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对比文件列表
1990-04-17_US4918150A_发明授权_US4918150A Composition comprising vinyl ester, unsaturated urethane and polybasic acid_+++B_D_E_F_L_m+++.docx
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1990-07-24_US4943516A_发明授权_US4943516A Photosensitive thermosetting resin composition and method of forming solder resist pattern by use thereof_+++B_D_E_F_L_M_i_j_k+++.docx
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1991-04-16_US5008351A_发明授权_US5008351A Reacting epoxy resin and substituted urea or biuret with blocked isocyanate group dicarboxylic anhydride compound product_+++B_E_F_L_m+++.docx
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1995-01-11_EP0633503A_发明公开_EP0633503A1 Photopolymerisierbare Zusammensetzungen_+++E_F_L_M_b+++.docx
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1996-07-23_US5538821A_发明授权_US5538821A Resist ink composition and cured article prepared therefrom_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_K_L_M+++.docx
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1997-06-17_US5639828A_发明授权_US5639828A Carbamate or isocyanate component, carbamate-reactive or active H component and epoxide_+++B_D_E_F_l_m+++.docx
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1997-07-09_EP0633503B_发明授权_EP0633503B1 Photopolymerisierbare Zusammensetzungen_+++B_E_F_L_M+++.docx
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1998-05-26_US5756600A_发明授权_US5756600A Urethane-modified epoxy vinyl ester resin_+++B_D_E_F_I_J_K_L_M+++.docx
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2001-11-30_KR100299264B_发明授权_KR100299264B1 광중합성조성물_+++B_E_F_L_m+++.docx
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2006-06-08_None_发明专利_JPWO2004079452A1 感光性樹脂組成物及びその硬化物_+++B_C_E_F_G_H_M_l+++.docx
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2007-06-07_KR100725432B_发明授权_KR100725432B1 감광성 수지 조성물 및 그 경화물_+++C_E_F_G_H_L_M+++.docx
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2007-07-19_US2007166642A_发明申请_US20070166642A1 Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof_+++A_B_C_E_F_G_H_L_M_d+++.docx
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2007-08-09_US2007185297A_发明申请_US20070185297A1 Primer, conductor foil with resin, laminated sheet and method of manufacturing laminated sheet_+++B_F_M_e_l+++.docx
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2008-04-03_JP2008074938A_发明专利_JP2008074938A Photosensitive resin composition and its cured product_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_L_M_k+++.docx
2026-07-29 13:28
2008-04-24_US2008096133A_发明申请_US20080096133A1 PHOTOCURABLE AND THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF AND PRINTED CIRCUIT BOARD OBTAINED USING THE SAME_+++B_D_E_F_l_m+++.docx
2026-07-29 13:28
WO2004079452A1_Description_20260718_2107_+++C_G_H_L_M+++.docx
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1991-04-16_US5008351A_发明授权_US5008351A Reacting epoxy resin and substituted urea or biuret with blocked isocyanate group dicarboxylic anhydride compound product_+++B_E_F_L_m+++.docx

对比文件名称:1991-04-16_US5008351A_发明授权_US5008351A Reacting epoxy resin and substituted urea or biuret with blocked isocyanate group dicarboxylic anhydride compound product

目标专利名称:1831氨基甲酸酯多官能单体、该单体的制备方法及含有该单体的光敏树脂组合物CN101998947B

模型名称:GPT-4

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
特征A:通过反应如下化合物制备(未公开)对比文件公开了通过反应制备自交联阳离子涂料粘合剂,具体为:将聚环氧树脂与羧基化合物反应,该羧基化合物通过取代脲或缩二脲与二羧酸酐反应制得,然后与胺反应(参见对比文件说明书GENERAL DESCRIPTION OF INVENTION部分,[2]段)。目标专利的特征A限定单体通过特定三种反应物(环氧化合物、二元醇化合物、乙烯基异氰酸酯化合物)反应制备,对比文件公开的制备方法使用的反应物完全不同(羧基化合物、环氧树脂、胺),本领域技术人员不能从对比文件毫无疑义地得出特征A的技术方案,因此未公开。
特征B:一种具有两个以上环氧基的环氧化合物(直接公开)对比文件明确记载“聚环氧树脂,例如二环氧树脂,环氧当量160-2000”(参见说明书GENERAL DESCRIPTION OF INVENTION部分,[2]段)以及“本发明优选的环氧树脂是双酚A或双酚F的二缩水甘油醚、酚醛清漆树脂的多缩水甘油醚、多元醇的二缩水甘油醚及其混合物”(参见同一部分)。对比文件直接公开了具有两个以上环氧基的环氧化合物,且列举了具体种类,与目标专利的特征B实质相同,因此直接公开。
特征C:一种具有酸基团的二元醇化合物(未公开)对比文件公开了羧基化合物,其结构为HOOC-R1-CO-NR2-CO-NH-R3-/NCO/,该化合物是单羧酸,不含有二元醇结构(参见GENERAL DESCRIPTION OF INVENTION部分,[2]段)。对比文件未公开任何具有酸基团的二元醇化合物,特别是未公开如二羟甲基丙酸等同时含有羧基和两个羟基的二元醇,因此未公开特征C。
特征D:一种具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物(未公开)对比文件公开了具有封闭异氰酸酯基团的化合物,即/NCO/表示封闭异氰酸酯基,但未公开任何含有乙烯不饱和基的化合物(参见GENERAL DESCRIPTION OF INVENTION部分,[2]段)。对比文件未公开含有乙烯不饱和基的异氰酸酯化合物,其封闭异氰酸酯基团在结构与功能上均不同于目标专利的乙烯基异氰酸酯,因此未公开特征D。
特征E:其中所述(a)具有两个以上环氧基的环氧化合物选自(直接公开)对比文件记载“本发明优选的环氧树脂是双酚A或双酚F的二缩水甘油醚、酚醛清漆树脂的多缩水甘油醚、多元醇的二缩水甘油醚及其混合物”(参见GENERAL DESCRIPTION OF INVENTION部分,[2]段)。对比文件直接公开了环氧化合物可自上述组中选择,与特征E“选自”的含义一致,因此直接公开。
特征F:双酚A环氧树脂和芳族环氧树脂(直接公开)对比文件明确记载了“双酚A的二缩水甘油醚”(参见GENERAL DESCRIPTION OF INVENTION部分,[2]段),以及“双酚F的二缩水甘油醚、酚醛清漆树脂的多缩水甘油醚”等芳族环氧树脂。对比文件直接公开了双酚A环氧树脂和芳族环氧树脂,因此特征F被直接公开。
特征G:其中所述b)具有酸基团的二元醇化合物由下式I表示(未公开)对比文件未记载任何如式I所示的二元醇化合物,其使用的羧基化合物为单羧酸,结构不同(参见GENERAL DESCRIPTION部分)。对比文件完全没有公开式I结构的化合物,因此未公开特征G。
特征H:其中R1为甲基或乙基(未公开)对比文件未公开式I中R1的定义。由于对比文件未公开式I化合物,因此对R1的更限定也未公开。
特征I:其中所述c)具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物由下式II表示(未公开)对比文件未公开式II结构的化合物,其公开的异氰酸酯基团是封闭的,且不含乙烯不饱和基。对比文件未公开任何式II化合物,因此未公开特征I。
特征J:其中R2为氢或C1-C5烷基(未公开)对比文件未公开式II中R2的定义。由于未公开式II,因此未公开R2。
特征K:n为1-12的整数(未公开)对比文件未公开式II中n的定义。未公开。
特征L:还包括(直接公开)对比文件记载“在应用前,它们任选地与颜料、增量剂、催化剂或其他常规涂料添加剂混合”(参见对比文件GENERAL DESCRIPTION部分末尾,[2]段)。对比文件直接公开了“还包括”其他组分的概念,本领域技术人员可以理解涂料组合物还可以包含其他添加剂,因此特征L直接公开。
特征M:丁二酸酐、戊二酸酐、甲基丁二酸酐、马来酸酐、甲基马来酸酐、邻苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、顺-5-降冰片烯-(内型,外型)-2,3-二羧酸酐,或其组合(隐含公开)对比文件记载“优选的二羧酸酐包括邻苯二甲酸酐、四氢苯酐、内亚甲基四氢苯酐、六氢苯酐、它们的核取代产物、马来酸酐或丁二酸酐”(参见GENERAL DESCRIPTION部分,[2]段)。对比文件明确公开了丁二酸酐、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、四氢苯酐(包括1,2,3,6-和3,4,5,6-异构体)、六氢苯酐、内亚甲基四氢苯酐(即顺-5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐)。虽然未列出戊二酸酐、甲基丁二酸酐、甲基马来酸酐,但对比文件公开了“核取代产物”,可能涵盖甲基取代的酸酐,且本领域技术人员根据对比文件公开的酸酐列表,容易想到使用这些常用的酸酐,因此特征M被对比文件隐含公开。

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