对比文件名称：2014-06-23_KR101411023B_发明授权_KR101411023B1 윈도우 시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 (Window sheet and display device comprising the same)
目标专利名称：抗反射膜CN108473791B
本次调用的模型名称：先进自然语言处理模型
以下是根据目标专利权利要求的技术特征与对比文件的比对结果。
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译为中文） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层 【直接公开】 | [0057]“在一个具体例中，涂层可以由含氟(甲基)丙烯酸酯类化合物（粘合剂树脂）、无机纳米颗粒和光聚合引发剂的组合物形成。” [0014]“包括(A)基膜，(B)包含倍半硅氧烷的树脂层，以及(C)涂层，该涂层具有低反射特性。” | 对比文件的涂层（相当于低折射率层）由含氟丙烯酸酯类化合物（粘合剂）和无机纳米颗粒构成，功能是实现低反射，因此直接公开了该特征。 |
| 技术特征B：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物 【不公开】 | [0057]涂层组合物包含含氟(甲基)丙烯酸酯和光聚合引发剂；[0027]“包含光固化性笼型倍半硅氧烷树脂的单独层”。 | 对比文件的涂层（低折射率层）的粘合剂中不含有聚倍半硅氧烷，聚倍半硅氧烷存在于单独的树脂层中，未与含氟化合物和可光聚合化合物形成为一体的交联聚合物，因此未公开。 |
| 技术特征C：和硬涂层 【直接公开】 | [0008]“铅笔硬度6H以上，包括(A)基膜，(B)包含倍半硅氧烷的树脂层（提供高硬度），以及(C)涂层。” | 对比文件的倍半硅氧烷树脂层具有高铅笔硬度（6H以上），起到硬涂层的作用，因此直接公开了硬涂层。 |
| 技术特征D：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小 【不公开】 | 对比文件测量了雾度值（如0.11%），但未涉及内部雾度的测量或与总雾度的比率。 | 无相关记载，未公开。 |
| 技术特征E：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小 【不公开】 | 对比文件未进行碱处理，也未测量b*值。 | 无碱处理或b*变化的相关内容，未公开。 |
| 技术特征F：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％ 【不公开】 | [0057]-[0065]仅提及含氟化合物，未给出氟含量具体范围。 | 对比文件未公开氟含量数值或范围，因此未公开。 |
| 技术特征G：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒 【不公开】 | [0059]“氟改性(甲基)丙烯酸酯共聚物的重均分子量为500-10000g/mol。”其他无碱处理条件。 | 对比文件公开的分子量范围（500-10000）低于2000，且无碱处理的具体参数，因此未公开。 |
| 技术特征H：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65 【不公开】 | 对比文件未涉及椭圆偏光法测量或柯西模型拟合。 | 无任何相关测量或参数，未公开。 |
| 技术特征I：B为0至0.05 【不公开】 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征J：C为0至0.05 【不公开】 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征K：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 【不公开】 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征L：A、B和C为柯西参数 【不公开】 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征M：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75 【不公开】 | 对比文件未涉及硬涂层的椭偏测量或柯西拟合。 | 无相关公开。 |
| 技术特征N：B为0至0.05 【不公开】 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征O：C为0至0.005 【不公开】 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征P：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 【不公开】 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征Q：A、B和C为柯西参数 【不公开】 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征R：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm 【直接公开】 | [0056]“涂层的厚度可以确定为10nm~500nm”；实施例中涂层厚度为100nm。 | 对比文件公开的涂层厚度范围10-500nm包含了100nm，而100nm处于1-200nm内，因此直接公开了该厚度特征。 |
| 技术特征S：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm 【直接公开】 | [0045]“层叠膜的厚度为50-500μm”；制备例中使用的SilplusJ200总厚200μm（基膜100μm，树脂层约100μm）；[0047]厚度比0.1-5.0。 | 对比文件的倍半硅氧烷树脂层（硬涂层）在实施例中厚度为100μm（即0.1mm=100μm），落入0.1-100μm范围，因此直接公开。 |
| 技术特征T：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50 【不公开】 | 对比文件的低折射率层（涂层）中不含聚倍半硅氧烷，因此无相关重量比。 | 未公开低折射率层中含有聚倍半硅氧烷，更未公开其与可光聚合化合物的重量比。 |
| 技术特征U：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇 【直接公开】 | [0038]化学式3的R1可选自乙烯基、(甲基)丙烯酰基、烯丙基（烯烃）、缩水甘油基（环氧化物）等；[0030]R为(甲基)丙烯酰基、缩水甘油基或乙烯基。 | 对比文件公开了倍半硅氧烷上的反应性官能团包括环氧化物和(甲基)丙烯酸酯，两者均属于所述列表，因此至少一种被直接公开。 |
| 技术特征V：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基 【直接公开】 | 同上，[0038]还明确包括乙烯基。 | 对比文件公开了乙烯基、(甲基)丙烯酰基、烯丙基等，其中乙烯基属于列表，因此直接公开。 |
| 技术特征W：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷 【直接公开】 | [0027]“光固化性笼型倍半硅氧烷树脂”；[0033]化学式2、3为笼型结构。 | 对比文件明确记载了笼型倍半硅氧烷（cage型 silsesquioxane），即具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷，因此直接公开。 |
| 技术特征X：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团 【直接公开】 | [0038]化学式3中R1可选自反应性基团（乙烯基、(甲基)丙烯酰基、烯丙基）和非反应性基团（碳数1-10的烷基、苯基），且至少2个R1为反应性基团。 | 该化学式明确示出部分硅原子带反应性基团，其余硅原子带非反应性基团（如烷基），因此直接公开。 |
| 技术特征Y：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物 【直接公开】 | [0083]列举了多种多官能(甲基)丙烯酸酯单体；[0082]紫外固化树脂含(甲基)丙烯酸酯基。 | 对比文件的涂层组合物中使用了多官能(甲基)丙烯酸酯单体等可光聚合化合物，因此直接公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基 【直接公开】 | [0061]“氟改性(甲基)丙烯酸酯具有光固化性官能团(甲基)丙烯酸酯基”。 | 对比文件的氟改性(甲基)丙烯酸酯化合物含有(甲基)丙烯酸酯基，所以至少该基团被直接公开。 |
结论：对比文件直接公开了技术特征A、C、R、S、U、V、W、X、Y、Z；未公开其他技术特征。
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