**对比文件名称**：2012-03-21_CN102388056A_发明公开_CN102388056A 对无机薄膜涂层具有改善粘附力的耐划痕涂层
**目标专利名称**：1641抗反射膜CN108473791B
**调用的模型名称**：DeepSeek（深度思考模式）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（段落编号及翻译） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层<br>**公开性：未公开** | 对比文件主要涉及耐划痕涂层，未公开低折射率层。其涂层组合物包含聚倍半硅氧烷和可光聚合单体，但未明确包含分散的无机细颗粒。例如[0015]提到“与传统的二氧化硅纳米粒子的用途相反，本发明人发现，结合带有有机侧基的新型二氧化硅纳米粒子…”，但该“新型二氧化硅纳米粒子”实为聚倍半硅氧烷，非分散的无机细颗粒；且该涂层不是低折射率层。 | 对比文件未记载低折射率层结构，也未公开将无机细颗粒分散在粘合剂树脂中形成低折射率层的内容。本领域技术人员无法从对比文件直接或隐含得出该技术特征。 |
| **技术特征B**：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物<br>**公开性：未公开** | 对比文件公开了可光聚合化合物与聚倍半硅氧烷的组合，但未提及任何基于氟的化合物。例如[0020]：“聚倍半硅氧烷化合物可单独使用或与一种或几种可与其共聚的单体一起使用。”[0021]列举了多官能(甲基)丙烯酸单体。 | 对比文件完全没有涉及含氟组分，更未公开含有光反应性官能团的基于氟的化合物。因此粘合剂树脂不包含该成分，技术特征B未被公开。 |
| **技术特征C**：和硬涂层<br>**公开性：未公开** | 对比文件公开了耐划痕涂层，但未单独公开硬涂层。该耐划痕涂层直接涂覆在镜片表面，并作为抗反射涂层的基础，没有形成独立的硬涂层。例如[0009]：“该眼镜镜片包含一个光学镜片，光学镜片表面上的耐划痕涂层。” | 目标专利中的硬涂层是独立于低折射率层的结构层，而对比文件的耐划痕涂层虽有一定硬度，但并非单独定义的硬涂层，也未公开与低折射率层组合的硬涂层。故未公开。 |
| **技术特征D**：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小<br>**公开性：未公开** | 对比文件未涉及内部雾度、总雾度或它们的比率。 | 对比文件没有任何关于雾度测量或比例的内容，因此未公开。 |
| **技术特征E**：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小<br>**公开性：未公开** | 对比文件未涉及碱处理或色坐标b*的测量。 | 对比文件未公开任何碱处理步骤或色坐标变化，因此未公开。 |
| **技术特征F**：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％<br>**公开性：未公开** | 对比文件未公开基于氟的化合物，更未提及氟含量。 | 同技术特征B，对比文件无氟化合物，故无法公开其氟含量范围。 |
| **技术特征G**：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒<br>**公开性：未公开** | 对比文件未公开基于氟的化合物的分子量，也未公开碱处理的具体条件。 | 对比文件缺乏含氟化合物及其分子量，也没有碱处理参数，故未公开。 |
| **技术特征H**：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65<br>**公开性：未公开** | 对比文件未提及椭圆偏光法测量或柯西参数。 | 对比文件没有描述任何椭圆偏光法测量或柯西模型拟合，因此未公开。 |
| **技术特征I**：B为0至0.05<br>**公开性：未公开** | 同H | 同H |
| **技术特征J**：C为0至0.05<br>**公开性：未公开** | 同H | 同H |
| **技术特征K**：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内<br>**公开性：未公开** | 对比文件未公开该公式及相关参数。 | 对比文件未涉及该光学模型。 |
| **技术特征L**：A、B和C为柯西参数<br>**公开性：未公开** | 同K | 同K |
| **技术特征M**：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75<br>**公开性：未公开** | 对比文件未涉及椭圆偏光法或硬涂层的柯西参数。 | 对比文件没有该测量及参数。 |
| **技术特征N**：B为0至0.05<br>**公开性：未公开** | 同M | 同M |
| **技术特征O**：C为0至0.005<br>**公开性：未公开** | 同M | 同M |
| **技术特征P**：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内<br>**公开性：未公开** | 同K | 同K |
| **技术特征Q**：A、B和C为柯西参数<br>**公开性：未公开** | 同K | 同K |
| **技术特征R**：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm<br>**公开性：未公开** | 对比文件未涉及低折射率层厚度。 | 对比文件无低折射率层，故未公开其厚度。 |
| **技术特征S**：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm<br>**公开性：未公开** | 对比文件未涉及硬涂层厚度。 | 对比文件无硬涂层，故未公开。 |
| **技术特征T**：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50<br>**公开性：未公开** | 对比文件公开了耐划痕涂层中POSS与单体的重量比，例如组合物C（表3）中MA0735:单体=3.5:(7.0+2.5)≈0.368，组合物F（表5）中MA0735:CN9006=2.5:9.0≈0.278。但这些比例是针对耐划痕涂层，而非低折射率层。 | 技术特征T明确限定于低折射率层中的粘合剂树脂，而对比文件未公开低折射率层，因此即使有相似比例也不构成对该特征的公开。本领域技术人员不能将其直接用于低折射率层。 |
| **技术特征U**：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇<br>**公开性：直接公开** | [0019]：“多面体低聚倍半硅氧烷化合物含有一个或多个可以化学键合到用做塑料镜片的材料上以便进行模内涂覆的取代基，如环氧基团或烯键型不饱和基团，例如烯丙基、乙烯基、丙烯酸基或甲基丙烯酸基。” [0020]提到MA0735“含有多个甲基丙烯酸酯基团”。 | 对比文件明确公开了环氧化物、(甲基)丙烯酸酯、烯烃（烯丙基、乙烯基）作为反应性官能团，这些均属于技术特征U所列官能团。因此本领域技术人员可以直接确定该特征被公开。 |
| **技术特征V**：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基<br>**公开性：直接公开** | 同U，[0019]明确提及乙烯基、环氧化物、(甲基)丙烯酸酯、烯丙基等。 | 对比文件公开了乙烯基（具体列举）、环氧化物、(甲基)丙烯酸酯等，均包含在技术特征V的列表中，故直接公开。 |
| **技术特征W**：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷<br>**公开性：直接公开** | [0017]：“合适的聚倍半硅氧烷化合物...包括结构通式为[(RSiO1.5)n]∑n(Tn)的多面体低聚倍半硅氧烷，其中n是偶数...”，并示出笼形结构A和B。实施例中使用MA0735（多面体低聚倍半硅氧烷）。 | 对比文件直接教导使用具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷（POSS），故技术特征W被直接公开。 |
| **技术特征X**：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团<br>**公开性：隐含公开** | [0017]：“取代基团(R)中至少一个选择那些...形成化学键”；[0019]指出MA0735含有多个甲基丙烯酸酯基。本领域已知POSS通常带有非反应性烷基（如异丁基）作为其余取代基。 | 对比文件虽然未明确描述剩余硅原子的取代基，但基于POSS的常规结构以及“至少一个取代基是反应性的”的教导，本领域技术人员可以合理推断出其余硅原子必然被非反应性基团（如烷基）占据以形成稳定笼结构。因此技术特征X被隐含公开。 |
| **技术特征Y**：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物<br>**公开性：直接公开** | [0021]：“多官能(甲基)丙烯酸单体(和/或低聚物)在形成高耐划痕涂层方面特别有效。...例子包括：三丙烯酸季戊四醇酯，四丙烯酸季戊四醇酯，五丙烯酸二季戊四醇酯，六丙烯酸二季戊四醇酯...”。[0004]提到“包含丙烯酸酯或乙烯基型化合物之类的活性烯键型不饱和基团的可聚合组合物”。 | 对比文件明确公开了含有(甲基)丙烯酸酯基团或乙烯基的可光聚合单体/低聚物，因此直接公开了技术特征Y。 |
| **技术特征Z**：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基<br>**公开性：未公开** | 对比文件未公开任何基于氟的化合物，因此不可能公开其光反应性官能团。 | 同技术特征B、F、G，对比文件无氟化合物，故未公开。 |
### 公开性代码输出
根据上述判断，对比文件直接公开了技术特征U、V、W、Y；隐含公开了技术特征X。其余技术特征未被公开。因此，在回答结尾插入以下代码：
<<<U>>><<<V>>><<<W>>><<<Y>>><<<x>>>