对比文件名称：发明专利_JP2014183291A Shield, non-contact power transmission device, and non-contact power reception device
目标专利名称：用于屏蔽无线功率发射器的装置和方法
本次调用模型名称：DeepSeek-R1
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **技术特征B：具有限定多个槽的形状，所述多个槽从所述第一金属片的周边向内延伸** <br> **《直接公开》** | “[0007] 本発明の一態様に係るシールドは、電磁気を遮蔽可能な素材で構成され、電磁力により磁束を発生するコイルを囲むシールドであって、前記シールドを構成する面に少なくとも１つのスリットが形成された構成を採る。” <br> “[2] シールド１０は、側面１１において、複数のスリット１５が等間隔に配置されている。” | 对比文件明确公开了一种屏蔽体（シールド），其由能够电磁屏蔽的材料（如金属）构成，用于包围线圈。该屏蔽体的表面（具体为侧面11）上形成有多个狭缝（スリット）。狭缝即是槽，从屏蔽体（可视为金属片结构）的侧边（即周边）向内部延伸。这与目标专利中“第一金属片”具有“从周边向内延伸的多个槽”的技术特征完全相同。 |
| **技术特征C：以及 线圈，被配置为生成足以对负载充电或供电的磁场，** <br> **《直接公开》** | “[0008] 本発明の一態様に係る非接触送電装置は、本発明の一態様に係るシールドと、前記シールドに囲まれ、電磁誘導により磁束を発生する送電コイルと、を有する構成を採る。” <br> “[2] 非接触充電では、送電コイルおよび受電コイルを用いる” | 对比文件明确公开了非接触送电装置包含送电线圈（送電コイル）。该线圈通过电磁感应产生磁通（磁束），用于非接触充电，这必然意味着其生成的磁场足以对负载（如电动汽车的电池）充电或供电。因此，该技术特征被直接公开。 |
| **技术特征D：并且其中所述多个槽被配置为至少部分地消除经由所述磁场在所述第一金属片中生成的涡流** <br> **《直接公开》** | “[2] このようなスリット１５は、渦電流１４を電気的に遮断することにより、大きなループを作らせないようにする。 例えば、図３の渦電流１４は、スリット１５で遮断されることにより、図１Ｂの渦電流１４に比べて小さなループとなっており、流れにくくなっている。 これにより、渦電流１４による損失の発生を抑える（低減させる）ことができる。” | 对比文件明确说明了设置狭缝（槽）的目的和作用：通过“電気的に遮断”（电性阻断）涡电流，防止其形成大环路，使其难以流动，从而抑制（减少）由涡流造成的损失。这与目标专利中“多个槽被配置为至少部分地消除…涡流”的技术特征在作用和效果上完全一致。 |
| **技术特征E：所述多个槽中的第一槽和第二槽被配置为使得在所述第一槽的第一侧在第一方向上流动的涡流至少部分地被在所述第二槽的第二侧与所述第一方向相反地流动的涡流消除，其中所述第二槽的所述第二侧邻近所述第一槽的所述第一侧，** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件仅泛泛描述了槽（狭缝）能阻断涡流、使其难以形成大环路，从而减少损失。但并未具体描述或揭示目标专利说明书附图11A、11B及相应文字所阐述的特定机理：即相邻槽两侧的涡流方向相反，并因此相互抵消（消除）。目标专利的此特征限定了槽的一种特定配置及其产生的主动“消除”效应，而对比文件公开的是一般性的“阻断”以减少环路面积。本领域技术人员无法从对比文件毫无疑义地得出或必然推断出这种具体的、基于相反方向流动的主动消除配置。 |
| **技术特征F：所述第一槽和所述多个槽中的第三槽被配置为使得在所述第一槽的端部在第三方向上流动的涡流至少部分地被在所述第三槽的端部与所述第三方向相反地流动的涡流消除。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 此特征与特征E类似，限定了另一种具体的涡流消除配置，涉及槽端部涡流的相反方向抵消。对比文件完全没有涉及槽“端部”涡流的相互作用或消除机制。本领域技术人员无法从对比文件公开的内容中直接得出或合理推断出该特定技术方案。 |
| **技术特征G：进一步包括一个或多个铁氧体片。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件全文均未提及使用铁氧体（フェライト）材料或铁氧体片。其屏蔽体（シールド）由具有电磁屏蔽效果的素材（如金属）构成，辅助部件17、21也是类似材料。因此，该技术特征未被公开。 |
| **技术特征H：其中所述一个或多个铁氧体是放置在所述多个槽之上或之内的片。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 由于对比文件未公开铁氧体片（特征G），因此更不可能公开将铁氧体片放置在槽之上或之内这一具体布置方式。该技术特征未被公开。 |
| **技术特征I：进一步包括第二金属片，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第二金属片位于所述线圈的第二侧。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件中的屏蔽体（シールド10）是一个整体结构，通常包括侧面和底面，用于“囲む”（包围）线圈。它并非如目标专利所定义的、位于线圈某一侧的独立“第一金属片”和“第二金属片”的结构。本领域技术人员无法从对比文件中得出线圈两侧分别设置有独立金属片的技术方案。 |
| **技术特征J：其中所述第二金属片包括全金属片。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 由于特征I未被公开，因此作为其进一步限定的特征J自然也未被公开。对比文件中未提及“全金属片”这一概念。 |
| **技术特征K：其中所述线圈包括沿着第一平面的线圈环，其中所述多个槽与所述线圈环的至少一部分重叠并且被配置为沿着所述第一平面垂直于所述线圈环。** <br> **《未公开》** | “[2] 各スリット１５は、磁束１３に対して垂直に形成されている。” | 对比文件公开了狭缝（槽）设置为与磁通（磁束）垂直。虽然线圈产生的磁通方向可能与线圈平面有关，但该描述并未明确限定槽与“线圈环”本身的空间位置关系（如重叠），也未明确槽是“沿着所述第一平面”垂直于线圈环。目标专利的该特征限定了更具体的几何关系。本领域技术人员从“与磁通垂直”无法毫无疑义地推导出“沿着线圈平面垂直于线圈环”且“重叠”的配置。 |
| **技术特征L：进一步包括位于所述第一金属片的第一侧的电介质片。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件未提及在任何部件之间设置电介质片（誘電体シート）作为间隔物。该技术特征未被公开。 |
| **技术特征M：其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧。** <br> **《未公开》** | “[0007] ...コイルを囲むシールド...” | 对比文件描述屏蔽体“囲む”（包围）线圈。这是一种全方位的包围结构，与目标专利中“位于线圈第一侧”的片状屏蔽件的相对位置关系不同。本领域技术人员无法从“包围”直接且毫无疑义地得出“位于一侧”的布置。 |
| **技术特征N：进一步包括第三金属片，所述第三金属片包括多个槽，所述多个槽从所述第三金属片的周边延伸，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第三金属片位于所述线圈的第二侧。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件仅公开了一个具有槽的屏蔽体结构。完全没有提及在线圈两侧设置两个独立的、均具有槽的金属片（第三金属片）。该技术特征未被公开。 |
| **技术特征O：其中所述第一金属片被配置为将所述线圈从位于所述线圈的充电区域内的金属或外来物体或表面屏蔽。** <br> **《未公开》** | “[2] シールド１０は、電磁気遮蔽効果のある素材（例えば、金属）で構成される。” <br> “[0007] ...電磁気を遮蔽可能な素材で構成され...” | 对比文件公开了屏蔽体由电磁屏蔽材料构成，用于屏蔽线圈（防止不必要的辐射）。但其说明书中解决的问题是“コイルからの不要輻射”（来自线圈的不必要辐射）以及屏蔽体自身因涡流导致的发热和效率下降。并未明确提及将线圈从“充电区域内的金属或外来物体或表面”屏蔽，即目标专利所要解决的外部金属物体影响问题。两者屏蔽的目的和对象存在差异，本领域技术人员不能直接等同。 |
| **技术特征P：进一步包括谐振电路，所述谐振电路包括所述线圈。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件公开了线圈用于非接触电力传输，但并未明确描述该线圈是谐振电路的一部分。虽然无线电力传输中常用谐振电路，但并非必然。本领域技术人员无法从对比文件毫无疑义地得出其必定包含谐振电路。 |
| **技术特征Q：其中所述多个槽从所述第一金属片的相对侧水平地向内延伸，并且其中来自所述第一金属片的相对侧的槽对在所述第一金属片的中央区域内竖直地重叠。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件附图所示的所有狭缝（槽）均为在单个侧面（面）上的直线开口，未描绘出从相对侧水平延伸并在中央区域竖直重叠的图案。该技术特征限定了槽的一种特定排布方式，未被对比文件公开。 |
| **技术特征R：其中所述多个槽跨所述第一金属片对角地延伸。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件附图所示的所有狭缝（槽）均为垂直或水平方向，没有显示对角线延伸的槽。该技术特征未被公开。 |
| **技术特征S：其中所述多个槽包括定向在所述第一方向上的第一组槽和定向在第二方向上的第二组槽，所述第二方向垂直于所述第一方向，所述第一组槽包括所述第一槽和所述第二槽。** <br> **《未公开》** | 无对应原文。 | 对比文件公开的多个狭缝（例如图3、4A、5B等）通常是同一方向（如垂直方向）平行排列的。未公开包含彼此垂直的两组不同方向槽的图案。该技术特征未被公开。 |
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