**对比文件名称**：2005-05-12_JP2005123220A_发明专利_JP2005123220A Stage control method, exposure method, stage control unit, exposure device, and device manufacturing method
**目标专利名称**：1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B
**本次调用的模型名称**：无（默认模型）
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### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（日文原文及中文翻译） | 公开性论述 | ||||
| 技术特征A：从而通过设定点分布轮廓移动一个部件 | 【第2段】“速度プロファイル生成部５１は、…速度プロファイルを生成する。” 以及“ウエハステージＷＳＴを所定の走査速度で走査する”。<br>中文翻译：“速度曲线生成部51生成速度曲线……以预定的扫描速度扫描晶片台。” | 直接公开。对比文件公开了通过速度曲线（即设定点分布轮廓）移动晶片台，该速度曲线类似目标专利中用于控制部件移动的设定点分布轮廓，作用相同，均用于控制部件按照预定轨迹运动。 | ||||
| 技术特征B：所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态 | 【第2段】图4所示的速度曲线、加速度曲线及位置指令描述，以及“速度指令は、…サンプリング周期Ｔs毎に作成され、出力される”。<br>中文翻译：“速度指令……在每个采样周期Ts生成并输出。” | 直接公开。对比文件的速度曲线包含每个时间点的目标速度，位置指令代表目标位置，加速度曲线代表目标加速度，因此公开了设定点分布轮廓包括多个目标状态（速度、位置、加速度）。 | ||||
| 技术特征C：每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的 | 【第2段】“サンプリング周期Ｔs毎に” 明确速度指令在每个采样周期给出，对应特定时间点。<br>中文翻译：“每个采样周期Ts。” | 直接公开。对比文件中每个目标速度、位置均在对应采样时间点获得，与目标专利中每个目标状态在对应目标时间获得的特征相同。 | ||||
| 技术特征D：所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件 | 对比文件全文未提及“前馈数据”或“前馈控制系统”。【第2段】“ウエハステージ制御部５２は、…比例＋積分制御動作を行うＰＩコントローラ”。<br>中文翻译：“晶片台控制部52……进行比例+积分控制动作的PI控制器。” | 未公开。对比文件采用反馈控制（PI控制器），未使用前馈数据或前馈控制系统，其控制原理与目标专利的前馈控制不同。 | ||||
| 技术特征E：在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态 | 【第2段】“ウエハ干渉計４８の計測値” 以及“減算器７３には、ウエハ干渉計４８から入力されたウエハステージＷＳＴの位置の計測値（現在位置）…もサンプリング周期Ｔs毎に入力されており”。<br>中文翻译：“晶片干涉仪的测量值；减法器73也接收来自晶片干涉仪48的晶片台当前位置测量值……每个采样周期Ts输入。” | 直接公开。对比文件通过干涉仪在每个采样周期测量晶片台的位置，公开了在移动期间多个时间点测量部件状态的步骤。 | ||||
| 技术特征F：比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态，以获得一组误差 | 【第2段】“減算器７３は、ウエハステージＷＳＴに対する位置指令（ＷＸ B ' ，ＷＸ M ' ，ＷＹ L ' ，ＷＹ R ' ）と現在位置（ＷＸ B ，ＷＸ M ，ＷＹ L ，ＷＹ R ）との偏差（ΔＷＸ B ，ΔＷＸ M ，ΔＷＹ L ，ΔＷＹ R ）をサンプリング周期Ｔs毎に計算して、出力する。”<br>中文翻译：“减法器73计算晶片台的位置指令与当前位置之间的偏差……每个采样周期Ts输出。” | 直接公开。对比文件明确比较目标位置（来自速度曲线积分）与测量位置，获得偏差（误差），公开了获得一组误差的步骤。 | ||||
| 技术特征G：用非线性滤波器滤波所述这组误差 | 对比文件全文未提及任何滤波器，尤其未提及非线性滤波器。误差直接用于PI控制器。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开任何形式的滤波器，更未涉及非线性滤波。 | ||||
| 技术特征H：根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据 | 对比文件全文未提及“前馈数据”或“改进的前馈数据”。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开基于滤波误差产生前馈数据的步骤。 | ||||
| 技术特征I：所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件 | 对比文件全文未提及改进的前馈数据及其用途。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开前馈控制系统的改进数据。 | ||||
| 技术特征J：所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e) | 对比文件全文未提及迭代学习或重复步骤。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开迭代重复过程。 | ||||
| 技术特征K：直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止 | 对比文件全文未提及阈值条件。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开基于误差阈值停止迭代的条件。 | ||||
| 技术特征L：输出满足阈值条件的改进的前馈数据 | 对比文件全文未提及输出满足条件的前馈数据。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开输出步骤。 | ||||
| 技术特征M：其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度 | 对比文件全文未涉及幅度相关的滤波。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开任何滤波操作。 | ||||
| 技术特征N：其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量 | 对比文件全文未涉及幅度选择性的滤波。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开幅度抑制特性。 | ||||
| 技术特征O：其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带 | 对比文件全文未提及频带分解。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开频带分解。 | ||||
| 技术特征P：对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作 | 对比文件全文未提及每个频带的单独滤波。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开频带选择滤波。 | ||||
| 技术特征Q：其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组 | 【第2段】“サンプリング周期Ｔs毎に” 以及“速度指令は、…サンプリング周期Ｔs毎に作成され、出力される”。<br>中文翻译：“每个采样周期Ts；速度指令每个采样周期Ts生成并输出。” | 直接公开。对比文件表明测量（位置）和指令（目标状态）均在相同采样周期Ts进行，因此测量时间点与目标时间点对应，公开了测量时间对应于目标时间子组。 | ||||
| 技术特征R：其中所述目标状态包括以下所述的至少一个：所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度 | 【第2段】图4显示速度曲线（Ｖy(t)）、加速度曲线（Ａy(t)），以及位置指令（通过积分速度得到）。<br>中文翻译：图4A-4C显示加速度曲线、速度曲线、位置曲线。 | 直接公开。对比文件明确公开了目标速度、目标加速度，并通过积分速度得到目标位置，因此公开了目标状态包括位置、速度、加速度。 | ||||
| 技术特征S：其中对于所述滤波器进行配置 | 对比文件全文未提及滤波器配置。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开任何滤波器。 | ||||
| 技术特征T：使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分 | 对比文件全文未涉及噪声带或幅度传递特性。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开相关滤波特性。 | ||||
| 技术特征U：其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示 | 对比文件未将误差表示为离散数组，仅描述为连续偏差值。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开误差数组表示。 | ||||
| 技术特征V：其中0≤i≤n | 对比文件未提及索引范围。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开i的范围。 | ||||
| 技术特征W：n是组中的采样数 | 对比文件未提及采样数n。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开采样数定义。 | ||||
| 技术特征X：所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示 | 对比文件未提及任何滤波器矩阵。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开滤波器矩阵。 | ||||
| 技术特征Y：步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积 | 对比文件未提及乘积运算。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开该数学关系。 | ||||
| 技术特征Z：其中所述的Φ(ey(i))的定义如下：<br>Φ(e_y(i)) = diag(φ(e_y(0)),..., φ(e_y(n)))<br>φ(e_y(i)) = 1 - att(e_y(i))<br>att(e_y(i)) = max(0, 1 - ( | e_y(i) | -δ)^2/ | e_y(i) | ^2) | 对比文件未公开任何类似公式。<br>中文翻译：无。 | 未公开。对比文件未公开该滤波器的具体数学定义。 |
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### 公开性代码输出
根据上述分析，对比文件直接公开了技术特征A、B、C、E、F、Q、R，未公开其他技术特征。
<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<E>>><<<F>>><<<Q>>><<<R>>>