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对比文件列表
2001-06-05_US6243199B_发明授权_US06243199B1 Broad band wire grid polarizing beam splitter for use in the visible wavelength region_+++A_B_C_D_G_Q_R_V_s+++.docx
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2002-11-14_CA2445750A_发明专利_CA2445750A1 POLARIZING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF_+++A_B_D_G_Q_R_V_c+++.docx
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2002-11-15_JP2002328222A_发明专利_JP2002328222A Polarizing element and method for manufacturing the same_+++A_B_D_G_Q_R_V_c+++.docx
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2004-02-04_EP1387190A_发明公开_EP1387190A1 POLARIZING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME_+++A_B_D_G_Q_R_V_c_s+++.docx
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2004-08-11_CN1520524A_发明公开_CN1520524A 偏光元件及其制造方法_+++A_B_D_G_Q_R_V_c+++.docx
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2004-12-02_US2004239833A_发明申请_US20040239833A1 Polarizing device, and method for manufacturing the same_+++A_B_C_D_G_Q_R_V+++.docx
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2006-07-06_US2006146231A_发明申请_US20060146231A1 Polarization control element, manufacturing method of polarization control element, design method of polarization control element, and electronic equipmen_+++A_B_C_D_G_N_Q_R_V+++.docx
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2007-10-30_US7289173B_发明授权_US07289173B2 Polarizing device, and method for manufacturing the same_+++A_B_D_G_Q_R_V_c+++.docx
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2008-01-24_US2008018997A_发明申请_US20080018997A1 Polarizing element_+++A_B_C_D_G_Q_R_V+++.docx
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2008-02-21_WO2008022099A_发明申请_WO2008022099A2 POLARIZER FILMS AND METHODS OF MAKING THE SAME_+++A_B_C_D_G_Q_R_V_e_f_s_t_u_y_z+++.docx
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2008-03-04_US7339734B_发明授权_US07339734B2 Polarization control element, manufacturing method of polarization control element, design method of polarization control element, and electronic equipment_+++A_B_C_D_G_N_Q_R_V_s+++.docx
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2008-12-31_WO2009002573A_发明申请_WO2009002573A1 DURABLE, INORGANIC, ABSORPTIVE, ULTRA-VIOLET, GRID POLARIZER_+++A_B_C_D_G_Q_R_V_e_f_o_p_s_t_u_y_z+++.docx
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2009-02-12_US2009041971A_发明申请_US20090041971A1 POLARIZER FILMS AND METHODS OF MAKING THE SAME_+++A_B_C_D_E_F_G_Q_R_V_s_t_u_y_z+++.docx
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2009-02-26_US2009053655A_发明申请_US20090053655A1 Methods for forming patterned structures_+++A_B_D_G_Q_R_v+++.docx
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2009-09-17_US2009231702A_发明申请_US20090231702A1 OPTICAL FILMS AND METHODS OF MAKING THE SAME_+++A_B_C_D_G_N_Q_R_V_e_f_s_t_u_y_z+++.docx
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2010-01-14_JP2010501085A_发明专利_JP2010501085A Polarizer thin film and this fabrication method_+++A_B_C_D_G_Q_R_V_e_f_s_t_u_y_z+++.docx
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2010-03-25_US2010072170A_发明申请_US20100072170A1 SHORT PITCH METAL GRATINGS AND METHODS FOR MAKING THE SAME_+++A_B_C_D_G_Q_R_V_s_y_z+++.docx
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2010-05-13_KR1020100049766A_发明公开_KR1020100049766A 편광 소자의 제조 방법_+++A_B_G_Q_R_d_s_v+++.docx
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2010-09-24_JP2010531467A_发明专利_JP2010531467A Resistant, and inorganic ultraviolet-grid polarizer having an absorbent_+++A_B_C_D_G_Q_R_V_e_f_o_p_s_t_u_y_z+++.docx
2026-07-29 11:00
2010-10-21_US2010265571A_发明申请_US20100265571A1 OPTICAL FILMS AND METHODS OF MAKING THE SAME_+++A_B_D_G_Q_R_V_c_s_t_u+++.docx
2026-07-29 11:00
2010-11-03_CN101876722A_发明公开_CN101876722A 线栅偏振器_+++A_B_E_G_N_Q_R_V_X_d_f_s_t_u_y_z+++.docx
2026-07-29 11:00
2010-11-05_KR1020100118539A_发明公开_KR1020100118539A 와이어 그리드 편광자_+++A_B_C_D_E_G_N_R_S_V_X_o_y_z+++.docx
2026-07-29 11:00
2010-12-09_JP2010277077A_发明专利_JP2010277077A Wire grid polarizer_+++A_B_C_D_E_G_N_Q_R_S_V_X_o+++.docx
2026-07-29 11:00
WO02091044A1_Description_20260718_2001_+++A_B_D_G_Q_R_V_c+++.docx
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2006-07-06_US2006146231A_发明申请_US20060146231A1 Polarization control element, manufacturing method of polarization control element, design method of polarization control element, and electronic equipmen_+++A_B_C_D_G_N_Q_R_V+++.docx

在回答的开始明确对比文件名称、目标专利名称和模型名称。

**对比文件名称**:2006-07-06_US2006146231A_发明申请_US20060146231A1 Polarization control element, manufacturing method of polarization control element, design method of polarization control element, and electronic equipment

**目标专利名称**:1754偏振光分离元件CN104105987B

**本次调用的模型名称**:GPT-4(或指定模型,此处按要求填写)

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### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(翻译成中文,标注段落号)公开性论述
**技术特征A:包括基板**<br> **《直接公开》**对比文件[0074]:“在基板表面上形成金属薄膜101和抗反射膜102”;“使用1mm厚的玻璃基板作为基板100”。对比文件明确公开了偏振控制元件包括基板(玻璃基板),该基板用于支撑条纹结构,其作用与目标专利中基板支撑凹凸结构完全相同,因此直接公开。
**技术特征B:凹凸结构**<br> **《直接公开》**对比文件[0030]:“偏振控制元件…配备有周期排列的条纹结构”;[0032]:“条纹结构由第二介质构成,周期为L1,宽度为L2”。对比文件公开的“条纹结构”具有周期性凸起和间隙,相当于目标专利的凹凸结构,且同样用于偏振分离,作用相同,因此直接公开。
**技术特征C:所述凹凸结构具有包含吸光材料的凸出部**<br> **《直接公开》**对比文件[0030]:“条纹结构由第二介质构成”;[0048]:“第二介质由铝形成”;[0056]:“第二介质由钼形成”。对比文件公开的条纹结构凸起部由第二介质(铝、钼等)构成,这些材料具有吸光性,属于吸光材料,因此直接公开。
**技术特征D:和包含介电材料的凹入部**<br> **《直接公开》**对比文件[0030]:“偏振控制元件置于第一介质(例如空气)中”;条纹结构的间隙由第一介质(空气)填充。对比文件公开了凹入部(条纹之间的间隙)由第一介质(空气)填充,空气属于介电材料,因此直接公开。
**技术特征E:所述吸光材料相对于波长为300nm的光的折射率为1至10**<br> **《未公开》**无直接对应内容。对比文件[0048]仅给出铝在650nm的折射率1.57,未涉及300nm波长。对比文件未公开吸光材料在300nm波长下的折射率,更未公开1至10的范围,因此未公开。
**技术特征F:消光系数为0.5至10**<br> **《未公开》**无直接对应内容。对比文件[0048]给出铝在650nm的消光系数7.97,但波长不同。对比文件未公开吸光材料在300nm波长下的消光系数,也未公开0.5至10的范围,因此未公开。
**技术特征G:所述凹凸结构形成于所述基板上**<br> **《直接公开》**对比文件[0080]:“在基板100上获得偏振控制元件”。对比文件公开了条纹结构直接形成在基板上,与目标专利的凹凸结构形成于基板上相同,因此直接公开。
**技术特征H:其中,在以下公式1中,a为0.74至10**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开公式1及其参数a,更未公开0.74至10的范围,因此未公开。
**技术特征I:b为0.5至10**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开公式1中的参数b及其范围,因此未公开。
**技术特征J:在以下公式2中,c为1.3至10**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开公式2及其参数c,因此未公开。
**技术特征K:d为0.013至0.1**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开公式2中的参数d及其范围,因此未公开。
**技术特征L:[公式1] (a+bi)²=n1²×(1-W/P)+n2²×W/P**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开公式1,也未公开类似形式,因此未公开。
**技术特征M:[公式2] (c+di)²=n1²×n2²/((1-W/P)×n2²+W×n1²/P)**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开公式2,也未公开类似形式,因此未公开。
**技术特征N:其中,i为虚数**<br> **《直接公开》**对比文件[0034]:“j是虚数单位”。对比文件公开了复介电常数表达式中使用虚数单位j,本领域技术人员已知i与j等价,因此直接公开了虚数单位的概念。
**技术特征O:n1表示所述介电材料相对于波长为300nm的光的折射率**<br> **《未公开》**无。对比文件未定义n1,更未限定其与300nm波长的关联,因此未公开。
**技术特征P:n2表示所述凸出部相对于波长为300nm的光的折射率**<br> **《未公开》**无。对比文件未定义n2,未涉及300nm波长下的折射率,因此未公开。
**技术特征Q:W表示所述凸出部的宽度**<br> **《直接公开》**对比文件[0032]:“宽度L2”。对比文件公开了条纹结构中凸出部的宽度参数L2,相当于本发明的W,因此直接公开。
**技术特征R:P表示所述凸出部的间距**<br> **《直接公开》**对比文件[0032]:“周期L1”。对比文件公开了条纹结构的周期L1,相当于本发明的间距P,因此直接公开。
**技术特征S:其中,所述介电材料相对于波长为250nm至350nm的光的折射率为1至3**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开介电材料(空气或其他)在紫外区的折射率范围,虽然空气折射率约1,但对比文件未明确指出或限定,因此未公开。
**技术特征T:其中,所述凸出部相对于波长为250nm至350nm的光的折射率为1至10**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开凸出部材料在250-350nm波长下的折射率,更未公开1至10的范围,因此未公开。
**技术特征U:其中,所述凸出部相对于波长在紫外区的光的消光系数为0.5至10**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开凸出部材料在紫外区的消光系数范围,虽然铝在650nm有消光系数,但波长不同且未公开范围,因此未公开。
**技术特征V:其中,所述吸光材料为选自硅、氧化钛、氧化锌、氧化锆、钨、氧化钨、砷化镓、锑化镓、砷化铝镓、碲化镉、铬、钼、镍、磷化镓、砷化铟镓、磷化铟、锑化铟、碲化镉锌、氧化锡、氧化铯、钛酸锶、碳化硅、铱、氧化铱或碲化硒锌中的至少一种**<br> **《直接公开》**对比文件[0056]:“第二介质由钼形成”。对比文件公开了钼作为第二介质(吸光材料),而钼明确列于目标专利的吸光材料列表中,因此直接公开了列表中的至少一种材料。
**技术特征W:由公式3计算的D为0.67至0.98**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开公式3,也未公开D的计算方法或范围,因此未公开。
**技术特征X:[公式3] D=(Tc-Tp)/(Tc+Tp)**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开公式3,也未公开Tc、Tp的定义,因此未公开。
**技术特征Y:其中,Tc表示在垂直于所述凸出部的方向上偏振的波长为250nm至350nm的光相对于所述偏振光分离元件的透射率**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开Tc的定义,也未涉及250-350nm波长范围,因此未公开。
**技术特征Z:Tp表示在平行于所述凸出部的方向上偏振的波长为250nm至350nm的光相对于所述偏振光分离元件的透射率**<br> **《未公开》**无。对比文件未公开Tp的定义,也未涉及250-350nm波长范围,因此未公开。

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**结论:**

对比文件直接公开了技术特征A、B、C、D、G、N、Q、R、V,未公开其他技术特征。

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