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对比文件列表
1996-07-23_US5538821A_发明授权_US5538821A Resist ink composition and cured article prepared therefrom_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_K_L_M+++.docx
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1998-12-22_US5852136A_发明授权_US5852136A Curable coating composition_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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2002-11-27_JP2002338652A_发明专利_JP2002338652A Aqueous alkaline solution-soluble urethane forming epoxycarboxylate compound, photosensitive resin composition using the same and its hardened material_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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2005-10-27_JP2005300764A_发明专利_JP2005300764A Curable resin composition, resist pattern forming method, and resin cured object_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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2005-12-02_JP2005331938A_发明专利_JP2005331938A Photosensitive composition for black matrix_+++C_D_G_H_I_J_K+++.docx
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2006-06-08_None_发明专利_JPWO2004079452A1 感光性樹脂組成物及びその硬化物_+++B_C_E_F_G_H_M_l+++.docx
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2007-06-07_KR100725432B_发明授权_KR100725432B1 감광성 수지 조성물 및 그 경화물_+++C_E_F_G_H_L_M+++.docx
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2007-07-19_US2007166642A_发明申请_US20070166642A1 Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof_+++A_B_C_E_F_G_H_L_M_d+++.docx
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2008-04-03_JP2008074938A_发明专利_JP2008074938A Photosensitive resin composition and its cured product_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_L_M_k+++.docx
2026-07-29 13:28
WO02094904A1_Description_20260718_2106_+++B_C_E_F_G_H+++.docx
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WO2004079452A1_Description_20260718_2107_+++C_G_H_L_M+++.docx
2026-07-29 13:28
WO02094904A1_Description_20260718_2106_+++B_C_E_F_G_H+++.docx

对比文件名称:WO02094904A1_Description_20260718_2106

目标专利名称:1831氨基甲酸酯多官能单体、该单体的制备方法及含有该单体的光敏树脂组合物CN101998947B

本次调用的模型名称:GPT-4o

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
技术特征A:通过反应如下化合物制备(反应物为(a)(b)(c))。公开性判断:未公开。对比文件公开了通过反应化合物(A)(B)(C)等制备聚氨酯化合物(F),其中化合物(A)由(a)和(b)(含不饱和基的单羧酸)反应得到,但未公开使用同时含烯键式不饱和基和异氰酸酯基的化合物(c)作为反应物。对比文件中的反应物组合与目标专利不同,缺少化合物(c)的关键限定,因此本领域技术人员无法从对比文件直接得到该技术特征,且对比文件未暗示该组合,故未公开。
技术特征B:(a)一种具有两个以上环氧基的环氧化合物。公开性判断:直接公开。对比文件在“発明の開示”部分明确记载:“分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)”,并在具体实施方式中列举了多种具体化合物,如ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等。对比文件明确公开了环氧化合物(a)具有两个以上环氧基,且给出了具体例子,因此该特征被直接公开。
技术特征C:(b)一种具有酸基团的二元醇化合物。公开性判断:直接公开。对比文件记载:“分子中に2個の水酸基を有するカルボン酸化合物(C)”,并举例ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等,这些化合物均具有酸基团(羧基)和两个羟基(二元醇)。对比文件中的化合物(C)与目标专利的(b)在结构和功能上完全相同,均用作提供酸基团和羟基的反应物,因此直接公开。
技术特征D:(c)一种具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物。公开性判断:未公开。对比文件公开了二异氰酸酯化合物(B)和含烯键式不饱和基的化合物(A)或(E),但未公开任何同时含有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的单一化合物。对比文件没有公开或暗示使用此类双官能团化合物,本领域技术人员从对比文件无法直接得到该特征,也不隐含公开。
技术特征E:其中所述(a)具有两个以上环氧基的环氧化合物选自。公开性判断:直接公开。对比文件在列举环氧化合物时使用了“例えば、...が挙げられる”的表述,表明环氧化合物选自这些种类。对比文件明确给出了环氧化合物的选择范围,公开了“选自”这一限定,因此直接公开。
技术特征F:双酚A环氧树脂和芳族环氧树脂。公开性判断:直接公开。对比文件具体列举了“ビスフェノールA型エポキシ樹脂”(双酚A型环氧树脂)以及“ビフェノール型エポキシ化合物”(联苯型环氧树脂,属于芳族环氧树脂)等。对比文件明确公开了双酚A环氧树脂和芳族环氧树脂,因此直接公开。
技术特征G:其中所述b)具有酸基团的二元醇化合物由下式I表示(式I:二羟甲基丙酸/二羟甲基丁酸)。公开性判断:直接公开。对比文件具体记载了“ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等のジオール化合物”,这些正是式I所代表的化合物。对比文件公开的化合物与式I完全一致,因此直接公开。
技术特征H:其中R1为甲基或乙基。公开性判断:直接公开。对比文件公开的二羟甲基丙酸对应R1为甲基,二羟甲基丁酸对应R1为乙基。对比文件公开了这两种具体化合物,因此直接公开了R1为甲基或乙基。
技术特征I:其中所述c)具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物由下式II表示。公开性判断:未公开。对比文件未公开任何具有式II结构的化合物。对比文件没有公开或暗示式II化合物,因此未公开。
技术特征J:其中R2为氢或C1-C5烷基。公开性判断:未公开。对比文件未公开式II化合物,故未公开R2的限定。无公开。
技术特征K:n为1-12的整数。公开性判断:未公开。对比文件未公开式II化合物,故未公开n的限定。无公开。
技术特征L:还包括。公开性判断:未公开。对比文件未公开在单体合成中还包括酸酐。对比文件没有教导或暗示在单体制备过程中添加酸酐,因此未公开。
技术特征M:丁二酸酐、戊二酸酐、甲基丁二酸酐、马来酸酐、甲基马来酸酐、邻苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、顺-5-降冰片烯-(内型,外型)-2,3-二羧酸酐,或其组合。公开性判断:未公开。对比文件没有列出这些酸酐。对比文件未公开任何这些酸酐,因此未公开。

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