2011-02-17_WO2011019095A_发明申请_WO2011019095A1 A METHOD OF PRODUCING NANO-SIZE GRAPHENE-BASED MATERIAL AND AN EQUIPMENT FOR PRODUCING THE SAME_+++C_Y+++.docx

**对比文件名称**:2011-02-17_WO2011019095A_发明申请_WO2011019095A1 A METHOD OF PRODUCING NANO-SIZE GRAPHENE-BASED MATERIAL AND AN EQUIPMENT FOR PRODUCING THE SAME

**目标专利名称**:利用高速均质化预处理和高压均质化制备石墨烯的方法(CN107108226B)

**本次调用的模型名称**:DeepSeek(大型语言模型,用于专利创造性评估)

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(翻译成中文)公开性论述
**技术特征A**:包括:步骤1,对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化来制备进料溶液的步骤。<br>**公开性判断:未公开**对比文件公开了“通过将石墨片与硫酸混合制备石墨硫酸浆料”(p11)以及“在预混合器(7)中通过将硫酸和石墨片混合制备石墨硫酸浆料”(p57)。未涉及膨胀石墨、分散剂或高速均质化。对比文件的预处理是化学氧化反应物的混合(石墨片+硫酸),而目标专利的步骤1是物理分散(膨胀石墨+分散剂+高速均质化),两者原料、工艺和目的完全不同。本领域技术人员无法从对比文件得出技术特征A。
**技术特征B**:步骤2,使所述进料溶液通过高压均质器的步骤。<br>**公开性判断:未公开**对比文件描述“将石墨硫酸浆料强制进入微通道”(p14)和“将石墨硫酸浆料强制进入微通道起始端”(p57),但该步骤在微反应器中进行,用于氧化反应,并非高压均质器。对比文件未公开“高压均质器”这一特定设备,也未公开利用高压均质器处理进料溶液进行剥离的步骤。因此特征B未被公开。
**技术特征C**:所述高压均质器包括入口、出口以及连接在所述入口和所述出口之间并且具有微米级直径的微通道。<br>**公开性判断:《直接公开》**p56:“微反应器(8)由多个微通道模块(8a-8g)组成,周围有热交换器(17),形成一条连接的微通道,起始于入口,经过模块,结束于出口。”<br>p47:“微通道内径为1μm到几十毫米,优选1μm到几毫米,最优选1μm到1mm。”对比文件明确公开了一种具有入口(起始端)、出口(末端)和微米级内径微通道的装置。尽管其称为微反应器而非高压均质器,但结构特征与特征C完全相同,且同样用于流体通过微通道。本领域技术人员可以直接认识到该结构,故特征C被直接公开。
**技术特征D**:其中,所述高速均质化通过以3000至8000rpm搅拌所述分散液来进行。<br>**公开性判断:未公开**对比文件未涉及高速均质化,未提及搅拌转速。对比文件没有任何关于高速均质化或特定转速的内容,特征D未被公开。
**技术特征E**:其中,所述高速均质化进行0.5至3小时。<br>**公开性判断:未公开**对比文件未涉及高速均质化时间。同D,未公开。
**技术特征F**:并使用高速均质器进行搅拌。<br>**公开性判断:未公开**对比文件未提及高速均质器。对比文件未公开高速均质器。
**技术特征G**:其中在高速均质器的转子和定子之间施加的剪切速率为>10^4 s⁻¹。<br>**公开性判断:未公开**对比文件未涉及高速均质器,更无剪切速率数值。未公开。
**技术特征H**:其中,所述膨胀石墨与所述分散剂的重量比为2.5至20。<br>**公开性判断:未公开**对比文件未使用膨胀石墨和分散剂,仅涉及石墨片与硫酸的重量比(1:10至1:100,p43)。原料不同,且未公开目标比例。
**技术特征I**:其中,所述膨胀石墨在所述分散液中的浓度为0.5重量%至5重量%。<br>**公开性判断:未公开**对比文件使用石墨片与硫酸的固液比,而非膨胀石墨浓度。未公开。
**技术特征J**:其中,所述膨胀石墨的振实密度为0.01至0.5g/cm³。<br>**公开性判断:未公开**对比文件未提及膨胀石墨或振实密度。未公开。
**技术特征K**:BET表面积为5至50m²/g。<br>**公开性判断:未公开**对比文件p42提到纳米石墨烯基材料的表面积300~3000 m²/g,但并非膨胀石墨的BET。未公开目标特征。
**技术特征L**:其中,所述分散剂是芘类低分子量衍生物。<br>**公开性判断:未公开**对比文件未公开任何分散剂,所用试剂为硫酸。未公开。
**技术特征M**:纤维素聚合物<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征N**:阳离子表面活性剂<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征O**:阴离子表面活性剂<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征P**:正十二烷基b‑D‑麦芽糖苷<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征Q**:两性表面活性剂<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征R**:聚乙烯吡咯烷酮类聚合物<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征S**:聚氧化乙烯类聚合物<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征T**:环氧乙烷‑环氧丙烷共聚物<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征U**:丹宁酸<br>**公开性判断:未公开**同上。未公开。
**技术特征V**:多种多环芳烃氧化物的混合物,其是含有60重量%以上的量的分子量为300至1000的多环芳烃氧化物的混合物。<br>**公开性判断:未公开**对比文件未涉及。未公开。
**技术特征W**:其中,所述分散液的溶剂是选自水、NMP(N‑甲基‑2‑吡咯烷酮)、丙酮、DMF(N,N‑二甲基甲酰胺)、DMSO(二甲基亚砜)、CHP(环己基‑吡咯烷酮)、N12P(N‑十二烷基‑吡咯烷酮)、苯甲酸苄酯、N8P(N‑辛基‑吡咯烷酮)、DMEU(二甲基‑咪唑烷酮)、环己酮,DMA(二甲基乙酰胺)、NMF(N‑甲基甲酰胺)、溴苯、氯仿、氯苯、苄腈、喹啉、二苄醚、乙醇、异丙醇、甲醇、丁醇、2‑乙氧基乙醇、2‑丁氧基乙醇、2‑甲氧基丙醇、THF(四氢呋喃)、乙二醇、吡啶、N‑乙烯基吡咯烷酮、甲基乙基酮(丁酮)、α‑萜品醇、甲酸、乙酸乙酯和丙烯腈中的一种或多种。<br>**公开性判断:未公开**对比文件所用溶剂为浓硫酸(p43, p44等),未使用所列有机溶剂或水。未公开目标溶剂种类。
**技术特征X**:其中,所述进料溶液中的膨胀石墨在施加剪切力下通过微通道时被剥离,从而制备石墨烯。<br>**公开性判断:未公开**对比文件p50:“石墨氧化物通过热冲击在垂直流化炉中转化为纳米石墨烯基材料,通过层间分离”。微通道用于氧化反应,而非剥离。对比文件的剥离机制是热膨胀,而非通过微通道剪切力剥离膨胀石墨。特征X未被公开。
**技术特征Y**:其中,所述微通道的直径为50至300μm。<br>**公开性判断:《直接公开》**p47:“微通道内径为1μm到几十毫米,优选1μm到几毫米,最优选1μm到1mm。”对比文件公开的微通道内径范围(1μm~1mm)完全覆盖50~300μm,本领域技术人员可以毫无疑义地得到该具体范围,故特征Y被直接公开。
**技术特征Z**:其中,所述进料溶液被引入到施加500至3000巴的压力下的所述高压均质器的入口并通过所述微通道。<br>**公开性判断:未公开**对比文件p48提到“以足够的压力和速度进料以产生湍流”,但未给出具体压力数值。未公开500~3000巴的压力范围。

**总结代码输出**(基于上述判断,直接公开的特征为C和Y,无隐含公开)

<<<C>>><<<Y>>>

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