对比文件名称：1998-06-18_JP276771B_发明专利_JP276771B2 Coating applicator
目标专利名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
本次调用的模型名称：AI语言模型
| 技术特征及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括狭缝式模具 未公开 | 对比文件公开了“カーテン塗布用ダイ”（帘式涂布模具），未提及狭缝式模具。 | 对比文件涉及帘式涂布装置，其模具为帘式涂布模具，与目标专利的狭缝式模具结构和工作原理不同，本领域技术人员不能从对比文件直接或隐含得出狭缝式模具。 |
| 技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液 未公开 | 同上，对比文件公开帘式涂布模具向基膜供应涂布液，但并非狭缝式模具。 | 由于特征A未公开，特征B也未公开。对比文件未公开狭缝式模具，故未公开该特征。 |
| 技术特征C：真空室 《直接公开》 | 对比文件原文：“該自由落下塗布液膜衝突部の上流側のバックアップローラに対向する減圧室を設け”（在自由落下涂布液膜碰撞部的上游侧设置与背辊相对的减压室）。 | 对比文件的“減圧室”与目标专利的“真空室”均为负压腔室，用于在涂布过程中提供负压环境以提高涂布稳定性，其作用相同。目标专利说明书指出真空室用于提高涂布稳定性，对比文件同样通过减压室去除伴随空气来防止涂布不均，因此该特征被直接公开。 |
| 技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端 未公开 | 对比文件显示减压室设置在与背辊相对的位置，并未安装在模具前端。图1中减压室6位于背辊5附近，远离模具1。 | 目标专利的真空室安装在狭缝式模具前端，而对比文件的减压室安装在背辊对面，位置不同。对比文件未教导或暗示将减压室安装在模具前端，故未公开。 |
| 技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙 《直接公开》 | 对比文件原文：“該減圧室周囲壁とウエブとの間隙が1mm以下でかつウエブと接触しない範囲であり”（该减压室周围壁与基材之间的间隙为1mm以下且不接触基材的范围）。 | 对比文件明确公开了减压室与基材之间的间隙，且限定了间隙宽度。目标专利的间隙同样是真空室与基膜之间的间隙，因此该特征被直接公开。 |
| 技术特征F：压力振荡减低箱 未公开 | 对比文件未提及任何类似于压力振荡减低箱的独立箱体。 | 目标专利的压力振荡减低箱是用于降低真空室内压力振荡的独立体积，对比文件仅设有减压室和吸引装置，无额外箱体，故未公开。 |
| 技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室 未公开 | 对比文件未公开压力振荡减低箱，故无连接关系。 | 同上。 |
| 技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接 《隐含公开》 | 对比文件原文：“減圧室6は、吸引装置（ブロアー）7とつながっている”（减压室6与吸引装置（鼓风机）7连接）。 | 对比文件公开了减压室与吸引装置（相当于真空泵）的连接，本领域技术人员可以合理推断该连接通过管道实现，且管道连接在减压室的一侧，因此隐含公开了该特征。目标专利中的第一管道与真空泵连接，作用相同。 |
| 技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接 未公开 | 对比文件无压力振荡减低箱，故无第二管道。 | 对比文件未公开任何第二管道或压力振荡减低箱，故未公开。 |
| 技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力 未公开 | 对比文件未提及任何压力表。 | 对比文件未公开压力表，故未公开。 |
| 技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1 未公开 | 对比文件未记载任何公式。 | 对比文件完全没有涉及公式1的内容，故未公开。 |
| 技术特征L：[公式1] 未公开 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征M：V1≤V2 未公开 | 同上。 | 对比文件未公开真空室体积与压力振荡减低箱体积的关系，故未公开。 |
| 技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积 未公开 | 对比文件未公开真空室的体积参数。 | 对比文件未提及真空室体积，故未公开。 |
| 技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积 未公开 | 对比文件未公开压力振荡减低箱及其体积。 | 同上。 |
| 技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2 未公开 | 对比文件未记载任何公式。 | 对比文件没有公开公式2。 |
| 技术特征Q：[公式2] 未公开 | 同上。 | 同上。 |
| 技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW 未公开 | 同上。 | 对比文件未公开该不等式关系。 |
| 技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m3) 未公开 | 对比文件未公开。 | 对比文件未定义V1且未涉及体积单位。 |
| 技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3) 未公开 | 对比文件未公开。 | 对比文件未定义V2。 |
| 技术特征U：A为1m3/N至20m3/N 未公开 | 对比文件未公开。 | 对比文件未定义A。 |
| 技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m2) 未公开 | 对比文件公开了减压度（水柱10mm以下），但未定义P1。 | 对比文件未以符号P1表示压力，也未给出压力单位N/m2，故未公开。 |
| 技术特征W：P2表示大气压力(N/m2) 未公开 | 对比文件未公开。 | 对比文件未涉及大气压力符号。 |
| 技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m) 未公开 | 对比文件公开了间隙宽度（1mm以下），但未以符号D表示，也未指定单位m。 | 虽然对比文件公开了间隙宽度，但特征X要求以符号D表示且单位m，对比文件未明确赋予符号，且未定义在公式中，故未公开该特征的定义形式。 |
| 技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m) 未公开 | 对比文件未公开涂层的水平长度。 | 对比文件未涉及涂层水平长度的定义，故未公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜 《直接公开》 | 对比文件公开了“連続走行しているウエブ”（连续走行的基材）以及“バックアップローラ”（背辊），表明基材通过辊支撑和供应。 | 对比文件明确基材为连续走行的基材，并由背辊支撑，因此基膜是通过辊供应的，该特征被直接公开。目标专利同样使用辊供应的基膜，作用相同。 |
<<<C>>><<<E>>><<<Z>>><<<h>>>