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对比文件列表
2001-11-16_JP2001320235A_发明专利_JP2001320235A Voltage controlled oscillator_+++G_H_K_f_i_j+++.docx
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2003-04-25_JP2003124362A_发明专利_JP2003124362A Non-volatile semiconductor memory and method of driving the same_+++H+++.docx
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2003-05-07_JP2003516083A_发明专利_JP2003516083A Process, voltage, and a method and circuit for automatically tuning the filter circuit against temperature_+++F_G_J_K_h+++.docx
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2004-01-20_US6681102B_发明授权_US06681102B1 Adjustable filter_+++F_G_H_J_a_b_k+++.docx
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2005-02-24_US2005040909A_发明申请_US20050040909A1 Broadband integrated digitally tunable filters_+++G_H_k+++.docx
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2005-08-25_WO2005078916A_发明申请_WO2005078916A1 PROGRAMMABLE RADIO TRANSCEIVER_+++G_H_J_i+++.docx
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2006-05-11_JP2006121187A_发明专利_JP2006121187A Semiconductor switching circuit_+++H_c_e+++.docx
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2006-07-04_US7071799B_发明授权_US07071799B2 High performance switch for switched inductor tuned RF circuit_+++F_G_H_I_J_K_l+++.docx
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2007-08-09_JP2007522769A_发明专利_JP2007522769A Programmable transceiver_+++H_J_g_i+++.docx
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2008-05-15_JP2008516511A_发明专利_JP2008516511A Array of capacitors to be switched by Mos transistor_+++G_H_I_K+++.docx
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2009-09-03_WO2009108391A_发明申请_WO2009108391A1 METHOD AND APPARATUS FOR USE IN DIGITALLY TUNING A CAPACITOR IN AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE_+++F_G_H_J_K_a_b_i+++.docx
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2010-07-29_JP2010166817A_发明专利_JP2010166817A Compensation circuit and method_+++H_g_j+++.docx
2026-03-27 11:45
JP2006238243A_Description_20260321_0234_+++h+++.docx
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2007-08-09_JP2007522769A_发明专利_JP2007522769A Programmable transceiver_+++H_J_g_i+++.docx

对比文件名称:2007-08-09_JP2007522769A_发明专利_JP2007522769A Programmable transceiver

目标专利名称:补偿封装电感的可调谐电容器电路 CN103189979B

本次调用模型名称:GPT-4

## 特征比对表格

技术特征描述以及公开性判断结果对比文件原文引用公开性论述
技术特征A:第一IC接地焊盘,其被直接连接到片上接地节点《未公开》[2]段落:“図8を参照すると、回路を、リードフレーム148などの半導体ベースに接続するのに用いられる、ボンドワイヤ150の一実施形態のブロック図が示される。 ボンドワイヤ150は、リードフレーム148上の、回路180を支持する半導体基板にプリントまたはエッチングされたボンディングパッド152に接続される(たとえばハンダ付けされる)。” <br> [2]段落:“図3を参照すると、本発明のRFICなどの半導体集積回路146は、一般的に、複数のボンドワイヤ150を用いてリードフレーム148に接続される。”对比文件公开了键合线(ボンドワイヤ)将芯片上的焊盘(ボンディングパッド)连接到引线框架(リードフレーム),这构成了IC焊盘与外部(PCB侧)的连接路径。然而,该连接在对比文件中作为构成LC谐振回路的电感元件(ボンドワイヤインダクタ)使用,其目的并非如目标专利那样,专门提供一个“直接连接到片上接地节点”的DC接地路径。目标专利的特征A旨在提供一个低阻抗的DC接地路径(DC路径326),而对比文件中键合线焊盘及其连接是作为谐振电路(LCタンク回路)的组成部分,其功能和目的与目标专利的特征A不同。因此,本领域技术人员不能毫无疑义地得出该技术特征。也未隐含公开,因为对比文件未教导或暗示该焊盘连接专门用于提供直接接地路径。
技术特征B:第二IC接地焊盘,其经由可调谐电容器电路连接到所述片上接地节点《未公开》[2]段落:“図2を参照すると、インダクタおよび可変キャパシタンスを用いるプログラム可能な共振回路132の一実施形態のブロック図が示される。 共振回路132は、ボンドワイヤ、マイクロストリップ線路またはコプレナ導波線などの伝送回路構造により形成されるであろう、インダクタ134を含む。 インダクタ134は、共振回路を他の構成要素および/または回路に接続するのに用いられる、第1のノード140と第2のノード142との間の同調可能な容量素子136と138と並列に接続される。” <br> [2]段落:“図5を参照すると、図2、図3および図4に表されるLCタンク回路の分散性の集中素子モデルを表す回路図が示される。”对比文件公开了包含可调电容(同調可能な容量素子)的LC谐振电路(共振回路132),该电路连接在节点之间。然而,目标专利的特征B明确限定了“第二IC接地焊盘”经由可调谐电容器电路连接到“片上接地节点”。在对比文件中,与可调电容连接的焊盘(通过键合线)是作为谐振电感的一部分,其本身并非被定义为专门的“接地焊盘”,且其连接目的不是为了在片上接地节点和PCB接地之间形成一条包含可调电容的RF接地路径以补偿封装电感。两者作用不同。因此,本领域技术人员不能直接或通过推理得出目标专利的特征B。
技术特征C:其中所述可调谐电容器电路的电容与封装电感在所述IC的工作频率处谐振。《未公开》[2]段落:“一実施形態によると、半導体集積回路内に製造された同調可能な共振回路は、インダクタンスと、第1の制御信号に応じて同調可能な共振回路にスイッチを入れられ、切られるように構成された複数の切り替え可能なキャパシタと、第2の制御信号に応じて変更されることができる少なくとも1つの可変キャパシタとを有する少なくとも1つの伝送回線を含み、共振回路の共振中心周波数は、複数の切り替え可能なキャパシタの第1のキャパシタンス値および少なくとも1つの可変キャパシタの第2のキャパシタンス値を制御する第1および第2の制御信号に応じて電気的に同調可能である。”对比文件确实公开了由电感(例如键合线电感)和可调电容组成的可调谐谐振电路,并且其谐振频率可通过控制信号进行调谐。然而,目标专利的特征C明确限定了谐振的目的是“与封装电感在所述IC的工作频率处谐振”。目标专利中的“封装电感”特指“来自于所述第二IC接地焊盘和所述PCB接地节点之间的连接”的寄生电感(见特征D)。而对比文件中的电感(如键合线)是作为谐振回路中有意使用的电感元件,其目的并非用于补偿焊盘到PCB接地的连接所引入的寄生电感。两者谐振的对象和目的有本质区别:目标专利是利用片上电容补偿外部封装寄生电感;对比文件是利用外部键合线电感和片上电容构成一个用于频率合成等功能的核心谐振器。因此,本领域技术人员不能从对比文件直接或隐含地得出目标专利的特征C。
技术特征D:其特征在于,印刷电路板(PCB)接地节点被连接到所述第一IC接地焊盘和所述第二IC接地焊盘,其中所述封装电感来自于所述第二IC接地焊盘和所述PCB接地节点之间的连接。《未公开》对比文件未明确记载PCB接地节点同时连接到两个IC接地焊盘,且封装电感来源于其中一个焊盘与PCB接地节点之间的连接。对比文件中描述了键合线将芯片焊盘连接到引线框架([2]段落:“ボンドワイヤ150は、リードフレーム148上の、回路180を支持する半導体基板にプリントまたはエッチングされたボンディングパッド152に接続される”),引线框架最终会安装到PCB上,但未具体描述PCB接地节点与两个焊盘的连接关系,尤其未区分一个焊盘直接连接,另一个焊盘通过可调电容连接,并明确指出封装电感来源于后者。目标专利的特征D定义了具体的PCB接地连接架构以及“封装电感”的物理来源。对比文件虽然公开了通过键合线将IC焊盘连接到外部(最终到PCB),但未公开目标专利所要求保护的这种特定双重连接架构:一个焊盘直接连PCB接地(形成DC路径),另一个焊盘也连PCB接地但其连接电感被定义为待补偿的“封装电感”。对比文件中的键合线电感是被主动用作谐振元件,而非一个需要被补偿的、影响接地性能的寄生参数。因此,该特征未被对比文件公开。
技术特征E:其特征在于,当所述可调谐电容器电路与所述封装电感谐振时,所述片上接地节点在所述集成电路的所述工作频率处的阻抗比没有所述可调谐电容器电路的情形要低。《未公开》对比文件未记载通过可调谐电容器与封装电感谐振来降低片上接地节点在工作频率处阻抗的技术效果。对比文件中LC谐振电路用于频率合成、阻抗匹配等,例如用于VCO调谐([2]段落:“この構成は、同調回路またはタンク回路における現在の最先端技術のスパイラルインダクタを排除しつつ、ギガヘルツ域でのアナログ回路について広帯域同調回路の効率的な実装を可能にする。”)或用于LNA输入匹配([2]段落:“LCタンク回路のリアクタンスは、ターゲット周波数において、トランジスタ回路のリアクタンス(ソース変成インダクタンスとトータルゲート−ソースキャパシタンスとの直列結合)をほぼ相殺するよう制御されてよい。”)。目标专利的特征E是其发明的核心效果之一:通过谐振降低片上接地阻抗。对比文件完全没有提及或暗示其LC谐振电路用于实现这一效果。对比文件中谐振电路的作用(如设定VCO频率、匹配LNA输入阻抗)与目标专利中降低片上接地阻抗的作用完全不同。因此,该技术效果未被对比文件公开。
技术特征F:其特征在于,所述可调谐电容器电路包括与开关电容器并联的固定电容器。《未公开》[2]段落:“図2に示されるように、一実施形態によると、同調回路154は2つの同調可能な容量素子136と138とを含む。 一実施形態において、図5に示されるように、第1の同調可能な容量素子136は、固定キャパシタ156(C1、C2、C3)の切り替え可能なバンクを含み、第2の容量素子138は、1以上の可変キャパシタ158aと158bとを含むであろう。” <br> [2]段落:“固定および可変キャパシタは、二重の目的、すなわち、特定の共振中心周波数(たとえば、マルチプロトコルの携帯電話規格の帯域選択に関して)の選択と、製造プロセス変動に関する補償と、を果たす。”对比文件公开了谐振电路中包含固定电容的开关组(固定キャパシタの切り替え可能なバンク)和可变电容(如变容二极管)。固定电容组用于粗调(コースチューニング),可变电容用于细调(ファインチューニング)。虽然结构上存在固定电容和可变/可切换电容,但目标专利的特征F中“与开关电容器并联的固定电容器”有其特定语境:在补偿封装电感的可调谐电容器电路中,固定电容器(C0)用于最大化谐振品质因数(Q)(见目标专利说明书[0049])。对比文件中的固定电容组是用于选择频带,目的不同。且对比文件未明确公开一个不与开关串联的“固定电容器”与多个“开关电容器”并联的特定结构。因此,本领域技术人员不能毫无疑义地得出相同的技术方案。考虑到对比文件公开了固定电容和可调电容(包含开关电容)共同构成谐振电容,有可能推理出包含并联的固定电容部分,但作用与目标专利所述不完全相同,此处从宽判断为《隐含公开》。
技术特征G:其特征在于,所述开关电容器包括与电容器串联的开关,其中所述开关进行操作以基于控制电压在可调谐电容器排中纳入或排除所述电容器的电容。《隐含公开》[2]段落:“固定キャパシタ156の切り替え可能なバンクは、制御信号144により電気的に切り換えられる、複数のMOS(金属酸化物半導体)もしくはMIM(金属−絶縁体−金属)キャパシタバンクを含むであろう(図2参照)。 共振回路132の共振周波数は、1以上のMOSキャパシタバンクのスイッチを入れ、および/または、切ることで、広範囲にわたって調整され、または同調される。” <br> [2]段落:“一実施形態において、スイッチ350および/または352は、図32に示されるように、2つのMOSトランジスタ358a、358bを用いて実装されるであろう。 デジタル信号B0およびその論理逆は、電流が流れること、もしくは電流が流れないことをそれぞれ、デジタル信号B0により提供される電圧を、MOSトランジスタの電圧閾値を越えるように制御することで、可能にするであろう。”对比文件明确公开了由控制信号(电压)控制的开关(MOS晶体管)来切换固定电容组(キャパシタバンク)的接入或断开,从而实现电容值的调整。这实质上公开了“开关电容器包括与电容器串联的开关,其中开关进行操作以基于控制电压在可调谐电容器排中纳入或排除所述电容器的电容”。尽管在对比文件中,该结构用于谐振电路的频率调谐,而在目标专利中用于补偿封装电感,但“开关电容器”这一基础构件及其操作方式是相同的。本领域技术人员可以从对比文件公开的内容中直接得出该开关电容器的技术方案。因此,该技术特征被《直接公开》。
技术特征H:其特征在于,所述开关是晶体管。《直接公开》[2]段落:“一実施形態において、スイッチ350および/または352は、図32に示されるように、2つのMOSトランジスタ358a、358bを用いて実装されるであろう。”对比文件明确记载开关由MOS晶体管(MOSトランジスタ)实现。MOS晶体管是晶体管的一种。因此,该技术特征被《直接公开》。
技术特征I:其特征在于,所述开关是n型金属氧化物半导体(NMOS)场效应晶体管。《隐含公开》[2]段落:“固定キャパシタ156の切り替え可能なバンクは、制御信号144により電気的に切り換えられる、複数のMOS(金属酸化物半導体)もしくはMIM(金属−絶縁体−金属)キャパシタバンクを含むであろう。” <br> [2]段落:“一実施形態において、スイッチ350および/または352は、図32に示されるように、2つのMOSトランジスタ358a、358bを用いて実装されるであろう。”对比文件多次提及开关使用“MOS晶体管”。在集成电路领域,特别是在CMOS工艺中,用于数字开关控制的晶体管通常为NMOS或PMOS。考虑到开关需要由电压信号控制导通,且文中未特指PMOS,本领域技术人员结合公知常识可以理解,该MOS开关有很大可能是NMOS场效应晶体管,因为NMOS在数字电路中常作为开关使用。因此,该技术特征被《隐含公开》。
技术特征J:其特征在于,所述可调谐电容器电路包括彼此并联并且与所述固定电容器并联的多个开关电容器。《直接公开》[2]段落:“第1の同調可能な容量素子136は、固定キャパシタ156(C1、C2、C3)の切り替え可能なバンクを含み” <br> 结合图5(虽未直接引用但根据描述)可推断,固定电容C1, C2, C3的开关组(バンク)意味着多个可切换的电容单元。这些电容单元通过开关控制接入电路,它们彼此之间以及与变容二极管之间是并联关系(“全て並列に接続されたインダクタンスと、第1のキャパシタンス値と、第2のキャパシタンス値とを提供すること”见[2]段落)。对比文件公开了谐振电路包含一个由多个固定电容(C1, C2, C3)构成的“可切换组”(切り替え可能なバンク),这些电容通过开关选择接入,它们共同提供可调的电容值。这实质上就是“多个开关电容器”并联的结构。尽管对比文件中这些电容被描述为“固定キャパシタ”的组,但其通过开关接入/断开的操作方式与“开关电容器”无异。并且它们与电感及其他可变电容元件是并联连接。因此,该技术特征被《直接公开》。
技术特征K:其特征在于,所述开关电容器中的所述电容器的电容根据二进制比特递增来增大。《未公开》对比文件中未记载开关电容器的电容值按照二进制权重(即1C, 2C, 4C, 8C...)递增。对比文件仅提到有多个固定电容(C1, C2, C3)可用于切换,但未说明它们之间的电容值比例关系。目标专利的特征K限定了电容值按二进制比特递增的特定缩放关系,这是实现数字式精细调谐的一种方式。对比文件没有公开或暗示这种特定的电容值比例关系。因此,该技术特征未被对比文件公开。
技术特征L:其特征在于,所述开关电容器中的所述晶体管的接通电阻根据二进制比特递增来增大。《未公开》对比文件中未记载晶体管的导通电阻(“接通电阻”)根据二进制比特递增来增大。对比文件描述了通过改变晶体管数量(如图29的LNA示例)或尺寸来调整参数,但未提及在可调谐电容器电路中,开关晶体管的尺寸或电阻随对应的电容值按二进制规律缩放。目标专利的特征L是一个具体的电路设计细节,旨在优化性能。对比文件完全没有涉及开关晶体管电阻与二进制比特递增之间的关系。因此,该技术特征未被对比文件公开。

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