可以包括已知电路,例如射频振荡器12和输出放大器14,它们产生电外科电流。” 电外科电流的功率是固有参数。对比文件公开了电外科发生器产生RF功率,因此技术特征Z被直接公开。

<<<A>>><<<B>>><<<X>>><<<Y>>><<<Z>>>

权利要求与技术特征

A RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间,用于加热所述内部区域(15)
B 阻抗测量电路(35)
C 其被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗
D 处理设定限定器(30)
E 其被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定,其特征在于,所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25)
F 所述控制器(25)被编程使得在操作期间,所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前,激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO
G 其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间,所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定,所述处理设定至少包括以下:与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD)
H 与所述RF处理信号相关联的RF电气参数;并且中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后,所述控制器连续地:激活所述处理设定限定器(30),以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定
I 配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号
J 激活所述RF发生器(20),以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD)
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