对比文件名称：2005-03-10_JP2005062187A_发明专利_JP2005062187A Array for detecting biomolecule by multiplex surface plasmon resonance
目标专利名称：1268用于在小样本体积中进行光学检测的载体CN101990634B
本次调用的模型名称：未指定（基于当前对话的通用模型）
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| 技术特征A：载体（11），其中所述载体包括在其表面（12）上的光学结构（50） ——《直接公开》 | 对比文件第[2]段：“基板是提供对于本发明SPR分析所期望的光的透明性的材料（例如，介电材料）。”以及“图3A至图3C示出了光衰减结构的最基本格式。这些采取凸起结构50的形式。” | 对比文件公开了基板（相当于载体）和在其表面上的凸起结构（相当于光学结构），虽然该结构功能是光衰减，但特征A未限定功能，因此本领域技术人员可以毫无疑义地确定对比文件公开了载体表面具有光学结构的技术特征。 |
| 技术特征B：光学结构（50）具有至少一个激励刻面（53）和至少一个收集刻面（54） ——《未公开》 | 对比文件未公开“激励刻面”和“收集刻面”的概念，也未公开具有这种功能的刻面。 | 对比文件中的光衰减结构虽然具有侧面，但未区分为激励和收集刻面，且其功能是使光衰减，与目标专利中用于折射和收集光的刻面不同，本领域技术人员不能从对比文件直接或合理推断出该特征。 |
| 技术特征C：该至少一个激励刻面（53）和至少一个收集刻面（54）基本上在中间相遇并且形成凹槽 ——《未公开》 | 对比文件中的结构是凸起的，不是凹槽。 | 对比文件公开的是凸起结构，而非凹槽，因此没有公开激励刻面和收集刻面形成凹槽的特征。 |
| 技术特征D：光学结构（50）能够在激励刻面（54）处将输入光束（L1）折射到邻近样本室（2）中 ——《未公开》 | 对比文件第[2]段：“光束4进入阵列基板8，通过基板，在金属涂层10处发生内部全反射。” | 对比文件基于SPR原理，输入光在金属表面反射，并未折射到样本室中，因此未公开该特征。 |
| 技术特征E：撞击到样本（1，1’）上 ——《未公开》 | 对比文件第[2]段：“通过倏逝波与表面附近的样本相互作用。” | 目标专利中，输入光束通过折射进入样本室直接撞击样本；对比文件中，光照通过倏逝波与样本作用，机制不同，因此未公开。 |
| 技术特征F：能够同时从样本室（2）收集在收集刻面（54）处折射的输出光束（L2，L2’） ——《未公开》 | 对比文件第[2]段：“反射光作为信号24被检测。” | 对比文件检测的是全内反射光，没有收集折射输出光束，因此未公开。 |
| 技术特征G：输出光束包括源于输入光束（L1）的光 ——《直接公开》 | 对比文件第[2]段：“来自光源2的光束4通过棱镜6，进入阵列基板8，被金属涂层10反射，作为信号24被检测。” | 对比文件明确检测反射光，该反射光源于输入光束，因此输出光束包括源于输入光束的光被直接公开。 |
| 技术特征H：所收集的作为输出光束（L2，L2’）的光已行经样本室（2）小于1000μm ——《未公开》 | 对比文件未提及光行经样本室的距离。 | 对比文件基于SPR，光并不在样本室中传播，因此没有公开该特征。 |
| 技术特征I：优选小于100μm ——《未公开》 | 无相关公开。 | 对比文件未公开任何关于光行经距离的优选范围。 |
| 技术特征J：最优选小于10μm ——《未公开》 | 无相关公开。 | 对比文件未公开任何关于光行经距离的优选范围。 |
| 技术特征K：光学结构（50）包括至少一个激励刻面（53）和至少一个对应的收集刻面（54） ——《未公开》 | 同特征B，未公开激励刻面和收集刻面。 | 同特征B，未公开。 |
| 技术特征L：经由激励刻面（53）输入光束（L1）的光能够发射到样本室（2）中 ——《未公开》 | 对比文件没有光从刻面发射到样本室的过程。 | 对比文件的光在金属表面反射，不发射到样本室，因此未公开。 |
| 技术特征M：经由收集刻面（54）能够重新收集所发射的光 ——《未公开》 | 对比文件没有收集刻面及重新收集发射光的过程。 | 对比文件未公开该特征。 |
| 技术特征N：输出光束（L2）能够包括来自在样本室（2）中被输入光束（L1）激发的光致发光剂的光 ——《未公开》 | 对比文件未提及光致发光。 | 对比文件基于SPR检测，不涉及光致发光，因此未公开。 |
| 技术特征O：光学结构（50）包括在载体（11）的表面（12）中的至少一个孔或者凹槽（52） ——《未公开》 | 对比文件公开的是凸起结构，不是孔或凹槽。 | 对比文件中的光衰减结构是凸起的，而非凹槽，因此未公开。 |
| 技术特征P：孔或者凹槽（52）的横截面具有两个相反倾斜的、相对刻面（53，54） ——《未公开》 | 对比文件三角形凸起具有相反倾斜的侧面，但那是凸起，不是凹槽。 | 对比文件未公开凹槽，因此未公开凹槽横截面具有两个相反倾斜相对刻面的特征。 |
| 技术特征Q：横截面是三角形横截面 ——《未公开》 | 对比文件第[2]段：“图4A示出了具有相对于基板表面成角度的边缘的三角形截面形状60。” | 虽然对比文件公开了三角形截面，但该三角形截面是凸起结构，而特征Q从属于特征O，特指凹槽的三角形横截面，因此未公开。 |
| 技术特征R：横截面是梯形横截面 ——《未公开》 | 对比文件未公开梯形横截面。 | 对比文件未公开任何梯形横截面结构。 |
| 技术特征S：载体（11）包括接触表面（12） ——《直接公开》 | 对比文件第[2]段：“基板8具有表面上的金属涂层10。” | 对比文件公开了基板（载体）具有表面，该表面用于接触样本，因此直接公开。 |
| 技术特征T：接触表面具有带有光学结构（50）的多个独立研究区域（13，13a，13b，13c） ——《未公开》 | 对比文件第[2]段：“传感器区域32设置在基板上，分离区域34位于传感器区域之间，光衰减结构设置在分离区域。” | 对比文件中，传感器区域（研究区域）没有光学结构，光学结构在分离区域，因此未公开接触表面具有带有光学结构的多个独立研究区域。 |
| 技术特征U：光学结构（50）包括用于样本的目标成分（1，1’）的结合部位 ——《未公开》 | 对比文件第[2]段：“探针22位于金属涂层10上的传感器区域。” | 对比文件的结合部位在金属膜上，不在光学结构上，因此未公开。 |
<<<A>>><<<G>>><<<S>>>