对比文件名称：2005-03-03_JP2005052741A_发明专利_JP2005052741A Coating method and coating apparatus
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法CN113728257B
本次调用的模型名称：DeepSeek-R1
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括《未公开》 | 无直接引用 | 对比文件公开的是涂布方法和装置，并非全息光学元件的制造方法，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)《隐含公开》 | “被塗布基板の被塗布面に液状体を塗布する”（[2]段）；“液状体としては、着色材、フォトリソグラフィ法に用いられるレジスト類、半導体素子や電気光学的な素子などの保護膜あるいは被覆膜、液晶装置のカラーフィルタの平坦化膜や液晶材料、また金属の微粒子を含む液状体による電極の形成など”（[2]段） | 对比文件公开了用液状体涂覆基底形成涂膜的方法，且列举的液状体包括光刻胶类材料。光敏树脂属于光敏性材料，本领域技术人员在制造全息光学元件时容易想到将光敏树脂用于该涂覆方法，因此该技术特征被隐含公开。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)《未公开》 | 无 | 对比文件全文未涉及激光记录全息光栅的任何内容，因此未被公开。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化《隐含公开》 | “被塗布基板の回転速度と、吐出ヘッドと被塗布基板との相対的な移動速度と、吐出ノズルからの液状体の吐出量との少なくとも一つを変化させることにより、被塗布基板面内で部分的に液状体の塗布量を変更することが可能となり、被塗布基板内で膜厚の異なる塗布膜が得られ、かつ滑らかに塗布膜厚が変化した塗布膜を得ることができる”（[2]段） | 对比文件公开了通过改变涂布参数（如吐出量、速度等）使涂层厚度沿预定方向（例如从中心到周边）变化。虽然未明确光敏树脂，但该技术手段可直接应用于光敏树脂涂层，因此隐含公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上《未公开》 | 无 | 对比文件未涉及全息光栅的记录，更未公开记录在整个高度上。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加《未公开》 | 无 | 对比文件仅公开了涂层高度变化，但未公开全息光栅高度变化及两者关联。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加《未公开》 | 无 | 同上，无全息光栅。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度《未公开》 | 无 | 无任何相关公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处《隐含公开》 | “吐出ノズルから液滴を吐出して被塗布基板に塗布する”（[2]段）；“複数の吐出ノズルから液滴を吐出して帯状に塗布することも可能”（[2]段） | 对比文件公开了使用喷墨方式（喷涂）将液状体涂布至基底多个位置的方法。虽然未明确光敏树脂，但喷涂方式直接公开，可隐含光敏树脂的应用。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化《隐含公开》 | “吐出ノズルからの液状体の吐出量を被塗布基板の塗布の間に変化させることにより、被塗布基板内で部分的に液状体の塗布量を変更することが可能”（[2]段） | 对比文件明确公开了通过改变吐出量使涂布量随位置变化。该技术手段直接公开，可隐含用于光敏树脂。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1)《未公开》 | 无 | 对比文件仅公开喷墨涂布，无任何浸渍涂布的记载。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2)《未公开》 | 无 | 无记载。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离《未公开》 | 无 | 无记载。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1)《未公开》 | 无 | 对比文件未涉及辅助基底。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2)《未公开》 | 无 | 无。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者《未公开》 | 无 | 无。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂《未公开》 | 无 | 对比文件无倾斜涂布的记载，仅旋转基板。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥《直接公开》 | “熱乾燥して硬化する場合は熱処理を、また紫外線硬化させる場合は紫外線の照射を”（[2]段） | 对比文件明确公开了涂布后的干燥（热处理或其他固化方式）步骤。该步骤可直接适用于光敏树脂，因此直接公开。 |
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