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对比文件列表
1990-04-17_US4918150A_发明授权_US4918150A Composition comprising vinyl ester, unsaturated urethane and polybasic acid_+++B_D_E_F_L_m+++.docx
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1990-07-24_US4943516A_发明授权_US4943516A Photosensitive thermosetting resin composition and method of forming solder resist pattern by use thereof_+++B_D_E_F_L_M_i_j_k+++.docx
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1991-04-16_US5008351A_发明授权_US5008351A Reacting epoxy resin and substituted urea or biuret with blocked isocyanate group dicarboxylic anhydride compound product_+++B_E_F_L_m+++.docx
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1995-01-11_EP0633503A_发明公开_EP0633503A1 Photopolymerisierbare Zusammensetzungen_+++E_F_L_M_b+++.docx
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1996-07-23_US5538821A_发明授权_US5538821A Resist ink composition and cured article prepared therefrom_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_K_L_M+++.docx
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1997-06-17_US5639828A_发明授权_US5639828A Carbamate or isocyanate component, carbamate-reactive or active H component and epoxide_+++B_D_E_F_l_m+++.docx
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1997-07-09_EP0633503B_发明授权_EP0633503B1 Photopolymerisierbare Zusammensetzungen_+++B_E_F_L_M+++.docx
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1998-05-26_US5756600A_发明授权_US5756600A Urethane-modified epoxy vinyl ester resin_+++B_D_E_F_I_J_K_L_M+++.docx
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2001-11-30_KR100299264B_发明授权_KR100299264B1 광중합성조성물_+++B_E_F_L_m+++.docx
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2006-06-08_None_发明专利_JPWO2004079452A1 感光性樹脂組成物及びその硬化物_+++B_C_E_F_G_H_M_l+++.docx
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2007-06-07_KR100725432B_发明授权_KR100725432B1 감광성 수지 조성물 및 그 경화물_+++C_E_F_G_H_L_M+++.docx
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2007-07-19_US2007166642A_发明申请_US20070166642A1 Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof_+++A_B_C_E_F_G_H_L_M_d+++.docx
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2007-08-09_US2007185297A_发明申请_US20070185297A1 Primer, conductor foil with resin, laminated sheet and method of manufacturing laminated sheet_+++B_F_M_e_l+++.docx
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2008-04-03_JP2008074938A_发明专利_JP2008074938A Photosensitive resin composition and its cured product_+++A_B_C_D_E_F_G_H_I_J_L_M_k+++.docx
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2008-04-24_US2008096133A_发明申请_US20080096133A1 PHOTOCURABLE AND THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF AND PRINTED CIRCUIT BOARD OBTAINED USING THE SAME_+++B_D_E_F_l_m+++.docx
2026-07-29 13:28
WO2004079452A1_Description_20260718_2107_+++C_G_H_L_M+++.docx
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1995-01-11_EP0633503A_发明公开_EP0633503A1 Photopolymerisierbare Zusammensetzungen_+++E_F_L_M_b+++.docx

对比文件名称:1995-01-11_EP0633503A_发明公开_EP0633503A1 Photopolymerisierbare Zusammensetzungen

目标专利名称:氨基甲酸酯多官能单体、该单体的制备方法及含有该单体的光敏树脂组合物CN101998947B

本次调用的模型名称:GPT-4

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译)公开性论述
技术特征A:通过反应如下化合物制备——未公开对比文件未公开氨基甲酸酯多官能单体的制备,而是公开了一种含酸基团的丙烯酸酯的制备,例如[0013]“反应产物:环氧树脂(如环氧酚醛清漆或双酚A环氧树脂)与(甲基)丙烯酸和多元环状羧酸酐”。对比文件制备的是丙烯酸酯化环氧树脂,不含氨基甲酸酯键,反应物中无二元醇化合物和异氰酸酯基化合物,因此未公开技术特征A。
技术特征B:(a)一种具有两个以上环氧基的环氧化合物——隐含公开[0013]“Epoxyverbindungen, wie Epoxynovolaken oder Bisphenol-A-Epoxyharzen”(环氧树脂,例如环氧酚醛清漆或双酚A环氧树脂)。对比文件公开了环氧树脂,本领域技术人员公知此类环氧树脂每个分子含有两个以上环氧基,且该环氧树脂在对比文件中作为反应物骨架,与目标专利中(a)的作用相同,均为提供环氧基与酸基团反应,因此隐含公开。
技术特征C:(b)一种具有酸基团的二元醇化合物——未公开对比文件未公开任何二元醇化合物,其使用的酸组分是(甲基)丙烯酸(一元羧酸)和酸酐,例如[0013]“mit (Meth)Acrylsäure und mehrbasischen cyclischen Carbonsäureanhydriden”。对比文件使用不饱和一元羧酸和酸酐,而非二元醇,未公开具有酸基团的二元醇化合物。
技术特征D:(c)一种具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物——未公开对比文件未公开任何含异氰酸酯基的化合物,其使用的烯键式不饱和化合物是(甲基)丙烯酸及其酯。对比文件不存在异氰酸酯基化合物,因此未公开技术特征D。
技术特征E:其中所述(a)具有两个以上环氧基的环氧化合物选自——直接公开[0013]“Epoxynovolaken oder Bisphenol-A-Epoxyharzen”(环氧酚醛清漆或双酚A环氧树脂)。对比文件直接列举了双酚A环氧树脂和环氧酚醛清漆(芳族环氧树脂),属于目标专利中“选自”范围,因此直接公开。
技术特征F:双酚A环氧树脂和芳族环氧树脂——直接公开[0013]“Bisphenol-A-Epoxyharzen”和“Epoxynovolaken”。对比文件明确公开了双酚A环氧树脂和环氧酚醛清漆(芳族环氧树脂),因此直接公开。
技术特征G:其中所述b)具有酸基团的二元醇化合物由下式I表示——未公开对比文件未出现式I化合物或类似结构。对比文件未公开任何二元醇化合物,更未公开式I具体结构,因此未公开。
技术特征H:其中R1为甲基或乙基——未公开对比文件无相关记载。对比文件未公开式I中的R1定义,因此未公开。
技术特征I:其中所述c)具有乙烯不饱和基和异氰酸酯基的化合物由下式II表示——未公开对比文件未出现式II化合物或类似结构。对比文件未公开任何含异氰酸酯基化合物,更未公开式II具体结构,因此未公开。
技术特征J:其中R2为氢或C1-C5烷基——未公开对比文件无相关记载。对比文件未公开式II中的R2定义,因此未公开。
技术特征K:n为1-12的整数——未公开对比文件无相关记载。对比文件未公开式II中的n定义,因此未公开。
技术特征L:还包括——直接公开[0057]“与丁二酸酐酯化”;[0062]“与四氢邻苯二甲酸酐酯化”。对比文件实施例1和2明确使用了酸酐,因此公开了“还包括”酸酐的技术特征,且酸酐作用与目标专利相同(引入酸基团)。
技术特征M:丁二酸酐、戊二酸酐、甲基丁二酸酐、马来酸酐、甲基马来酸酐、邻苯二甲酸酐、1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐、3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、顺-5-降冰片烯-(内型,外型)-2,3-二羧酸酐,或其组合——直接公开[0057]“Bernsteinsäureanhydrid”(丁二酸酐);[0062]“Tetrahydrophthalsäure”(四氢邻苯二甲酸酐)。对比文件直接公开了丁二酸酐和四氢邻苯二甲酸酐,二者均属于M列表中的物质,且M限定为“或其组合”,因此直接公开。

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