对比文件名称：1999-02-01_KR200132642Y_实用新型_KR200132642Y1 버블러
目标专利名称：1830用于对物体进行湿处理的设备和方法及其中所用的流体扩散板和筒体CN102246277B
本次调用的模型名称：DeepSeek-R1
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述流体扩散板包括 《直接公开》 | 对比文件说明书第1段：“本设计涉及半导体制造设备中清洗设备上安装的气泡产生器（bubbler）。” 第2段：“在具有矩形平板形状的特氟龙基板（10）上，规则地布置有多个微小孔（20）。” | 对比文件公开的是一种气泡产生器，其功能是在湿处理设备中扩散气体和液体，与目标专利的流体扩散板作用相同，均属于用于扩散处理流体的板状构件。因此，本领域技术人员可以直接确定对比文件公开了流体扩散板这一构件。 |
| 技术特征B：内部空间 《隐含公开》 | 对比文件说明书第2段：“具有用于向每个微小孔（20）供应氮气的氮气注入孔（30）。” 以及“在大直径孔（40）的内壁上也布置有通过氮气注入孔（30）供应氮气的微小孔（20'）。” | 对比文件未明确描述内部空间，但为了将气体从单一的氮气注入孔均匀分配到位于基板不同位置（上表面和大直径孔内壁）的多个微小孔，基板内部必然存在气体分配通道或空腔（即内部空间）。本领域技术人员根据公知常识可以合理推断出该内部空间的存在，因此该特征被隐含公开。 |
| 技术特征C：其由上表面、下表面和侧表面限定 《隐含公开》 | 对比文件说明书第2段：“在具有矩形平板形状的特氟龙基板（10）上。” | 对比文件公开的矩形平板形状基板具有上表面、下表面和侧表面。当隐含内部空间时，该空间必然由基板的上表面、下表面和侧表面所限定，因此该特征被隐含公开。 |
| 技术特征D：流体供应单元 《直接公开》 | 对比文件说明书第2段：“具有用于向每个微小孔（20）供应氮气的氮气注入孔（30）。” 第3段：“通过氮气注入孔（30）供应氮气。” | 对比文件中的氮气注入孔（30）是专门用于向微小孔供应气体的结构，相当于目标专利中的流体供应单元，用于将处理流体（气体）供应至装置内部。因此直接公开。 |
| 技术特征E：其用于将处理流体供应至所述内部空间 《隐含公开》 | 对比文件说明书第2段：“具有用于向每个微小孔（20）供应氮气的氮气注入孔（30）。” 第3段：“通过氮气注入孔（30）供应氮气。” | 基于内部空间隐含存在，氮气注入孔所供应的氮气必然先进入该内部空间，再通过内部通道分配至各个微小孔。因此，本领域技术人员可以合理推断出氮气注入孔用于将处理流体供应至内部空间，该特征被隐含公开。 |
| 技术特征F：其中贯穿所述上表面和所述下表面形成有多个通孔 《直接公开》 | 对比文件说明书第2段：“具有至少一个孔形状的清洗液流通装置，即大直径孔（40）。” 第3段：“大直径孔（40）的直径30mm至60mm，贯穿基板。” | 对比文件中的大直径孔（40）是贯穿基板上下表面的通孔，用于让清洗液通过，与目标专利中贯穿上表面和下表面的通孔结构相同、作用相同。因此直接公开。 |
| 技术特征G：使得所述通孔通过隔板与所述内部空间隔离；并且其中在所述上表面的未形成所述通孔的部分形成有穿过所述上表面与所述内部空间连通的多个流体排放孔 《未公开》 | 对比文件说明书第3段：“在大直径孔（40）的内壁上也布置有通过氮气注入孔（30）供应氮气的微小孔（20'）。” 第2段：“在具有矩形平板形状的特氟龙基板（10）上，规则地布置有多个微小孔（20）。” | 对比文件中的大直径孔（通孔）内壁上设有微小孔（20'），使得通孔与气体通道连通，而非隔离，这与目标专利中通孔通过隔板与内部空间隔离的技术手段相反。同时，上表面的微小孔（20）虽可视为流体排放孔，但未明确其与内部空间连通，且整体结构未公开通孔与内部空间隔离的特征。因此，对比文件既未直接公开也未隐含公开技术特征G。 |
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