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对比文件列表
1996-05-28_US5521036A_发明授权_US5521036A Positioning method and apparatus_+++A_B_C_E_F_R_q+++.docx
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1998-05-26_US5757149A_发明授权_US5757149A Drive control apparatus_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Q_R_S_U_V_W_k_l+++.docx
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2000-09-05_US6114670A_发明授权_US6114670A Nonlinear feedforward control for ramp following and overshoot minimization_+++A_B_C_D_E_R_f_q+++.docx
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2001-07-17_US6260282B_发明授权_US06260282B1 Stage control with reduced synchronization error and settling time_+++A_B_C_D_E_F_R_q+++.docx
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2002-03-12_US6355994B_发明授权_US06355994B1 Precision stage_+++A_B_C_D_E_F_q_r+++.docx
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2002-12-11_EP1265106A_发明公开_EP1265106A2 Lithographic apparatus and device manufacturing method_+++A_B_C_E_F_I_R_q+++.docx
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2003-03-06_US2003043354A_发明申请_US20030043354A1 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_C_E_F_I_R_d_h_q_u_v_w+++.docx
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2004-09-02_WO2004074951A_发明申请_WO2004074951A1 METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING A PHYSICAL QUANTITY HAVING A PROGRAMMED VARIATION WITH A FEED-FORWARD CONTROL_+++A_B_C_E_F_I_Q_R_U_W_d_v+++.docx
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2004-12-02_US2004238758A_发明申请_US20040238758A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_D_E_F_R_c_q+++.docx
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2005-05-12_JP2005123220A_发明专利_JP2005123220A Stage control method, exposure method, stage control unit, exposure device, and device manufacturing method_+++A_B_C_E_F_Q_R+++.docx
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2005-06-07_US6904422B_发明授权_US06904422B2 Adaptive control system having direct output feedback and related apparatuses and methods_+++A_B_C_D_F_e_q_r+++.docx
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2005-09-27_US6949844B_发明授权_US06949844B2 High-speed precision positioning apparatus_+++A_D_E_F_b_c_q_r+++.docx
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2005-10-20_US2005231706A_发明申请_US20050231706A1 Feedforward control with reduced learning time for lithographic system to improve throughput and accuracy_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_K_L_Q_R+++.docx
2026-07-22 17:42
2005-11-17_JP2005322720A_发明专利_JP2005322720A Stage controlling apparatus and method therefor, exposure apparatus and method therefor, and device manufacturing method_+++A_B_C_D_E_F_I_J_K_L_Q_R_u_v_w+++.docx
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1998-05-26_US5757149A_发明授权_US5757149A Drive control apparatus_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Q_R_S_U_V_W_k_l+++.docx

对比文件名称:1998-05-26_US5757149A_发明授权_US5757149A Drive control apparatus

目标专利名称:1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B

本次调用的模型名称:DeepSeek Chat

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(翻译)公开性论述
技术特征A:从而通过设定点分布轮廓移动一个部件。**直接公开**第二实施例部分(图12及其说明):目标状态量生成单元41生成相对于晶圆台43的目标状态量(即目标位置),并供给晶圆控制系统46;同时,目标状态量转换单元48将目标状态量乘以1/β,生成相对于掩模台45的目标状态量,供给掩模控制系统47。对比文件明确公开了通过目标位置(设定点分布轮廓)移动部件(晶圆台/掩模台),与目标专利特征A的实质相同,因此直接公开。
技术特征B:所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态。**直接公开**同上,目标状态量生成单元生成一系列目标位置,对应不同时间点,形成设定点分布轮廓。对比文件公开了由多个目标状态(位置)构成的设定点分布轮廓,因此直接公开。
技术特征C:每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的。**直接公开**同上,目标状态量随时间变化,在每个采样时刻生成对应的目标状态。对比文件的目标状态是时间序列,每个目标状态对应一个特定时间点,因此直接公开。
技术特征D:所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件。**直接公开**第二实施例(图7、图8及说明):实际驱动时,查找表查找单元202根据位置信息p从查找表203'中读取校正值k,并加到控制偏差计算结果上,然后作为操作量输入至D/A转换器207,驱动多相线性电机。该校正值相当于前馈数据,控制系统包含查找表补偿,可视为前馈控制系统。对比文件公开了使用查找表(即第一组前馈数据)移动部件,该查找表提供的校正值用于前馈补偿,因此直接公开。
技术特征E:在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态。**直接公开**第二实施例(图8说明):微处理器206以预定周期(1ms)存储可动构件的位置Pn和偏差En。对比文件在移动期间以多个时间点测量位置状态,直接公开。
技术特征F:比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态,以获得一组误差。**直接公开**第二实施例:控制运算单元204计算目标位置与实际位置的偏差,即控制偏差En。对比文件直接比较测量状态与目标状态获得误差,直接公开。
技术特征G:用非线性滤波器滤波所述这组误差。**未公开**对比文件使用线性相位FIR滤波器(公式3),未提及任何非线性滤波器。对比文件仅公开线性滤波器,没有非线性滤波的教导或暗示,因此未公开。
技术特征H:根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据。**直接公开**第二实施例(图8说明):经过滤波的位置序列PFn和偏差序列EFn被用于形成查找表Km,该查找表提供校正值,即改进的前馈数据。对比文件根据滤波后的数据形成查找表,该查找表用于后续补偿,相当于改进的前馈数据,直接公开。
技术特征I:所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件。**直接公开**第二实施例(图9及其说明):使用查找表后,位置偏差被明显抑制(虚线比点线更小,三次修正后实线更优)。对比文件通过使用查找表提高了控制精度,直接公开。
技术特征J:所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e)。**直接公开**第三实施例(图10说明):重复形成新查找表并叠加到旧表,实现迭代改进。对比文件公开了迭代过程,每次使用更新的查找表(即改进的前馈数据)重复移动、测量、比较、滤波、产生步骤,直接公开。
技术特征K:直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止。**隐含公开**第三实施例未明确停止条件,但重复迭代直至获得满意的偏差抑制效果。本领域技术人员可合理推断出基于误差阈值(如偏差小于某值)作为迭代停止条件,因此隐含公开。
技术特征L:输出满足阈值条件的改进的前馈数据。**隐含公开**第三实施例最终输出叠加后的查找表作为最终补偿数据。当满足停止条件时,输出最终查找表,隐含公开。
技术特征M:其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度。**未公开**对比文件滤波器是线性,与幅度无关。对比文件未公开任何幅度依赖的滤波,因此未公开。
技术特征N:其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量。**未公开**同上。未公开。
技术特征O:其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带。**未公开**对比文件使用单一FIR滤波器,未分解频带。未公开。
技术特征P:对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作。**未公开**同上。未公开。
技术特征Q:其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组。**直接公开**第二实施例:每个采样周期(1ms)测量位置,目标位置也按相同周期生成。对比文件测量时间与目标时间序列对应,直接公开。
技术特征R:其中所述目标状态包括以下所述的至少一个:所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度。**直接公开**第一实施例:目标状态量生成单元生成目标位置;第二实施例:恒速运动,目标速度恒定。对比文件公开了目标位置,也隐含了目标速度,因此直接公开。
技术特征S:其中对于所述滤波器进行配置。**直接公开**第二实施例:滤波器为50阶FIR滤波器,截止频率设为20Hz,进行了明确配置。对比文件对滤波器进行了具体配置,直接公开。
技术特征T:使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分。**未公开**对比文件滤波器是低通滤波器,基于频率而非幅度,未涉及幅度噪声带。未公开幅度依赖的噪声带。
技术特征U:其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示。**直接公开**第二实施例:控制偏差En存储为时间序列数组。对比文件使用数组表示误差,直接公开。
技术特征V:其中0≤i≤n。**直接公开**数组索引通常从0开始,本领域技术人员公知,对比文件隐含公开了索引范围。对比文件使用数组,本领域技术人员可毫无疑义地确定索引范围,直接公开。
技术特征W:n是组中的采样数。**直接公开**第二实施例:存储了n个采样点(如按1ms周期存储)。对比文件明确采样数量,直接公开。
技术特征X:所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示。**未公开**对比文件使用线性FIR滤波器,非矩阵形式,且不依赖幅度。未公开。
技术特征Y:步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积。**未公开**同上。未公开。
技术特征Z:其中所述的Φ(ey(i))的定义如下:...。**未公开**对比文件无任何类似定义。未公开。

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