对比文件名称：2002-12-17_JP2002361146A_发明专利_JP2002361146A Bead type application apparatus and bead type application method
目标专利名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
本次调用的模型名称：AI模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| **技术特征A：包括狭缝式模具（直接公开）** | [0014]：“本发明的珠型涂布装置包括通过滑动涂布、槽式涂布或帘式涂布进行所述涂布液的涂布装置。” | 对比文件明确公开了“槽式涂布（スロット塗布）”，即狭缝式模具涂布方式，因此技术特征A被直接公开。 |
| **技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液（直接公开）** | [0019]：“涂布装置1由滑动珠型涂布模具2和减压室3构成。涂布装置1在涂布涂布液22时，通过移动机构配置为与背辊21相对。” | 对比文件公开了涂布模具向支持体（基膜）供应涂布液，因此技术特征B被直接公开。 |
| **技术特征C：真空室（直接公开）** | [0019]：“减压室3” | 对比文件公开了“減圧チャンバ”（减压室），即真空室，因此技术特征C被直接公开。 |
| **技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端（直接公开）** | [0019]：“涂布模具2和减压室3可以一体构成，也可以独立构成且在涂布时成为一体。”结合图1，减压室3配置在涂布模具2的前端（靠近基膜侧）。 | 对比文件公开了减压室安装在涂布模具的前端，因此技术特征D被直接公开。 |
| **技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙（直接公开）** | [0003]：“在支持体与减压室之间的间隙” | 对比文件明确公开了支持体（基膜）与减压室（真空室）之间存在间隙，因此技术特征E被直接公开。 |
| **技术特征F：压力振荡减低箱（直接公开）** | [0004]：“减压源由抽吸鼓风机和抑制压力波动的缓冲罐以及连接单元构成。” | 对比文件公开了“バッファタンク”（缓冲罐），其功能是抑制压力波动，相当于目标专利的“压力振荡减低箱”，因此技术特征F被直接公开。 |
| **技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室（直接公开）** | [0004]：“减压装置由减压室和减压源构成，在涂布开始时两者连接，对涂布珠与支持体接触的部位进行减压。” [0021]：“减压装置10通过管道13连接缓冲罐11和鼓风机12。另外，缓冲罐11连接有一根或多根管道14，管道14安装有节流孔15。”管道14连接至减压室。 | 对比文件公开了缓冲罐（压力振荡减低箱）通过管道连接至减压室（真空室），因此技术特征G被直接公开。 |
| **技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接（直接公开）** | [0021]：“减压装置10通过管道13连接缓冲罐11和鼓风机12。另外，缓冲罐11连接有一根或多根管道14，管道14安装有节流孔15。”鼓风机12相当于真空泵，管道14连接至减压室。 | 对比文件公开了连接鼓风机（真空泵）的管道（如管道14）与减压室的一侧相连接，因此技术特征H被直接公开。 |
| **技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接（未公开）** | 无公开内容。 | 对比文件公开的缓冲罐是串联在管道中，而非通过第二管道并联连接至第一管道的一侧，因此技术特征I未被公开。 |
| **技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力（未公开）** | [0023]提到压力调节器，但未明确压力表及其安装位置。 | 对比文件未公开压力表安装在第一管道一侧的具体结构，因此技术特征J未被公开。 |
| **技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1（隐含公开）** | [0020]：“减压室优选具有0.01～0.1m²的室截面积，因此在涂布宽度1m的情况下具有0.01～0.1m³的容积。” [0022]：“缓冲罐优选具有0.1～5m³的容积。” | 对比文件给出的减压室容积范围（0.01～0.1m³）和缓冲罐容积范围（0.1～5m³）表明缓冲罐容积通常大于减压室容积，即V1≤V2，因此本领域技术人员可以合理推断出对比文件的装置满足公式1，技术特征K被隐含公开。 |
| **技术特征L：[公式1]（未公开）** | 无。 | 对比文件未出现公式1的标识或内容，因此技术特征L未被公开。 |
| **技术特征M：V1≤V2（隐含公开）** | 同特征K。 | 同特征K，由容积范围可推断出V1≤V2，因此技术特征M被隐含公开。 |
| **技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积（直接公开）** | [0020]：“减压室优选具有0.01～0.1m²的室截面积，因此在涂布宽度1m的情况下具有0.01～0.1m³的容积。” | 对比文件明确给出了真空室的体积概念和范围，因此技术特征N被直接公开。 |
| **技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积（直接公开）** | [0022]：“缓冲罐优选具有0.1～5m³的容积。” | 对比文件明确给出了缓冲罐（压力振荡减低箱）的体积概念和范围，因此技术特征O被直接公开。 |
| **技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2（未公开）** | 无。 | 对比文件未公开任何与公式2类似的关系式，因此技术特征P未被公开。 |
| **技术特征Q：[公式2]（未公开）** | 无。 | 对比文件未出现公式2的标识或内容，因此技术特征Q未被公开。 |
| **技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW（未公开）** | 无。 | 对比文件未公开该公式，因此技术特征R未被公开。 |
| **技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m³)（直接公开）** | 同特征N，[0020]中使用m³单位。 | 对比文件公开了真空室体积以m³为单位，因此技术特征S被直接公开。 |
| **技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m³)（直接公开）** | 同特征O，[0022]中使用m³单位。 | 对比文件公开了缓冲罐体积以m³为单位，因此技术特征T被直接公开。 |
| **技术特征U：A为1m³/N至20m³/N（未公开）** | 无。 | 对比文件未公开常数A及其范围，因此技术特征U未被公开。 |
| **技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m²)（未公开）** | 无。 | 对比文件虽提到减压度，但未明确以N/m²为单位，且未关联公式，因此技术特征V未被公开。 |
| **技术特征W：P2表示大气压力(N/m²)（未公开）** | 无。 | 对比文件未公开大气压力参数，因此技术特征W未被公开。 |
| **技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m)（未公开）** | 无。 | 对比文件虽提到间隙，但未关联公式，因此技术特征X未被公开。 |
| **技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)（未公开）** | 无。 | 对比文件未公开涂层的水平长度参数，因此技术特征Y未被公开。 |
| **技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜（直接公开）** | [0019]：“涂布装置1在涂布涂布液22时，通过移动机构配置为与背辊21相对。”背辊21即支撑基膜的辊，基膜在背辊上行进。 | 对比文件公开了基膜通过背辊（辊）供应，因此技术特征Z被直接公开。 |
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