对比文件名称：2017-01-16_TW201702711A_发明专利_TW201702711A 屈光液晶裝置及其用途
目标专利名称：1509光调制元件CN113330358B
本次调用的模型名称：AI
## 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括第一光调制层《直接公开》 | “本申請案的一個態樣提供一種屈光液晶裝置……該屈光液晶裝置包含：客體-主體液晶層，其包含液晶化合物以及二色性染料；預傾斜垂直配向薄膜，以及四分之一波板。”（发明内容部分） | 对比文件明确公开了包含客體-主體液晶层，该层能够根据施加电压与否改变光学状态（如反射率变化），属于光调制层。目标专利中的“第一光调制层”泛指一个光调制层，对比文件该层对应于此，故技术特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：所述第一光调制层包含向列型液晶二色性染料和导电添加剂《未公开》 | “客體-主體液晶層包含液晶化合物以及二色性染料”；“液晶化合物可為向列型液晶化合物”（发明内容部分） | 对比文件仅公开了向列型液晶和二色性染料，完全没有导电添加剂的任何记载或暗示。目标专利中导电添加剂是实现动态散射模式所需的关键组分，对比文件未涉及，故技术特征B未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征C：在其中施加电压的状态下实现散射模式《未公开》 | “在施加外部電場時……實現黑色模式（低反射率）……不具有混濁度特性”（发明内容部分） | 对比文件在施加电压时强调低混浊度（透明度高），其实现的是黑色模式但光学状态为透明，并非目标专利所述的高雾度“散射模式”。目标专利的散射模式具有高雾度和低透射率，与对比文件相反，故特征C未公开。 |
| 技术特征D：和第二光调制层《未公开》 | 全文未记载第二光调制层或任何双层结构。 | 对比文件仅有一个液晶层（客體-主體液晶層），没有公开第二光调制层，也未给出任何两个光调制层重叠设置的技术启示，故特征D未公开。 |
| 技术特征E：所述第二光调制层包含向列型液晶二色性染料和导电添加剂《未公开》 | 同特征B，对比文件未提供第二光调制层的任何信息。 | 对比文件无第二光调制层，其组成也无从提及，故特征E未公开。 |
| 技术特征F：在其中施加电压的状态下实现散射模式《未公开》 | 同特征C，对比文件无散射模式。 | 对比文件的第二光调制层不存在，施加电压状态下的模式也无说明，故特征F未公开。 |
| 技术特征G：其中所述第一光调制层和所述第二光调制层各自为雾度可变层《未公开》 | 全文未提及“雾度可变”或雾度变化特性。 | 目标专利的“雾度可变层”指在施加电压前后雾度差≥10%的层。对比文件仅关注反射率和低混浊度，未公开任何关于雾度可变的内容，故特征G未公开。 |
| 技术特征H：其中根据外部能量的施加所述雾度可变层在雾度不同的第一状态与第二状态之间转换《未公开》 | 全文未描述雾度状态的转换。 | 对比文件未定义雾度状态，其装置在外部电场切换时反射率改变但雾度保持低值，不存在雾度不同的状态转换，故特征H未公开。 |
| 技术特征I：所述第一状态与所述第二状态之间的雾度差为10％或更大《未公开》 | 未涉及雾度差数值。 | 对比文件无雾度变化，更无10%以上的雾度差，故特征I未公开。 |
| 技术特征J：其中所述导电添加剂包括反应性液晶元《未公开》 | 全文无导电添加剂；仅在四分之一波板材料中提及“反應性液晶原基”（用于形成波板，非液晶层）。 | 对比文件的光调制层不含任何导电添加剂，也就不含反应性液晶元。目标专利的反应性液晶元是特定用于动态散射模式的导电添加剂，对比文件未公开，故特征J未公开。 |
| 技术特征K：其中将所述第一光调制层和所述第二光调制层设置成彼此重叠《未公开》 | 全文未公开两个光调制层或其重叠设置。 | 对比文件仅有一个液晶层，没有任何两个功能层重叠的教导，故特征K未公开。 |
| 技术特征L：其中所述光调制元件的如通过以下方程式1计算的对比度CR为10或更大《未公开》 | 全文未计算透射对比度CR，仅在反射率方面提到了40%以上的差值（方程式2）。 | 目标专利的对比度CR定义为T(0V)/T(60V)，基于透射率。对比文件只涉及反射率，且无相应电压下透射率计算，故特征L未公开。 |
| 技术特征M：[方程式1]CR＝T(0V)/T(60V)《未公开》 | 未出现该方程式。 | 对比文件未给出任何关于对比度的定义或计算式，故特征M未公开。 |
| 技术特征N：其中T(0V)为在其中不向所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者施加电压的状态下所述光调制元件的以％计的总透射率《未公开》 | 未提供透射率测量。 | 对比文件仅测量反射率，未涉及总透射率参数，更没有针对双层的定义，故特征N未公开。 |
| 技术特征O：T(60V)为在其中向所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者施加60V的电压的状态下所述光调制元件的以％计的总透射率《未公开》 | 未提供60V下的透射率。 | 对比文件测试电压为30V且为反射率，无60V透射率数据，故特征O未公开。 |
| 技术特征P：其中所述光调制元件的如通过以下方程式2计算的雾度差ΔH为50％或更大《未公开》 | 全文未提及雾度差ΔH。 | 对比文件未计算或定义雾度差，无相关数据，故特征P未公开。 |
| 技术特征Q：[方程式2]ΔH＝H(60V)‑H(0V)《未公开》 | 未出现该方程式。 | 对比文件无雾度差定义，故特征Q未公开。 |
| 技术特征R：其中H(0V)为在其中不向所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者施加电压的状态下所述光调制元件的以％计的雾度《未公开》 | 未提供雾度测量。 | 对比文件仅提低混浊度，但未定量测量或定义雾度，更不涉及双层，故特征R未公开。 |
| 技术特征S：H(60V)为在其中向所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者施加60V的电压的状态下所述光调制元件的以％计的雾度《未公开》 | 未提供60V下的雾度。 | 同特征R，对比文件无雾度数据，故特征S未公开。 |
| 技术特征T：其中所述第一光调制层和所述第二光调制层各自包含在其中不施加电压的状态下处于垂直取向状态的所述向列型液晶和所述二色性染料《未公开》 | “在不施加外部電場的狀態下，包含於客體-主體液晶層中的液晶化合物的預傾斜角度可在70°至90°範圍內”；“二色性染料根據液晶化合物601的配向而被配向”（发明内容及图4说明） | 对比文件公开了单层液晶在未施加电场时处于垂直取向（预倾斜70°-90°），染料随之取向。但特征T要求第一和第二光调制层均满足此状态，对比文件仅有一层，未公开两层结构，故整个特征T未完全公开。且无任何两层均垂直取向的教导，不能合理推理出两层情况。 |
| 技术特征U：其中包含在所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者中的所述向列型液晶具有负的介电常数各向异性《直接公开》 | “向列型液晶化合物可為N型向列型液晶化合物”；“異常介電各向異性（εe）與尋常介電各向異性（εo）之間的差（∆ε= εe-εo）表示負值”（发明内容部分） | 对比文件明确公开了向列型液晶为N型（负介电各向异性）。该性质是液晶自身固有的，不依赖于层数，本领域技术人员可直接得知该液晶具有负介电各向异性。尽管特征T针对第一、第二光调制层，但对比文件所公开的液晶类型可直接应用于任何光调制层，因此技术特征U被直接公开。 |
| 技术特征V：其中所述导电添加剂的电导率在2×10⁻⁴ μS/cm至5×10⁻³ μS/cm的范围内《未公开》 | 全文未提及导电添加剂的电导率。 | 对比文件无导电添加剂，更无电导率范围，故特征V未公开。 |
| 技术特征W：其中包含在所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者中的所述二色性染料的浓度在0.01重量％至5重量％的范围内《未公开》 | “客體-主體液晶層可包含含量為按100重量份液晶化合物計0.3至3重量份的二色性染料”（发明内容部分） | 对比文件公开了二色性染料相对于液晶的重量百分比为0.3%~3%，该范围落入目标专利的0.01%~5%范围内。但特征W要求每一光调制层均在此浓度范围，对比文件仅公开一个液晶层的浓度，未公开两个层分别满足该范围，故整体特征W未被直接公开。同时，对比文件未涉及两层结构，不能合理推断出两个层均采用该浓度范围，故也不隐含公开。 |
| 技术特征X：其中所述第一光调制层和所述第二光调制层各自具有在4μm至25μm的范围内的厚度《未公开》 | “客體-主體液晶層可（例如）具有在3 μm至30 μm範圍內的厚度”；優選“5 μm至25 μm”（发明内容部分） | 对比文件公开了液晶层厚度范围（3-30μm，优选5-25μm），包含4-25μm。但特征X要求第一和第二光调制层各自具有该厚度范围，对比文件仅涉及一个层，未能证明两个层均满足，故整体特征X未直接或隐含公开。 |
| 技术特征Y：其中所述第二基底和所述第三基底通过粘合剂附接《未公开》 | 全文未描述第二、第三基底或粘合剂附接。 | 对比文件未采用双液晶层结构，故无第二、第三基底的概念，也无粘合剂附接的相关公开，特征Y未公开。 |
| 技术特征Z：其中所述第二基底和所述第三基底通过压敏粘合剂附接《未公开》 | 全文未涉及压敏粘合剂。 | 同特征Y，对比文件无基底附接方式，特征Z未公开。 |
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