2008-08-07_None_发明专利_JPWO2006093011A1 発光装置_+++A_C_D_E_F_L_b_h_k_o+++.docx

**对比文件名称**:2008-08-07_None_发明专利_JPWO2006093011A1 発光装置

**目标专利名称**:1275具有成形的波长转换器的发光装置 CN101569020B

**本次调用的模型名称**:本分析使用的通用AI语言模型

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译为中文)公开性论述
技术特征A:发光装置包括半导体发光器件(220,320,420)<br>《直接公开》[0001]:“本发明涉及一种发光装置,其将从发光二极管照射的光由陶瓷荧光体进行波长转换并释放到外部。”<br>[0012]:“本发明所涉及的发光装置,具备半导体发光元件和将来自该半导体发光元件的发光进行波长转换的透明陶瓷荧光体。”对比文件明确记载了发光装置包括半导体发光元件(即半导体发光器件),且该器件是发光装置的必要组成部分。因此,本领域技术人员能够毫无疑义地确定该特征已被直接公开。
技术特征B:所述半导体发光器件包括设置在n-型区和p-型区之间的发光层(221,321,421)<br>《隐含公开》[0001]:“发光二极管”<br>[0012]:“半导体发光元件”对比文件虽未明确提及n-型区、p-型区及发光层的具体结构,但本领域技术人员公知,发光二极管(LED)的半导体发光元件必然包含p-n结以及位于其间的发光层(有源层)。因此,从对比文件公开的“半导体发光元件”可以合理推断出该特征,故认为隐含公开。
技术特征C:透明陶瓷体(230,330,430)<br>《直接公开》[0012]:“透明陶瓷荧光体”<br>[0019]:“透明陶瓷荧光体”<br>[0028]:“透明度高的陶瓷荧光体”对比文件明确使用了“透明陶瓷荧光体”这一术语,且多次强调其透明性。该特征与目标专利的“透明陶瓷体”完全对应,直接公开。
技术特征D:所述透明陶瓷体包括定位成与所述半导体发光器件成光接收关系的波长转换材料<br>《直接公开》[0012]:“具备…透明陶瓷荧光体…该透明陶瓷荧光体将来自该半导体发光元件的发光进行波长转换”<br>[0045]:“半导体发光元件放射的光透过陶瓷荧光体时被波长转换”对比文件明确记载透明陶瓷荧光体用于接收半导体发光元件的光并进行波长转换,即两者处于光接收关系。该特征直接公开。
技术特征E:所述陶瓷体还具有面朝所述半导体发光器件的底面(231,331,431)<br>《直接公开》[0045]:“固定在半导体发光元件的上面侧的陶瓷荧光体”(结合图1,陶瓷荧光体具有朝向元件的底面)<br>[0067]:“在配置了LED元件的树脂基板顶部安装半球状或炮弹状的陶瓷荧光体”(结合图2、3,底面朝向元件)对比文件的所有实施例中,陶瓷荧光体均有一个面朝向半导体发光元件(如底面与元件接触或相对),该面即为底面。直接公开。
技术特征F:所述陶瓷体具有与所述底面成斜角(234,334,434)的至少一个侧面(233,333,433)<br>《直接公开》[0038]:“如图3所示,所述陶瓷荧光体11b形成为前端方向缩径的炮弹形状。”<br>炮弹形状必然具有与底面成斜角的侧面。对比文件明确公开了炮弹形状(锥形)的陶瓷荧光体,其侧面相对于底面是倾斜的(即与底面成斜角)。该特征直接公开。
技术特征G:所述斜角大于95°或者小于85°<br>《未公开》对比文件未记载任何具体角度数值。对比文件虽公开了斜侧面,但未给出任何关于斜角范围(如大于95°或小于85°)的教导或暗示,本领域技术人员无法从中直接或合理推断出该特定角度范围。故未公开。
技术特征H:所述陶瓷体的至少一个斜侧面具有反射性涂层(452)<br>《隐含公开》[0039]:“优选所述陶瓷荧光体的外表面以外的部分被反射材料覆盖。反射材料优选厚度为几微米的铝(Al)或银(Ag)薄膜。这样,通过在陶瓷荧光体的外表面以外的侧面部等形成反射材料,可以有效地将散射光反射到原本的照射方向,提高装置整体的发光强度。”对比文件公开了在陶瓷荧光体的“侧面部”(即侧面)设置反射材料。结合技术特征F中炮弹形状的斜侧面,本领域技术人员能够合理推断出该斜侧面可以具有反射涂层,从而实现与目标专利相同的功能(提高光输出)。因此隐含公开。
技术特征I:所述斜角大于100°或者小于80°<br>《未公开》对比文件未记载任何具体角度数值。与特征G类似,对比文件未公开任何关于斜角的具体范围,更未提及大于100°或小于80°的优选范围。故未公开。
技术特征J:在所述陶瓷体和反射性涂层之间容纳有折射率低于所述陶瓷体的折射率的中间层(451)<br>《未公开》对比文件未提及任何关于中间层或折射率匹配的结构。对比文件仅提到反射涂层直接覆盖在侧面部,未教导在陶瓷体和反射涂层之间设置任何中间层,更未提及折射率差异。故未公开。
技术特征K:所述陶瓷体具有设置有微褶皱的顶面(232,332,432)<br>《隐含公开》[0020]:“优选所述陶瓷荧光体的至少一部分表面的平均表面粗糙度以算术平均粗糙度Ra计为0.5~150μm。”<br>[0023]:“优选所述陶瓷荧光体的至少一部分表面形成有最大高度为0.15~2mm的突起。”对比文件公开了陶瓷荧光体表面可具有特定粗糙度(Ra 0.5~150μm)或突起(0.15~2mm),这些结构在功能上等同于目标专利的“微褶皱”(均用于减少全反射、提高光提取)。虽然术语不同,但本领域技术人员可以合理认为微褶皱属于表面粗糙度的一种实现方式,因此隐含公开。
技术特征L:所述陶瓷体具有提供来包括光学功能的顶面(232,332,432)<br>《直接公开》[0038]:“陶瓷荧光体11b形成为前端方向缩径的炮弹形状…发光从陶瓷荧光体与外部气氛的界面朝中心方向折射而释放,从而发挥所谓的透镜效果,提高正面方向的辐射强度。”<br>[0067]:“如图2所示,半球状的陶瓷荧光体11a也具有透镜效果。”对比文件明确公开了炮弹状和半球状陶瓷荧光体,其顶面(或整体形状)被设计成具有透镜功能(光学功能)。该特征直接公开。
技术特征M:所述陶瓷体具有提供有反射性涂层(452)的顶面<br>《未公开》[0039]:“陶瓷荧光体的外表面以外的部分被反射材料覆盖。”对比文件明确将反射材料限定在“外表面以外”的部分,即顶面属于外表面,不会被反射涂层覆盖。因此对比文件公开了相反教导,未公开该特征。
技术特征N:在所述陶瓷体和反射性涂层之间容纳有折射率低于所述陶瓷体的折射率的中间层(451)<br>《未公开》对比文件未提及任何关于中间层或折射率匹配的结构。与特征J类似,对比文件无相关教导,未公开。
技术特征O:在所述底面和半导体发光器件之间容纳有折射率低于所述陶瓷体的折射率的中间层(451)<br>《隐含公开》[0044]:“用薄薄的环氧树脂粘合剂将圆板状陶瓷荧光体粘合在封装容器底面的中心。”<br>[0052]:“用薄薄的硅树脂粘合剂粘合。”对比文件明确使用了粘合剂(环氧树脂、硅树脂)将陶瓷荧光体固定在半导体发光元件上,该粘合剂层位于底面和半导体器件之间。本领域技术人员公知,此类粘合剂的折射率通常低于陶瓷荧光体(如YAG约1.8,树脂约1.5),因此可以合理推断其满足折射率低于陶瓷体的条件。故隐含公开。

### 公开性代码输出

根据上述判断,输出以下代码(大写字母表示直接公开,小写字母表示隐含公开,未公开的特征不输出):

<<<A>>><<<C>>><<<D>>><<<E>>><<<F>>><<<L>>><<<b>>><<<h>>><<<k>>><<<o>>>

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