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对比文件列表
1998-05-26_US5757149A_发明授权_US5757149A Drive control apparatus_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Q_R_S_U_V_W_k_l+++.docx
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2000-09-05_US6114670A_发明授权_US6114670A Nonlinear feedforward control for ramp following and overshoot minimization_+++A_B_C_D_E_R_f_q+++.docx
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2001-07-17_US6260282B_发明授权_US06260282B1 Stage control with reduced synchronization error and settling time_+++A_B_C_D_E_F_R_q+++.docx
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2002-03-12_US6355994B_发明授权_US06355994B1 Precision stage_+++A_B_C_D_E_F_q_r+++.docx
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2003-03-06_US2003043354A_发明申请_US20030043354A1 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_C_E_F_I_R_d_h_q_u_v_w+++.docx
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2004-09-02_WO2004074951A_发明申请_WO2004074951A1 METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING A PHYSICAL QUANTITY HAVING A PROGRAMMED VARIATION WITH A FEED-FORWARD CONTROL_+++A_B_C_E_F_I_Q_R_U_W_d_v+++.docx
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2004-11-24_EP1480093A_发明公开_EP1480093A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby_+++R_a_b_c_d_e_f+++.docx
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2004-12-02_US2004238758A_发明申请_US20040238758A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_D_E_F_R_c_q+++.docx
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2005-06-07_US6904422B_发明授权_US06904422B2 Adaptive control system having direct output feedback and related apparatuses and methods_+++A_B_C_D_F_e_q_r+++.docx
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2005-09-27_US6949844B_发明授权_US06949844B2 High-speed precision positioning apparatus_+++A_D_E_F_b_c_q_r+++.docx
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2005-10-20_US2005231706A_发明申请_US20050231706A1 Feedforward control with reduced learning time for lithographic system to improve throughput and accuracy_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_K_L_Q_R+++.docx
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2005-11-17_JP2005322720A_发明专利_JP2005322720A Stage controlling apparatus and method therefor, exposure apparatus and method therefor, and device manufacturing method_+++A_B_C_D_E_F_I_J_K_L_Q_R_u_v_w+++.docx
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2001-07-17_US6260282B_发明授权_US06260282B1 Stage control with reduced synchronization error and settling time_+++A_B_C_D_E_F_R_q+++.docx

对比文件名称:2001-07-17_US6260282B_发明授权_US06260282B1 Stage control with reduced synchronization error and settling time

目标专利名称:1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B

本次调用的模型名称:DeepSeek

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译)公开性论述
技术特征A:从而通过设定点分布轮廓移动一个部件<br>《直接公开》原文:“A reticle fine stage 126 is positioned on reticle coarse stage 116 and carries a reticle 127... To produce an acceptable exposure image, reticle fine stage 126 moves with wafer stage 106 within a desired synchronization range... Control system 200 includes a trajectory command circuit 202, which outputs a command trajectory signal for the desired positions of wafer stage 106 and reticle fine stage 126.”(详细描述部分)<br>翻译:精台126位于粗台116上并承载掩模127……为了产生可接受的曝光图像,精台126与晶片台106在期望同步范围内移动……控制系统200包括轨迹命令电路202,其输出晶片台106和精台126期望位置的命令轨迹信号。对比文件明确公开了通过轨迹命令信号(即设定点分布轮廓)移动精台(部件),因此技术特征A被直接公开。
技术特征B:所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态<br>《直接公开》原文:“a command trajectory signal for the desired positions of wafer stage 106 and reticle fine stage 126.”(详细描述部分)<br>翻译:晶片台106和精台126期望位置的命令轨迹信号。轨迹命令信号包含多个期望位置(目标状态),因此设定点分布轮廓包括多个目标状态,特征B直接公开。
技术特征C:每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的<br>《直接公开》原文:“The command trajectory signals are typically digital signals.”(详细描述部分)<br>翻译:命令轨迹信号通常是数字信号。数字信号在离散时间点提供,每个目标状态对应特定的目标时间,因此特征C直接公开。
技术特征D:所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件<br>《直接公开》原文:“reticle fine stage control circuit 204 also includes a feedforward loop 231, including a differentiation circuit 230, a feedforward gain circuit 232, and a force coordinate transformation circuit 234. Feedforward loop 231 receives fine stage trajectory command signal via line 218. The fine stage trajectory command signal is differentiated twice... thus generating an acceleration signal. The acceleration signal is received by a feedforward gain circuit 232, which generates a gain in the acceleration signal. Feedforward gain circuit 232 thus generates a feedforward signal representing the desired feedforward acceleration of reticle fine stage 126.”(详细描述部分)<br>翻译:精台控制电路还包括前馈回路231,包括微分电路230、前馈增益电路232和力坐标变换电路234。前馈回路231通过线路218接收精台轨迹命令信号,该信号经两次微分产生加速度信号,加速度信号由前馈增益电路232生成增益,从而产生表示精台期望前馈加速度的前馈信号。对比文件公开了使用前馈控制系统(前馈回路)和从轨迹命令导出的前馈数据(加速度信号)来移动部件,因此特征D直接公开。
技术特征E:在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态<br>《直接公开》原文:“The position of reticle fine stage 126, shown in FIG. 1, is determined by an interferometer measurement system using planar mirror 136 and corner cubed mirrors 138 and 140.”(详细描述部分)<br>翻译:精台126的位置通过使用平面镜136和角隅棱镜138、140的干涉仪测量系统确定。对比文件公开了在移动期间测量精台位置(状态),因此特征E直接公开。
技术特征F:比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态,以获得一组误差<br>《直接公开》原文:“The fine stage trajectory command signal is combined with a measured reticle fine stage position via position feedback loop 219. Thus, the measured fine stage position signal is combined with the fine stage trajectory command signal thereby producing a synchronous error signal. The synchronous error signal reflects the difference between the fine stage position signal and the fine stage trajectory command signal, which is the synchronous error ΔR between reticle fine stage 126 and the proportional position of wafer stage 106.”(详细描述部分)<br>翻译:精台轨迹命令信号与测量的精台位置通过位置反馈回路219结合,从而产生同步误差信号,该信号反映精台位置与轨迹命令信号之间的差异,即精台126与晶片台106比例位置之间的同步误差ΔR。对比文件公开了比较测量位置(测量的状态)与轨迹命令(目标状态)以获得误差(同步误差),因此特征F直接公开。
技术特征G:用非线性滤波器滤波所述这组误差<br>未公开对比文件未公开对误差组应用非线性滤波器的内容。控制器滤波器电路222使用比例增益、饱和限制积分和超前滤波器,但这是用于反馈控制律,并非用于滤波误差组以产生前馈数据,且饱和限制积分器不是直接对误差本身进行幅度依赖滤波。对比文件没有公开任何用于滤波误差组以产生改进前馈数据的非线性滤波器,因此特征G未公开。
技术特征H:根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据<br>未公开对比文件未公开根据滤波误差产生前馈数据。前馈数据来自轨迹加速度,与误差无关。对比文件的前馈数据由轨迹命令微分得到,而非基于滤波误差,因此特征H未公开。
技术特征I:所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件<br>未公开对比文件的前馈数据用于减少稳定时间,但并非通过本发明的迭代学习方法获得的“改进的”前馈数据,且没有公开该前馈数据是经过改进的。特征I涉及通过本发明方法产生的改进前馈数据,对比文件没有公开该改进过程,因此未公开。
技术特征J:所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e)<br>未公开对比文件未公开任何迭代学习或重复步骤的过程。对比文件没有迭代使用前馈数据并重复移动、测量、比较、滤波、产生改进前馈数据的步骤,因此特征J未公开。
技术特征K:直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止<br>未公开对比文件未公开阈值条件判断。对比文件没有公开基于误差满足阈值停止迭代的条件,因此特征K未公开。
技术特征L:输出满足阈值条件的改进的前馈数据<br>未公开对比文件未公开输出步骤。对比文件没有公开输出满足阈值的前馈数据,因此特征L未公开。
技术特征M:其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度<br>未公开对比文件未公开误差幅度依赖滤波。饱和限制积分器依赖于误差积分的幅度,但并非直接对误差进行幅度滤波。特征M要求滤波取决于误差幅度,对比文件没有公开这种滤波,因此未公开。
技术特征N:其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量<br>未公开对比文件未公开此种抑制特性。饱和限制积分器抑制大幅度积分值,而非小幅度误差。特征N的抑制特性与对比文件相反,因此未公开。
技术特征O:其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带<br>未公开对比文件未公开频带分解。对比文件没有涉及误差信号的频带分解,因此特征O未公开。
技术特征P:对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作<br>未公开对比文件未公开。对比文件没有公开每个频带单独滤波,因此特征P未公开。
技术特征Q:其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组<br>《隐含公开》对比文件未明确说明测量时间与目标时间的对应关系,但本领域技术人员可合理推断。对比文件中轨迹命令为数字信号,在离散时间点定义,而测量系统通常与轨迹命令同步采样,因此测量时间对应于至少部分目标时间,特征Q被隐含公开。
技术特征R:其中所述目标状态包括以下所述的至少一个:所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度<br>《直接公开》原文:“The fine stage trajectory command signal provides the desired position of reticle fine stage 126, as opposed to a desired velocity or acceleration.”(详细描述部分)<br>翻译:精台轨迹命令信号提供精台126的期望位置,而不是期望速度或加速度。<br>另外,前馈回路使用加速度信号(见特征D引用)。对比文件公开了目标位置(轨迹命令),并且通过前馈加速度信号隐含了目标加速度,速度也可由位置微分得到,因此目标状态包括位置、速度、加速度中的至少一个,特征R直接公开。
技术特征S:其中对于所述滤波器进行配置<br>未公开对比文件未公开非线性滤波器的配置。对比文件没有公开任何用于滤波误差的非线性滤波器,因此特征S未公开。
技术特征T:使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分<br>未公开对比文件未公开噪声带概念。对比文件没有公开具有噪声带特性的滤波器,因此特征T未公开。
技术特征U:其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示<br>未公开对比文件未公开误差以阵列表示。对比文件没有公开误差数据点的阵列形式,因此特征U未公开。
技术特征V:其中0≤i≤n<br>未公开对比文件未公开该范围。对比文件没有公开i的范围,因此特征V未公开。
技术特征W:n是组中的采样数<br>未公开对比文件未公开采样数n。对比文件没有公开采样数,因此特征W未公开。
技术特征X:所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示<br>未公开对比文件未公开该矩阵。对比文件没有公开幅度依赖的滤波器矩阵,因此特征X未公开。
技术特征Y:步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积<br>未公开对比文件未公开该乘积。对比文件没有公开步骤(d)的乘积操作,因此特征Y未公开。
技术特征Z:其中所述的Φ(ey(i))的定义如下:……<br>未公开对比文件未公开该数学定义。对比文件没有公开Φ(ey(i))的具体定义,包括φ(ey(i))和att(ey(i))的公式,因此特征Z未公开。

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